一種真空滅弧室及其電極和杯狀橫磁觸頭結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種真空滅弧室及其電極和杯狀橫磁觸頭結(jié)構(gòu)，其中真空滅弧室包括絕緣外殼和動(dòng)、靜電極，動(dòng)電極包括動(dòng)導(dǎo)電桿和固定設(shè)置在其上的杯狀橫磁觸頭，靜電極包括靜導(dǎo)電桿和固定設(shè)置在其上是杯狀橫磁觸頭，杯狀橫磁觸頭包括橫磁觸頭杯和固定在橫磁觸頭杯口沿上的環(huán)形觸頭片，所述橫磁觸頭杯的周壁上沿周向均布有四個(gè)斜槽，橫磁觸頭杯內(nèi)設(shè)置有觸頭片支撐件。本實(shí)用新型減少了機(jī)械加工時(shí)間，提高了觸頭的機(jī)械強(qiáng)度和額定通流能力，降低了導(dǎo)電回路的電阻。
【專利說明】一種真空滅弧室及其電極和杯狀橫磁觸頭結(jié)構(gòu)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種真空滅弧室。

【背景技術(shù)】
[0002]真空滅弧室是真空開關(guān)的核心部件，其主要包括絕緣外殼、導(dǎo)電回路和屏蔽系統(tǒng)等部分，其中，導(dǎo)電回路由動(dòng)、靜電極組成，動(dòng)、靜電極由相應(yīng)的導(dǎo)電桿和固定設(shè)置在導(dǎo)電桿上的觸頭構(gòu)成。由于觸頭是產(chǎn)生電弧和熄滅電弧的部位，所以觸頭的結(jié)構(gòu)對滅弧室開斷電流的能力有很大的影響，現(xiàn)有的開斷電流31.5kA及以下的真空開關(guān)廣泛采用杯狀橫磁觸頭，該觸頭主要由橫磁觸頭杯、觸頭片和位于觸頭杯中對觸頭片進(jìn)行支撐的支撐盤組成，觸頭片的材料為銅鉻合金，觸頭杯的材料為無氧銅，支撐盤的材料為導(dǎo)電率很低的不銹鋼，觸頭片為圓環(huán)形結(jié)構(gòu)焊接在觸頭杯的杯口沿端面上，觸頭杯的周壁上間隔均布有呈一定角度的斜槽，斜槽將觸頭杯周壁分割成若干匝，匝數(shù)與斜槽數(shù)量相等，匝數(shù)的多少對觸頭杯的成本、機(jī)械強(qiáng)度和斜槽的傾角及旋轉(zhuǎn)包角都有很大的影響，而斜槽的傾角和旋轉(zhuǎn)包角又對磁場起著決定作用。目前杯狀橫磁觸頭一般使用8-16匝結(jié)構(gòu)，該觸頭存在機(jī)械加工時(shí)間長、導(dǎo)電回路電阻比較大和機(jī)械強(qiáng)度較低等缺陷。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型的目的是提供一種機(jī)械加工時(shí)間短、導(dǎo)電回路電阻小和機(jī)械強(qiáng)度高的真空滅弧室杯狀橫磁觸頭結(jié)構(gòu)。本實(shí)用新型同時(shí)提供使用該觸頭結(jié)構(gòu)的真空滅弧室電極和真空滅弧室。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的一種真空滅弧室杯狀橫磁觸頭結(jié)構(gòu)采用如下技術(shù)方案:一種真空滅弧室杯狀橫磁觸頭結(jié)構(gòu)，包括橫磁觸頭杯和固定在橫磁觸頭杯口沿上的環(huán)形觸頭片，所述橫磁觸頭杯的周壁上沿周向均布有四個(gè)斜槽，橫磁觸頭杯內(nèi)設(shè)置有觸頭片支撐件。
[0005]所述支撐件為支撐套體，支撐套體的外徑與橫磁觸頭杯內(nèi)徑相適配。
[0006]所述支撐套體與橫磁觸頭杯之間為間隙配合。
[0007]本實(shí)用新型的一種真空滅弧室電極采用如下技術(shù)方案:一種真空滅弧室電極，包括導(dǎo)電桿和固定設(shè)置在導(dǎo)電桿上的杯狀橫磁觸頭，橫磁觸頭包括橫磁觸頭杯和固定在橫磁觸頭杯口沿上的環(huán)形觸頭片，所述橫磁觸頭杯的周壁上沿周向均布有四個(gè)斜槽，橫磁觸頭杯內(nèi)設(shè)置有觸頭片支撐件。
[0008]所述支撐件為支撐套體，支撐套體的外徑與橫磁觸頭杯內(nèi)徑相適配。
[0009]所述橫磁觸頭杯與導(dǎo)電桿為一體結(jié)構(gòu)。
[0010]所述支撐套體與橫磁觸頭杯之間為間隙配合。
[0011]本實(shí)用新型的一種真空滅弧室采用如下技術(shù)方案:一種真空滅弧室，包括絕緣外殼和動(dòng)、靜電極，動(dòng)電極包括動(dòng)導(dǎo)電桿和固定設(shè)置在其上的杯狀橫磁觸頭，靜電極包括靜導(dǎo)電桿和固定設(shè)置在其上是杯狀橫磁觸頭，杯狀橫磁觸頭包括橫磁觸頭杯和固定在橫磁觸頭杯口沿上的環(huán)形觸頭片，所述橫磁觸頭杯的周壁上沿周向均布有四個(gè)斜槽，橫磁觸頭杯內(nèi)設(shè)置有觸頭片支撐件。
[0012]所述支撐件為支撐套體，支撐套體的外徑與橫磁觸頭杯內(nèi)徑相適配。
[0013]所述橫磁觸頭杯與導(dǎo)電桿為一體結(jié)構(gòu)。
[0014]本實(shí)用新型在橫磁觸頭杯上開設(shè)四個(gè)斜槽，將觸頭杯杯身周壁分割成四匝結(jié)構(gòu)，在不增加觸頭直徑和滅弧室體積的前提下，四匝結(jié)構(gòu)一方面減少了機(jī)械加工時(shí)間，提高了觸頭的機(jī)械強(qiáng)度，另一方面增加了導(dǎo)電面積，降低了導(dǎo)電回路的電阻，提高了杯狀橫磁觸頭的額定通流能力，第三方面，由于開槽較少，增加了電流的徑向分量，提高了觸頭間的磁場強(qiáng)度，從而提高了真空滅弧室開斷電流的能力。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]圖1是本實(shí)用新型真空滅弧室一種實(shí)施例中導(dǎo)電回路部分的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0016]圖2是圖1中支撐套體的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]圖3是圖1中橫磁觸頭杯的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖4是圖1中觸頭片的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0019]本實(shí)用新型的真空滅弧室實(shí)施例:其主要包括絕緣外殼、導(dǎo)電回路和屏蔽系統(tǒng),它們之間的裝配關(guān)系與現(xiàn)有技術(shù)相同，其中，導(dǎo)電回路包括動(dòng)、靜電極，兩電極的結(jié)構(gòu)如圖1-4所示，動(dòng)電極由動(dòng)導(dǎo)電桿2和固定設(shè)置在動(dòng)導(dǎo)電桿上的杯狀橫磁觸頭4組成，靜電極由靜導(dǎo)電桿I和固定設(shè)置在靜導(dǎo)電桿上的杯狀橫磁觸頭3組成，兩杯狀橫磁觸頭的主體結(jié)構(gòu)相同。
[0020]本實(shí)施例中，杯狀橫磁觸頭包括橫磁觸頭杯和焊接固定在橫磁觸頭杯口沿端面上的環(huán)形觸頭片5，橫磁觸頭杯內(nèi)設(shè)置有用于支撐觸頭片的支撐件6，該支撐件采用支撐套體結(jié)構(gòu)，并且支撐套體的外徑與橫磁觸頭杯內(nèi)徑相適配，保證支撐套體能夠順利地裝配到橫磁觸頭杯中，本實(shí)施例中支撐套體與橫磁觸頭杯之間為間隙配合，從而能夠起到更好地支撐效果，軸向?qū)τ|頭片起到支撐作用，徑向?qū)M磁觸頭杯的指環(huán)起到定位支撐作用，防止觸頭杯變形；所述橫磁觸頭杯的周壁上沿周向均布有四個(gè)由杯身周壁根部傾斜向上延伸至杯口沿端面上的斜槽7，四個(gè)斜槽將杯身周壁分割成四匝結(jié)構(gòu)，當(dāng)導(dǎo)電回路接通時(shí)，電流通過導(dǎo)電桿進(jìn)入橫磁觸頭，電流由一個(gè)橫磁觸頭的四個(gè)指環(huán)經(jīng)觸頭片流入另一個(gè)橫磁觸頭的四個(gè)指環(huán)；當(dāng)兩觸頭分離時(shí)，兩觸頭之間產(chǎn)生橫磁場，電弧在洛倫茲力的作用下沿觸頭片5做旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。本實(shí)施例中，兩橫磁觸頭杯均與對應(yīng)的導(dǎo)電桿制成一體結(jié)構(gòu)，即將導(dǎo)電桿的一端直接加工成橫磁觸頭杯結(jié)構(gòu)。
[0021]本實(shí)用新型的真空滅弧室電極的實(shí)施例與上述真空滅弧室實(shí)施例中的動(dòng)電極或者靜電極結(jié)構(gòu)相同，此處不再重述。
[0022]本實(shí)用新型的真空滅弧室杯狀橫磁觸頭結(jié)構(gòu)的實(shí)施例與上述真空滅弧室實(shí)施例中的杯狀橫磁觸頭的結(jié)構(gòu)相同，此處不再重述。
[0023]上述各實(shí)施例中，橫磁觸頭杯以及觸頭片5、支撐件6的材質(zhì)與現(xiàn)有技術(shù)中相同。支撐件6的環(huán)體結(jié)構(gòu)可以采用現(xiàn)有技術(shù)中的支撐盤替代。另外，橫磁觸頭杯與導(dǎo)電桿還可以采用分別獨(dú)立制作后再通過焊接固定在一起的結(jié)構(gòu)。
【權(quán)利要求】
1.一種真空滅弧室杯狀橫磁觸頭結(jié)構(gòu)，包括橫磁觸頭杯和固定在橫磁觸頭杯口沿上的環(huán)形觸頭片，其特征在于:所述橫磁觸頭杯的周壁上沿周向均布有四個(gè)斜槽，橫磁觸頭杯內(nèi)設(shè)置有觸頭片支撐件，所述支撐件為支撐套體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧室杯狀橫磁觸頭結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述支撐套體的外徑與橫磁觸頭杯內(nèi)徑相適配。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空滅弧室杯狀橫磁觸頭結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述支撐套體與橫磁觸頭杯之間為間隙配合。
4.一種真空滅弧室電極，包括導(dǎo)電桿和固定設(shè)置在導(dǎo)電桿上的杯狀橫磁觸頭，橫磁觸頭包括橫磁觸頭杯和固定在橫磁觸頭杯口沿上的環(huán)形觸頭片，其特征在于:所述橫磁觸頭杯的周壁上沿周向均布有四個(gè)斜槽，橫磁觸頭杯內(nèi)設(shè)置有觸頭片支撐件，所述橫磁觸頭杯與導(dǎo)電桿為一體結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空滅弧室電極，其特征在于:所述支撐件為支撐套體，支撐套體的外徑與橫磁觸頭杯內(nèi)徑相適配。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空滅弧室電極，其特征在于:所述支撐套體與橫磁觸頭杯之間為間隙配合。
7.一種真空滅弧室，包括絕緣外殼和動(dòng)、靜電極，動(dòng)電極包括動(dòng)導(dǎo)電桿和固定設(shè)置在其上的杯狀橫磁觸頭，靜電極包括靜導(dǎo)電桿和固定設(shè)置在其上是杯狀橫磁觸頭，杯狀橫磁觸頭包括橫磁觸頭杯和固定在橫磁觸頭杯口沿上的環(huán)形觸頭片，其特征在于:所述橫磁觸頭杯的周壁上沿周向均布有四個(gè)斜槽，橫磁觸頭杯內(nèi)設(shè)置有觸頭片支撐件，所述橫磁觸頭杯與導(dǎo)電桿為一體結(jié)構(gòu)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的真空滅弧室，其特征在于:所述支撐件為支撐套體，支撐套體的外徑與橫磁觸頭杯內(nèi)徑相適配。
【文檔編號(hào)】H01H33/664GK203931926SQ201420042721
【公開日】2014年11月5日 申請日期:2014年1月23日 優(yōu)先權(quán)日:2014年1月23日
【發(fā)明者】張國躍, 李文藝, 王曉琴, 李敏, 楊蘭索, 舒小平, 孫淑萍 申請人:天津平高智能電氣有限公司