基板處理系統(tǒng)及基板處理方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及處理基板，更詳細(xì)地說(shuō)涉及包括一個(gè)以上搬送模塊及一個(gè)以上的工序模塊，執(zhí)行基板處理的基板處理系統(tǒng)及利用此的基板處理方法。本發(fā)明公開(kāi)了基板處理系統(tǒng)，作為基板與以一方向移送的生產(chǎn)線連接以執(zhí)行基板處理的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，包括：多個(gè)搬送模塊，按順序配置包括與所述生產(chǎn)線連接的第1搬送模塊；一個(gè)以上的工序模塊，在所述多個(gè)搬送模塊中至少連接一個(gè)，執(zhí)行基板處理；多個(gè)緩沖模塊，相互連接所述多個(gè)搬送模塊之間。所述多個(gè)搬送模塊及所述多個(gè)緩沖模塊，接收從所述生產(chǎn)線傳達(dá)的基板，執(zhí)行基板處理后，為了使完成基板處理的基板返回至所述生產(chǎn)線，以構(gòu)成的單一閉合曲線的線路進(jìn)行配置。
【專利說(shuō)明】基板處理系統(tǒng)及基板處理方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及基板處理，更詳細(xì)地說(shuō)涉及包括一個(gè)以上搬送模塊及一個(gè)以上的工序模塊，執(zhí)行基板處理的基板處理系統(tǒng)及利用此的基板處理方法。

【背景技術(shù)】
[0002]基板處理系統(tǒng)是指，在半導(dǎo)體、用于LCD面板的基板、OLED基板、太陽(yáng)電子基板等基板的基板的處理面，執(zhí)行沉積、蝕刻等規(guī)定的基板處理的系統(tǒng)。
[0003]還有，一般地說(shuō)基板處理系統(tǒng)的構(gòu)成，包括:一個(gè)以上的工序模塊，為了執(zhí)行基板處理；搬送模塊，向工序模塊內(nèi)導(dǎo)入基板或提取基板。在一個(gè)搬送模塊，具有:集群(cluster)類型,結(jié)合多個(gè)工序模塊；與直線(in-line)類型,按順序結(jié)合裝載鎖定模塊、工序模塊及卸載鎖定模塊。
[0004]另一方面，基板處理系統(tǒng)與以單一的工序構(gòu)成相比，根據(jù)生產(chǎn)線移送基板的同時(shí)按順序構(gòu)成多個(gè)工序，且正在頻繁的進(jìn)行根據(jù)基板的大型化、導(dǎo)入新技術(shù)的一部產(chǎn)線的變更(工序變更)、工序增加等。
[0005]尤其是，變更工序或追加工序時(shí)，應(yīng)變更已設(shè)置的生產(chǎn)線或設(shè)置新的生產(chǎn)線。
[0006]但是，與新規(guī)生產(chǎn)線的設(shè)置不同，在現(xiàn)有的生產(chǎn)線要追加設(shè)置工序系統(tǒng)的情況，在已設(shè)置的生產(chǎn)線的周邊設(shè)置多個(gè)柱等，在追加設(shè)置工序系統(tǒng)上存在受到各種制約的問(wèn)題。
[0007]尤其是，已設(shè)置生產(chǎn)線的情況，根據(jù)優(yōu)選的設(shè)置在工廠內(nèi)，因此追加設(shè)置工序系統(tǒng)時(shí)，柱子的存在與鄰接的生產(chǎn)線干涉問(wèn)題等，存在制約空間的問(wèn)題。
[0008]另外，根據(jù)工序種類，為了反復(fù)執(zhí)行熱處理后的再沉積等一系列的工序，基板處理系統(tǒng)構(gòu)成直線構(gòu)造的情況，根據(jù)固定基板移送方向，以一系列工序的反復(fù)次數(shù)設(shè)置裝置，當(dāng)然存在增加設(shè)置系統(tǒng)費(fèi)用的問(wèn)題，還存在增加為了執(zhí)行基板處理的設(shè)置空間的問(wèn)題。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0009](要解決的課題)
[0010]為了解決如上所述的問(wèn)題，本發(fā)明提供基板處理系統(tǒng)及基板處理方法的目的在于，具有構(gòu)成系統(tǒng)的模塊與基板以一方向移送的生產(chǎn)線連接，接收從生產(chǎn)線傳達(dá)的基板，執(zhí)行基板處理后，重新將基板傳達(dá)至生產(chǎn)線構(gòu)成單一閉合曲線的線路配置，進(jìn)而可解決為了設(shè)置系統(tǒng)的空間性制約。
[0011]另外，本發(fā)明提供基板處理系統(tǒng)及基板處理方法的其他目的在于，在具有構(gòu)成系統(tǒng)的模塊與基板以一方向移送的生產(chǎn)線連接，接收從生產(chǎn)線傳達(dá)的基板，執(zhí)行基板處理后，重新將基板傳達(dá)至生產(chǎn)線以構(gòu)成單一閉合曲線的線路配置基板處理系統(tǒng)，根據(jù)執(zhí)行工序的特性，可運(yùn)營(yíng)多樣形態(tài)的基板移送，因此可進(jìn)行多樣的基板處理。
[0012](課題的解決方法)
[0013]本發(fā)明作為為達(dá)成如上所述的本發(fā)明的目的所提出，本發(fā)明公開(kāi)了基板處理系統(tǒng)，作為基板與以一方向移送的生產(chǎn)線連接，以執(zhí)行基板處理的基板處理系統(tǒng)的特征在于，包括:多個(gè)搬送模塊，按順序配置，包括與所述生產(chǎn)線連接的第I搬送模塊；一個(gè)以上的工序模塊，至少連接在所述多個(gè)搬送模塊中的一個(gè)，執(zhí)行基板處理；多個(gè)緩沖模塊，相互連接所述多個(gè)搬送模塊之間。所述多個(gè)搬送模塊及所述多個(gè)緩沖模塊，接收從所述生產(chǎn)線傳達(dá)的基板，執(zhí)行基板處理后，為了使完成基板處理的基板返回至所述生產(chǎn)線，以構(gòu)成單一閉合曲線的線路進(jìn)行配置。
[0014]還包括基板交換模塊，設(shè)置在所述生產(chǎn)線與所述第I搬送模塊之間，進(jìn)行與所述生產(chǎn)線的基板交換，及與所述第I搬送模塊的基板交換。
[0015]所述基板交換模塊，可包括:盒(cassette)部，基板形成層次積載多個(gè)；上下移動(dòng)部，使所述盒部上下移動(dòng)。
[0016]所述基板交換模塊，可追加設(shè)置基板排序部，排序積載的基板的水平位置。
[0017]所述搬送模塊，可包括搬送機(jī)器人，包括:基板安裝部，安裝基板；線形移動(dòng)部，使基板安裝部線形移動(dòng)；與旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部，使所述線形移動(dòng)部旋轉(zhuǎn)。
[0018]所述多個(gè)搬送模塊，包括:所述第I搬送模塊及按順序配置的第2搬送模塊、第3搬送模塊、第4搬送模塊及第5搬送模塊。所述多個(gè)緩沖模塊，可包括:第I緩沖模塊，連接所述第I搬送模塊及所述第2搬送模塊；第2緩沖模塊，連接所述第2搬送模塊及所述第3搬送模塊；第3緩沖模塊，連接所述第3搬送模塊及所述第4搬送模塊；第4緩沖模塊，連接所述第4搬送模塊及所述第5搬送模塊；第5緩沖模塊，連接所述第5搬送模塊及所述第I搬送模塊。
[0019]所述第2至第5搬送模塊中至少任意一個(gè)，可結(jié)合執(zhí)行基板處理的一個(gè)以上的工序模塊。
[0020]所述第I至第5緩沖模塊中的一部分，可以是第I翻轉(zhuǎn)模塊，翻轉(zhuǎn)使基板處理面向下側(cè)；與第2翻轉(zhuǎn)模塊，使其與所述第I翻轉(zhuǎn)模塊跟進(jìn)的進(jìn)行配置，根據(jù)所述翻轉(zhuǎn)模塊，使基板處理面向下側(cè)翻轉(zhuǎn)的基板面向上側(cè)再反轉(zhuǎn)。
[0021]所述地I翻轉(zhuǎn)模塊可以是所述第I緩沖模塊，所述第2翻轉(zhuǎn)模塊可以是所述第3緩沖模塊。
[0022]所述第3搬送模塊，結(jié)合一個(gè)以上的工序模塊，并且在所述第3搬送模塊設(shè)置的第3搬送機(jī)器人，從所述第2翻轉(zhuǎn)模塊提取基板傳達(dá)至所述工序模塊，并且可將從所述工序模塊基板處理的基板傳達(dá)至所述第2翻轉(zhuǎn)模塊。
[0023]從所述第I搬送模塊至所述第2至第3搬送模塊中的任意一個(gè)維持第I壓力，并且剩余搬送模塊維持與所述第I壓力不同的第2壓力，并且連接維持所述第I壓力的搬送模塊，及維持所述第2壓力的搬送模塊的緩沖模塊，可在第I壓力及第2壓力之間進(jìn)行壓力變換。
[0024]所述第I搬送模塊及與其按順序配置的一個(gè)以上的搬送模塊維持第I壓力，剩余搬送模塊維持與所述第I壓力不同的第2壓力，并且連接維持所述第I壓力的搬送模塊及維持所述第2壓力的搬送模塊的緩沖模塊，可在第I壓力及第2壓力之間進(jìn)行壓力變換。
[0025]所述緩沖模塊的至少一部分，腔室與所述搬送模塊結(jié)合的水平結(jié)合方向，對(duì)根據(jù)所述搬送模塊的搬送機(jī)器人的基板線路移送路徑形成傾斜，可與所述搬送模塊結(jié)合。
[0026]所述多個(gè)緩沖模塊中的一部分，可以是基板水平旋轉(zhuǎn)模塊，以導(dǎo)入基板時(shí)為基準(zhǔn)，為了使其后端面向其他搬送模塊導(dǎo)入，使基板水平旋轉(zhuǎn)。
[0027]另外，本發(fā)明作為利用具有如上所述構(gòu)成的基板處理系統(tǒng)的基板處理方法，公開(kāi)了基板處理方法，其特征在于，根據(jù)以單一閉合曲線線路配置所述多個(gè)搬送模塊及所述多個(gè)緩沖模塊，基板至少以順時(shí)針?lè)较蚣澳鏁r(shí)針?lè)较蛑械囊环N方向移送。
[0028]另外，本發(fā)明作為利用具有如上所述構(gòu)成的基板處理系統(tǒng)的基板處理方法，公開(kāi)了基板處理方法，其特征在于，根據(jù)以單一閉合曲線在線配置所述多個(gè)搬送模塊及所述多個(gè)緩沖模塊，在基板以順時(shí)針?lè)较蛞扑偷牡贗基板處理及基板以逆時(shí)針?lè)较蛞扑偷牡?基板處理中，選擇性的執(zhí)行任意一種或執(zhí)行全部。
[0029]另外，本發(fā)明作為利用具有如上所述構(gòu)成的基板處理系統(tǒng)的基板處理方法，公開(kāi)了基板處理方法，其特征在于，根據(jù)以單一閉合曲線線路配置所述多個(gè)搬送模塊及所述多個(gè)緩沖模塊，至少以順時(shí)針?lè)较蚣澳鏁r(shí)針?lè)较蛑械囊环N方向移送基板。
[0030]以所述第I搬送模塊為起點(diǎn)，經(jīng)過(guò)所述單一閉合曲線線路配置，可一次或多次反復(fù)基板重新到達(dá)第I搬送模塊的周期。
[0031]包括相同或類似的第I工序，及在所述第I工序間執(zhí)行的一個(gè)以上的第2工序，并且按順序配置，執(zhí)行所述第I工序的一個(gè)以上的第I工序模塊結(jié)合的第I工序搬送模塊，及執(zhí)行所述第2工序的一個(gè)以上的第2工序模塊結(jié)合的第2工序搬送模塊，并且在所述第I工序模塊執(zhí)行所述第I工序，將執(zhí)行所述第I工序的基板，經(jīng)過(guò)所述第I工序搬送模塊及所述第2工序搬送模塊，傳達(dá)至所述第2工序模塊執(zhí)行所述第2工序，將完成所述第2工序的基板，經(jīng)過(guò)所述第2工序搬送模塊及所述第I工序搬送模塊，傳達(dá)至所述第I工序模塊可執(zhí)行所述第I工序。
[0032]按順序執(zhí)行第I工序、第2工序及第3工序，并且按順序配置，分別執(zhí)行所述第I工序及所述第3工序的第I工序模塊，及結(jié)合第3工序模塊的第I工序搬送模塊，及執(zhí)行所述第2工序的一個(gè)以上的第2工序模塊結(jié)合的第2工序搬送模塊，并且在所述第I工序模塊執(zhí)行所述第I工序，將執(zhí)行所述第I工序的基板，經(jīng)過(guò)所述第I工序搬送模塊及所述第2工序搬送模塊，傳達(dá)至所述第2工序模塊執(zhí)行所述第2工序，將完成所述第2工序的基板，經(jīng)過(guò)所述第2工序搬送模塊及所述第I工序搬送模塊，傳達(dá)至所述第3工序模塊，可執(zhí)行所述第3工序。
[0033]在第I壓力下執(zhí)行所述第I工序及所述第3工序，并且在與所述第I壓力不同的第2壓力下可執(zhí)行所述第2工序。
[0034]所述第I壓力為真空壓，并且所述第2壓力可以是大氣壓。
[0035]所述第I至第3工序可執(zhí)行2次以上。
[0036]所述第I工序及第3工序可以是沉積工序。
[0037](發(fā)明的效果)
[0038]根據(jù)本發(fā)明的基板處理系統(tǒng)及基板處理方法，具有構(gòu)成系統(tǒng)的模塊，尤其是搬送模塊及緩沖模塊，與基板以一方向移送的生產(chǎn)線連接，接收從生產(chǎn)線傳達(dá)的基板，執(zhí)行基板處理后重新將基板傳達(dá)至生產(chǎn)線的單一閉合曲線線路進(jìn)行配置，進(jìn)而具有可解決為了設(shè)置系統(tǒng)的空間性制約的優(yōu)點(diǎn)。
[0039]另外，根據(jù)本發(fā)明的基板處理系統(tǒng)級(jí)基板處理方法，根據(jù)搬送機(jī)器人線路配置移送基板的多個(gè)搬送模塊，及連接搬送模塊之間的多個(gè)緩沖模塊，為了使緩沖模塊中的一部分具有翻轉(zhuǎn)及再翻轉(zhuǎn)、基板的水平旋轉(zhuǎn)、壓力變換等多樣的功能，進(jìn)而具有可執(zhí)行多樣的基板處理的優(yōu)點(diǎn)。
[0040]另外，根據(jù)本發(fā)明的基板處理系統(tǒng)及基板處理方法，在構(gòu)成系統(tǒng)的模塊，尤其是搬送模塊及緩沖模塊，與基板以一方向移送的生產(chǎn)線連接，接收從生產(chǎn)線傳達(dá)的基板，執(zhí)行基板處理后重新將基板傳達(dá)至生產(chǎn)線的單一閉合曲線線路配置的基板處理系統(tǒng)，根據(jù)執(zhí)行工序的特性，可運(yùn)營(yíng)多樣形態(tài)的基板移送，可多樣的處理基板的優(yōu)點(diǎn)。
[0041]具體地說(shuō)，根據(jù)本發(fā)明的基板處理系統(tǒng)及基板處理方法，在處理要求反復(fù)數(shù)次一連串工序的基板時(shí)，使在具有單一閉合曲線線路配置的基板處理系統(tǒng)的搬送模塊中的一部分，結(jié)合執(zhí)行該工序的工序模塊，構(gòu)成使一連串的工序執(zhí)行，根據(jù)其配置以順時(shí)針?lè)较蚧蚰鏁r(shí)針?lè)较蛐D(zhuǎn)數(shù)次，使一連串工序反復(fù)數(shù)次，進(jìn)而具有更加有效處理基板功能的優(yōu)點(diǎn)。
[0042]另外，根據(jù)本發(fā)明的基板處理系統(tǒng)及基板處理方法，包括根據(jù)基板處理系統(tǒng)的處理基板相同或類似的第I工序，及在其之間執(zhí)行的第2工序的情況，按順序配置執(zhí)行第I工序的一個(gè)以上的工序模塊結(jié)合的第I工序搬送模塊，與執(zhí)行第2工序的一個(gè)以上的工序模塊結(jié)合的第2工序搬送模塊，對(duì)執(zhí)行第I工序的基板執(zhí)行第2工序后，從第2工序搬送模塊重新傳達(dá)至第I工序搬送模塊執(zhí)行第I工序，進(jìn)而將為了處理基板的工序模塊及搬送模塊的數(shù)最小化，具有可將基板處理系統(tǒng)的制造費(fèi)用及設(shè)置空間最小化的優(yōu)點(diǎn)。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0043]圖1是顯示根據(jù)本發(fā)明的基板處理系統(tǒng)一事例的平面圖。
[0044]圖2a至圖2c是顯示在圖1的基板處理系統(tǒng)的搬送模塊，移送基板過(guò)程的概念圖。
[0045]圖3是顯示在圖1的基板處理系統(tǒng)，搬送模塊與基板水平旋轉(zhuǎn)模塊構(gòu)成傾斜結(jié)合的事例一部分的概略圖。
[0046](附圖標(biāo)記說(shuō)明)
[0047]10:生產(chǎn)線20:基板
[0048]110~150:搬送模塊210~250:緩沖模塊
[0049]310~340:工序模塊
[0050]具體實(shí)施例方式
[0051]以下，關(guān)于根據(jù)本發(fā)明的基板處理系統(tǒng)及基板處理方法，參照附圖如下進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
[0052]根據(jù)本發(fā)明的基板處理系統(tǒng)，如圖1至圖2c所示作為基板20與以一方向移送的生產(chǎn)線10連接，執(zhí)行處理基板的基板處理系統(tǒng)，包括:多個(gè)搬送模塊110、120、130、140、150，按順序配置，包括與生產(chǎn)線10連接的第I搬送模塊110 ;—個(gè)以上的工序模塊310、320、330、340，至少連接多個(gè)搬送模塊中的一個(gè)，執(zhí)行基板處理；多個(gè)緩沖模塊210、220、230、240、250，相互連接多個(gè)搬送模塊110、120、130、140、150之間。
[0053]還有，其特征在于，所述多個(gè)搬送模塊110、120、130、140、150及多個(gè)緩沖模塊210、220、230、240、250，接收從生產(chǎn)線10傳達(dá)的基板20，執(zhí)行基板處理后，使完成基板處理的基板20返回至生產(chǎn)線10的以構(gòu)成單一閉合曲線的線路進(jìn)行配置。
[0054]由一事例，所述多個(gè)搬送模塊110、120、130、140、150及多個(gè)緩沖模塊210、220、230、240、250，整體可以如同五角形的形態(tài)配置。
[0055] 所述搬送模塊110、120、130、140、150，如圖2a至2c所示，設(shè)置在形成封閉的內(nèi)部空間的搬送腔室101，與設(shè)置在搬送腔室101內(nèi)從其他模塊提取基板20，或設(shè)置在將基板20傳達(dá)至其他模塊內(nèi)的搬送機(jī)器人102內(nèi)部。
[0056]所述搬送腔室101，如果是與形成設(shè)置返送機(jī)器102的封閉的內(nèi)部空間一起，可形成通過(guò)基板的2個(gè)以上的門(mén)(未圖示)的構(gòu)成，任何構(gòu)成都可以。
[0057]所述搬送機(jī)器人102，作為設(shè)置在搬送腔室101內(nèi)，從其他模塊提取基板20，或?qū)⒒?0傳達(dá)至其他模塊內(nèi)的構(gòu)成，根據(jù)基板20的移送方式可多樣的構(gòu)成。
[0058]由一事例，所述搬送機(jī)器人102如圖2a至2c所示，可包括:基板安裝部102a，安裝基板；線形移動(dòng)部102b，使基板安裝部102a線形移動(dòng)；旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部102c，使線形移動(dòng)部102b旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而使基板安裝部102a旋轉(zhuǎn)移動(dòng)。
[0059]具有如上所述構(gòu)成的所述搬送模塊110、120、130、140、150，如圖2a至2c所示提取結(jié)合搬送機(jī)器人102的模塊內(nèi)的基板20，將基板20傳達(dá)至其他模塊內(nèi)。
[0060]這時(shí)，根據(jù)所述搬送模塊110、120、130、140、150移送的基板20，如圖1及圖2c所示前端會(huì)換為后端(在圖面以’ ?’顯示前端)。
[0061]另一方面，所述多個(gè)搬送模塊110、120、130、140、150，根據(jù)工序模塊的數(shù)、處理基板的數(shù)、模塊間的配置可多樣的配置。由一事例，如圖1所示可包括按順序配置的第I至第5 搬送模塊 110、120、130、140、150。
[0062]另外，所述多個(gè)搬送模塊110、120、130、140、150中至少任意一個(gè)，可結(jié)合一個(gè)以上的工序模塊310、320、330、340。
[0063]由一事例，多個(gè)搬送模塊110、120、130、140、150包括第I至第5搬送模塊110、120、130、140、150的情況，第2至第5搬送模塊120、130、140、150中的至少任意一個(gè)，可結(jié)合一個(gè)以上的工序模塊310、320、330、340。
[0064]更詳細(xì)地說(shuō)，所述第2搬送模塊120，根據(jù)蒸發(fā)在OLED基板可結(jié)合形成電極的一個(gè)以上的工序模塊310。在這里，在所述第2搬送模塊120臨時(shí)保管在處理基板時(shí)待使用的護(hù)罩(mask)，或?yàn)榱司S護(hù)護(hù)罩可追加結(jié)合為了向外部搬出的護(hù)罩模塊410。
[0065]還有，形成所述電極后，為了執(zhí)行后續(xù)工序，在第3搬送模塊130，可設(shè)置一個(gè)以上的工序模塊320、330，在第4搬送模塊340可設(shè)置一個(gè)工序模塊340。
[0066]所述工序模塊310、320、330、340，根據(jù)基板處理的種類可多樣的構(gòu)成。
[0067]由一事例，處理基板在執(zhí)行根據(jù)蒸發(fā)源蒸發(fā)的沉積工序的情況，工序模塊310可包括:工序腔室，形成可通過(guò)基板的門(mén)，并且形成封閉的處理空間；與蒸發(fā)源，設(shè)置在工序腔室內(nèi)蒸發(fā)沉積物質(zhì)。
[0068]另外，工序模塊根據(jù)加熱、冷卻、濺射、CVD、PVD等基板處理種類，包括:工序腔室，形成封閉的處理空間；與氣體噴射部，將氣體噴射至處理空間內(nèi)等，可多樣的構(gòu)成。
[0069]另一方面，所述工序模塊在與搬送模塊的結(jié)合中，為了避免與柱子等周邊設(shè)施間的干涉，腔室與所述搬送模塊結(jié)合的水平結(jié)合方向，對(duì)根據(jù)所述搬送模塊的搬送機(jī)器人的基板直線移送路徑形成傾斜，腔室可與所述搬送模塊結(jié)合。
[0070] 所述多個(gè)緩沖模塊210、220、230、240、250，作為分別在搬送模塊110、120、130、140、150之間，使搬送模塊連接設(shè)置的構(gòu)成，可多樣的構(gòu)成，并且可包括:緩沖腔室，形成與連接的搬送模塊連通的門(mén)；基板安裝部，設(shè)置在緩沖腔室內(nèi)安裝基板。
[0071]還有，所述多個(gè)緩沖模塊210、220、230、240、250具有對(duì)應(yīng)搬送模塊數(shù)量的數(shù)量。由一事例，在配置第I至第5搬送模塊110、120、130、140、150時(shí)，可包括--第I緩沖模塊210，連接第I搬送模塊110及第2搬送模塊120 ;第2緩沖模塊220，連接第2搬送模塊120及第3搬送模塊130 ;第3緩沖模塊230，連接第3搬送模塊130及第4搬送模塊140 ;第4緩沖模塊240，連接第4搬送模塊140及第5搬送模塊150 ;第5緩沖模塊250，連接第5搬送模塊150及第I搬送模塊110。
[0072]在這里，所述第I至第5緩沖模塊210、220、230、240、250，根據(jù)連接的搬送模塊及連接在搬送模塊的工序模塊，可具有如同變換壓力、翻轉(zhuǎn)基板、基板的水平旋轉(zhuǎn)、加熱或冷卻的溫度調(diào)節(jié)等多樣的功能。
[0073]另一方面，根據(jù)基板處理種類在一部分基板處理中，在基板處理面向下的狀態(tài)要求執(zhí)行基板處理，為此所述第I至第5緩沖模塊210、220、230、240、250中的一部分，構(gòu)成包括:第I翻轉(zhuǎn)模塊，使基板處理面向下側(cè)翻轉(zhuǎn)；第2翻轉(zhuǎn)模塊，使其與第I翻轉(zhuǎn)模塊跟進(jìn)的進(jìn)行配置，根據(jù)翻轉(zhuǎn)模塊使基板處理面向下翻轉(zhuǎn)的基板向上側(cè)再翻轉(zhuǎn)。
[0074]所述第I翻轉(zhuǎn)模塊及第2翻轉(zhuǎn)模塊，作為將基板處理面向上側(cè)或向下側(cè)的構(gòu)成，可包括:翻轉(zhuǎn)腔室，形成封閉的內(nèi)部空間；與翻轉(zhuǎn)部，設(shè)置在翻轉(zhuǎn)腔室內(nèi)，在拾取基板的狀態(tài)使基板處里面向上側(cè)或向下側(cè)。
[0075]所述翻轉(zhuǎn)部，作為設(shè)置在翻轉(zhuǎn)腔室內(nèi)在提取基板的狀態(tài)，使基板處理面向上側(cè)或向下側(cè)的構(gòu)成，可多樣的構(gòu)成。
[0076]這時(shí)，所述翻轉(zhuǎn)部在翻轉(zhuǎn)基板中，以與基板的移動(dòng)方向構(gòu)成平行的旋轉(zhuǎn)軸(X軸)為中心使其翻轉(zhuǎn)，或以與基板移動(dòng)方向構(gòu)成垂直的旋轉(zhuǎn)軸(Y軸)為中心使其翻轉(zhuǎn)。
[0077]尤其是，所述翻轉(zhuǎn)部以與基板移動(dòng)方向構(gòu)成垂直的旋轉(zhuǎn)軸(Y軸)為中心使其翻轉(zhuǎn)的情況，會(huì)更換基板的前端。
[0078]另一方面，所述第I翻轉(zhuǎn)模塊及所述第2翻轉(zhuǎn)模塊，需位于在需翻轉(zhuǎn)基板處理面的工序模塊310的前后。由一事例，第I翻轉(zhuǎn)模塊為第I緩沖模塊210，第2翻轉(zhuǎn)模塊為第3緩沖模塊230。
[0079]還有，所述緩沖模塊的一部分為第I翻轉(zhuǎn)模塊及第2翻轉(zhuǎn)模塊的情況，設(shè)置在第3搬送模塊130的第3搬送機(jī)器人，從第2翻轉(zhuǎn)模塊提取基板20傳達(dá)至工序模塊，并且可將從工序模炔基板處理的基板傳達(dá)至第2翻轉(zhuǎn)模塊。
[0080]尤其是，對(duì)再翻轉(zhuǎn)的基板20的處理基板的數(shù)量變多，且限制在第4搬送模塊140結(jié)合工序模塊情況，如上所述將移送基板的一部分逆向移送，進(jìn)而具有在限制的空間內(nèi)可執(zhí)行多樣的基板處理的優(yōu)點(diǎn)。
[0081]另外，根據(jù)處理基板的種類在真空壓下執(zhí)行處理基板，或在低真空壓或大氣壓下執(zhí)行處理基板等，存在在基板移送路徑中需要變換壓力的情況。
[0082]就此，根據(jù)本發(fā)明的基板處理系統(tǒng)，以第I壓力維持從第I搬送模塊110按順序配置的一個(gè)以上的搬送模塊，以與第I壓力不同的第2壓力維持剩余的搬送模塊，并且連接維持第I壓力的搬送模塊及維持第2壓力的搬送模塊的緩沖模塊，可在第I壓力及第2壓力之間進(jìn)行壓力變換。
[0083]具體地說(shuō)，根據(jù)本發(fā)明的基板處理系統(tǒng)，直到第I搬送模塊110及第2至第3搬送模塊120、130中任意一個(gè)維持第I壓力，例如，維持真空壓，并且剩余的搬送模塊140、150維持與第I壓力不同的第2壓力，例如，大氣壓，并且連接維持第I壓力的搬送模塊及維持第2壓力的搬送模塊的緩沖模塊220、250，可在第I壓力及第2壓力之間進(jìn)行壓力變換。
[0084]這時(shí)，變換壓力的緩沖模塊220、250，為了在變換壓力時(shí)將壓力變換時(shí)間最小化，優(yōu)選為使用內(nèi)部空間最小化的腔室。
[0085]另一方面，根據(jù)本發(fā)明的基板處理系統(tǒng)的特征為，根據(jù)搬送機(jī)器人移送基板的多個(gè)搬送模塊，經(jīng)過(guò)緩沖模塊移動(dòng)。如圖2a至圖2c所示，分別經(jīng)過(guò)搬送模塊的同時(shí)，以基板20的移送方向?yàn)榛鶞?zhǔn)，會(huì)更換基板20的前端及后端。
[0086]還有，后續(xù)工序根據(jù)變更具有對(duì)基板20前端及后端的方向性的基板系統(tǒng)的一部分，更換基板20的前端及后端額情況，由于應(yīng)變更為了已設(shè)置的后續(xù)工序的基板處理模塊，因此存在對(duì)變更基板處理系統(tǒng)的限制，變更時(shí)追加費(fèi)用的需求等問(wèn)題。
[0087]因此，根據(jù)本發(fā)明的基板處理系統(tǒng)，第I至第5緩沖模塊210?250中的一部分，優(yōu)選為任意一個(gè)，更加優(yōu)選為如圖3所示第4緩沖模塊240可構(gòu)成基板水平旋轉(zhuǎn)模塊，以從搬送模塊，例如從第4搬送模塊140向緩沖腔室內(nèi)導(dǎo)入基板20時(shí)為基準(zhǔn)，為了向使其后端不同的搬送模塊，例如第5搬送模塊150導(dǎo)入，使基板20水平旋轉(zhuǎn)。
[0088]所述基板水平旋轉(zhuǎn)模塊，作為連接2個(gè)搬送模塊，即，第4搬送模塊140及第5搬送模塊150的同時(shí)，將基板20從第4搬送模塊140傳達(dá)至第5搬送模塊150中，使基板20以水平方向旋轉(zhuǎn)的構(gòu)成，可包括:基板支撐單元30，支撐緩沖腔室，與通過(guò)緩沖腔室導(dǎo)入的基板20 ;及旋轉(zhuǎn)單元，以基板的導(dǎo)入方向?yàn)榛鶞?zhǔn)，使基板的后端向第5搬送模塊140，以水平方向使基板支撐單元30旋轉(zhuǎn)。
[0089]根據(jù)如上所述的構(gòu)成，根據(jù)本發(fā)明的基板處理系統(tǒng)，經(jīng)過(guò)搬送模塊的同時(shí)矯正更換的基板的前端及后端，可防止由于更換基板的前端及后端影響后續(xù)工序。
[0090]另一方面，所述緩沖模塊，例如第4緩沖模塊240，如圖3所示至少一部分與搬送模塊結(jié)合，為了避免與柱子等周邊設(shè)施的干涉，與搬送模塊結(jié)合的水平結(jié)合方向D，與根據(jù)移送基板20的搬送機(jī)器人的基板直線移送路徑L形成傾斜，可與搬送模塊結(jié)合。
[0091]具體地說(shuō)，第4緩沖模塊240為了避免與柱子等周邊設(shè)施的干涉，結(jié)合在第4搬送機(jī)器人140結(jié)合的水平結(jié)合方向D，與根據(jù)移送基板S的第4搬送機(jī)器人的基板S的直線移送路徑L構(gòu)成傾斜Θ，可結(jié)合在第4搬送模塊140。在這里，水平結(jié)合方向D可定義為，結(jié)合在第4搬送模塊140的水平結(jié)合方向。
[0092]這時(shí)，所述第4緩沖模塊240為基板水平旋轉(zhuǎn)模塊的情況，根據(jù)第4緩沖模塊240的旋轉(zhuǎn)單元的驅(qū)動(dòng)，使基板支撐單元30旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而基板支撐單元30的水平中心線C，在位于與根據(jù)第4搬送機(jī)器人的基板S的直線移送路徑L平行的狀態(tài)，基板S可穩(wěn)定的安裝在基板支撐單元30。在這里，基板支撐單元30的水平中心線C，當(dāng)基板支撐單元30具有直四角形的平面形態(tài)時(shí)，可定義為向第4搬送模塊140的水平中心線。
[0093]另外，所述第3搬送模塊130以后直到第I搬送模塊110，可設(shè)置結(jié)合在生產(chǎn)線側(cè)的附加模塊，優(yōu)選為使其與生產(chǎn)線維持間隔的配置。
[0094]為此，所述基板處理系統(tǒng)，如圖1所示還可包括基板交換模塊420，設(shè)置在生產(chǎn)線10與第I搬送模塊110之間，進(jìn)行與生產(chǎn)線10的基板交換及與第I搬送模塊110的基板交換。
[0095]所述基板交換模塊420，作為為了與生產(chǎn)線10的基板交換，及與第I搬送模塊110的基板交換的構(gòu)成，可多樣的構(gòu)成，并且由一事例，可包括:盒部(未圖示)，基板20構(gòu)成層次積載多個(gè)；與上下移動(dòng)部，使盒部上下移動(dòng)。
[0096]還有，所述基板交換模塊420，可包括外殼，基板20的移送環(huán)境在真空進(jìn)行的情況，為了維持真空狀態(tài)，形成卡式等設(shè)置在內(nèi)部的封閉的內(nèi)部空間。
[0097]另一方面，所述基板交換模塊420，為了更加穩(wěn)定的傳達(dá)基板，可追加設(shè)置基板排序部，排序積載在盒部的基板水平位置。
[0098]所述基板排序部，作為為了排序基板水平狀態(tài)的構(gòu)成，加壓角落部分水平移動(dòng)基板，進(jìn)而可執(zhí)行為了穩(wěn)定的移送基板的水平排序基板。
[0099]具有如上所述構(gòu)成的基板處理系統(tǒng)，如上所述的搬送模塊110、120、130、140、150及緩沖模塊210、220、230、240、250，以構(gòu)成單一閉合曲線的線路進(jìn)行配置，進(jìn)而不變更現(xiàn)有的生產(chǎn)線，在現(xiàn)有的生產(chǎn)線追加新的工序，或?yàn)榱耸棺兏墓ば驁?zhí)行，可追加在現(xiàn)有的生產(chǎn)線。
[0100]另一方面，在發(fā)明的實(shí)施例，雖然舉例說(shuō)明了在所述基板處理系統(tǒng)的搬送模塊110、120、130、140、150的配置，根據(jù)順時(shí)針?lè)较蛞扑突?0，但是也可根據(jù)以逆時(shí)針?lè)较蛞扑偷榷鄻拥姆绞揭扑突?0，當(dāng)然根據(jù)此可多樣的處理基板。
[0101]S卩，具有如上所述構(gòu)成的基板處理系統(tǒng)，根據(jù)配置多個(gè)搬送模塊110、120、130、140、150及多個(gè)緩沖模塊210、220、230、240、250，及至少結(jié)合在搬送模塊110、120、130、140、150中一個(gè)工序模塊310、320、330、340的種類，可多樣的執(zhí)行基板處理。
[0102]由一事例，根據(jù)本發(fā)明的基板處理方法，根據(jù)單一閉合曲線線路配置多個(gè)搬送模塊110、120、130、140、150及多個(gè)緩沖模塊210、220、230、240、250，至少可以順時(shí)針?lè)较蚣澳鏁r(shí)針?lè)较蛑械囊粋€(gè)方向移送基板20。
[0103]更加詳細(xì)地說(shuō)，根據(jù)單一閉合曲線線路配置多個(gè)搬送模塊110、120、130、140、150及多個(gè)緩沖模塊210、220、230、240、250，至少可以順時(shí)針?lè)较蚣澳鏁r(shí)針?lè)较蛑械囊粋€(gè)方向移送基板20。
[0104]另外，根據(jù)本發(fā)明的基板處理方法，根據(jù)單一閉合曲線線路配置多個(gè)搬送模塊110、120、130、140、150及多個(gè)緩沖模塊210、220、230、240、250，在以順時(shí)針?lè)较蛞扑突?0的第I基板處理，及以逆時(shí)針?lè)较蛞扑突?0的第2基板處理中，可選擇性的執(zhí)行任意一個(gè)或執(zhí)行全部。
[0105]還有，根據(jù)本發(fā)明的基板處理方法，以第I搬送模塊110為起點(diǎn)，經(jīng)過(guò)構(gòu)成單一閉合曲線的線路配置，可反復(fù)I次或數(shù)次基板20到達(dá)至第I搬送模塊110的周期。
[0106]具體地說(shuō)，根據(jù)本發(fā)明的基板處理方法，需要反復(fù)I次或數(shù)次執(zhí)行相同的沉積及熱處理等的后續(xù)處理的情況，使執(zhí)行沉積工序的工序模塊結(jié)合在第2搬送模塊120，在后續(xù)配置的第3搬送模塊130，結(jié)合并配置執(zhí)行熱處理等的后續(xù)處理工序的工序模塊，根據(jù)工序條件可執(zhí)行一次或數(shù)次周期，即基板20以第I搬送模塊110為起點(diǎn)，經(jīng)過(guò)第2搬送模塊120及第3搬送模塊130，重新到達(dá)第I搬送模塊110。
[0107]在這里，所述第I搬送模塊110、第2搬送模塊120及第3搬送模塊130，根據(jù)需要當(dāng)然也可以順時(shí)針?lè)较蛞酝獾哪鏁r(shí)針?lè)较蚺渲谩?br> [0108]另一方面，根據(jù)本發(fā)明的基板處理方法，可包括相同或類似第I工序及在第I工序之間執(zhí)行的一個(gè)以上的第2工序。這時(shí)，基板處理系統(tǒng)，可按順序配置執(zhí)行第I工序的一個(gè)以上的第I工序模塊結(jié)合的第I工序搬送模塊120，及執(zhí)行第2工序的一個(gè)以上的第2工序模塊結(jié)合的第2搬送模塊130。
[0109]還有，根據(jù)本發(fā)明的基板處理方法，根據(jù)如上所述基板處理系統(tǒng)的構(gòu)成，在第I工序模塊執(zhí)行第I工序，將執(zhí)行第I工序的基板20，經(jīng)過(guò)第I工序搬送模塊120及第2工序搬送模塊130，傳達(dá)至第2工序模塊執(zhí)行第2工序，將完成第2工序的基板，經(jīng)過(guò)第2工序搬送模塊130及第I工序搬送模塊120，傳達(dá)至第I工序模塊執(zhí)行第I工序。
[0110]另外，根據(jù)本發(fā)明的基板處理方法，按順序執(zhí)行第I工序、第2工序及第3工序，這時(shí)基板處理系統(tǒng)，可按順序配置分別執(zhí)行第I工序及所述第3工序的第I工序模塊，及結(jié)合第3工序模塊的第I工序搬送模塊120，及執(zhí)行第2工序的一個(gè)以上的第2工序模塊結(jié)合的第2工序搬送模塊130。
[0111]還有，根據(jù)本發(fā)明的基板處理方法，根據(jù)如上所述的基板處理系統(tǒng)的構(gòu)成，在第I工序模塊執(zhí)行第I工序，將執(zhí)行第I工序的基板，經(jīng)過(guò)第I工序搬送模塊120及第2工序搬送模塊130，傳達(dá)至第2工序模塊，執(zhí)行第2工序，將完成第2工序的基板，經(jīng)過(guò)第2工序搬送模塊130及第I工序搬送模塊110，傳達(dá)至第3工序模塊，執(zhí)行第3工序。
[0112]在這里，在第I壓力下執(zhí)行所述第I工序及所述第3工序，在與所述第I壓力不同的第2壓力下執(zhí)行第2工序等，根據(jù)壓力可區(qū)分工序。尤其是，所述第I壓力為真空壓，所述第2壓力為大氣壓。
[0113]另外，所述第I工序及第3工序?yàn)?，利用之前說(shuō)明的根據(jù)蒸發(fā)物質(zhì)蒸發(fā)的沉積、等離子的沉積等的沉積工序，第2沉積工序?yàn)?，在熱處理等沉積工序的執(zhí)行前或執(zhí)行后要求的工序。
[0114]另一方面，所述第I至第3工序可執(zhí)行2次以上。
[0115]以上，不過(guò)是說(shuō)明關(guān)于根據(jù)本發(fā)明實(shí)現(xiàn)的優(yōu)選實(shí)施例的一部分，因此與主旨相同本發(fā)明范圍不應(yīng)解釋為限定在以上實(shí)施例，并且在以上說(shuō)明的本發(fā)明技術(shù)思想，及與其根本一起的技術(shù)思想，應(yīng)解釋為包括在本發(fā)明的范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種基板處理系統(tǒng)，作為基板與以一方向移送的生產(chǎn)線連接以執(zhí)行基板處理的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，包括: 多個(gè)搬送模塊，按順序配置，包括與所述生產(chǎn)線連接的第I搬送模塊；一個(gè)以上的工序模塊，至少連接在在所述多個(gè)搬送模塊中的一個(gè)，執(zhí)行基板處理；多個(gè)緩沖模塊，相互連接所述多個(gè)搬送模塊之間， 所述多個(gè)搬送模塊及所述多個(gè)緩沖模塊，接收從所述生產(chǎn)線傳達(dá)的基板，執(zhí)行基板處理后，為了使完成基板處理的基板返回至所述生產(chǎn)線，以構(gòu)成單一閉合曲線的線路進(jìn)行配置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于，還包括: 基板交換模塊，設(shè)置在所述生產(chǎn)線與所述第I搬送模塊之間，構(gòu)成與所述生產(chǎn)線的基板交換，及與所述第I搬送模塊的基板交換。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于， 所述基板交換模塊，包括: 盒部，基板形成層次積載多個(gè)；上下移動(dòng)部，使所述盒部上下移動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于， 所述基板交換模塊，追加設(shè)置基板排序部，排序積載的基板的水平位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于， 所述搬送模塊，包括: 搬送機(jī)器人，包括:基板安裝部，安裝基板；線形移動(dòng)部，使基板安裝部線形移動(dòng)；與旋轉(zhuǎn)移動(dòng)部，使所述線形移動(dòng)部旋轉(zhuǎn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于， 所述多個(gè)搬送模塊，包括: 所述第I搬送模塊及按順序配置的第2搬送模塊、第3搬送模塊、第4搬送模塊及第5搬送模塊， 所述多個(gè)緩沖模塊，包括: 第I緩沖模塊，連接所述第I搬送模塊及所述第2搬送模塊； 第2緩沖模塊，連接所述第2搬送模塊及所述第3搬送模塊； 第3緩沖模塊，連接所述第3搬送模塊及所述第4搬送模塊； 第4緩沖模塊，連接所述第4搬送模塊及所述第5搬送模塊； 第5緩沖模塊，連接所述第5搬送模塊及所述第I搬送模塊。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于， 所述第2至第5搬送模塊中至少任意一個(gè)，結(jié)合執(zhí)行基板處理的一個(gè)以上的工序模塊。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于， 所述第I至第5緩沖模塊中的一部分為，第I翻轉(zhuǎn)模塊，翻轉(zhuǎn)使基板處理面向下側(cè)；與第2翻轉(zhuǎn)模塊，使其與所述第I翻轉(zhuǎn)模塊跟進(jìn)的配置，根據(jù)所述翻轉(zhuǎn)模塊，使基板處理面向下側(cè)翻轉(zhuǎn)的基板面向上側(cè)進(jìn)行再反轉(zhuǎn)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于， 所述第I翻轉(zhuǎn)模塊為所述第I緩沖模塊， 所述第2翻轉(zhuǎn)模塊為所述第3緩沖模塊。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于， 所述第3搬送模塊，結(jié)合一個(gè)以上的工序模塊， 在所述第3搬送模塊設(shè)置的第3搬送機(jī)器人，從所述第2翻轉(zhuǎn)模塊提取基板傳達(dá)至所述工序模塊，將從所述工序模炔基板處理的基板傳達(dá)至所述第2翻轉(zhuǎn)模塊。
11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于， 從所述第I搬送模塊至所述第2至第3搬送模塊中的任意一個(gè)維持第I壓力，剩余搬送模塊維持與所述第I壓力不同的第2壓力， 連接維持所述第I壓力的搬送模塊及維持所述第2壓力的搬送模塊的緩沖模塊，在第I壓力及第2壓力之間進(jìn)行壓力變換。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于， 所述第I搬送模塊及與其按順序配置的一個(gè)以上的搬送模塊維持第I壓力，剩余搬送模塊維持與所述第I壓力不同的第2壓力， 連接維持所述第I壓力的搬送模塊及維持所述第2壓力的搬送模塊的緩沖模塊，在第I壓力及第2壓力之間進(jìn)行壓力變換。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于， 所述緩沖模塊的至少一部分，腔室與所述搬送模塊結(jié)合的水平結(jié)合方向，對(duì)根據(jù)所述搬送模塊的搬送機(jī)器人的基板直線移送路徑形成傾斜，與所述搬送模塊結(jié)合。
14.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的基板處理系統(tǒng)，其特征在于， 所述多個(gè)緩沖模塊中的一部分為，以導(dǎo)入基板時(shí)為基準(zhǔn)，為了使其后端向其他搬送模塊導(dǎo)入，使基板水平旋轉(zhuǎn)的基板水平旋轉(zhuǎn)模塊。
15.利用權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)的基板處理系統(tǒng)的基板處理方法，其特征在于， 根據(jù)以單一閉合曲線線路配置所述多個(gè)搬送模塊及所述多個(gè)緩沖模塊，基板以順時(shí)針?lè)较蛞扑偷牡贗基板處理及基板以逆時(shí)針?lè)较蛞扑偷牡?基板處理中，選擇性的執(zhí)行任意一個(gè)或全部執(zhí)行。
16.利用權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)的基板處理系統(tǒng)的基板處理方法，其特征在于， 根據(jù)以單一閉合曲線線路配置所述多個(gè)搬送模塊及所述多個(gè)緩沖模塊，基板至少以順時(shí)針?lè)较蚣澳鏁r(shí)針?lè)较蛑械囊粋€(gè)方向移送。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的基板處理方法，其特征在于， 以所述第I搬送模塊為起點(diǎn)，經(jīng)過(guò)所述單一閉合曲線線路配置，一次或多次反復(fù)基板重新到達(dá)所述第I搬送模塊的周期。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的基板處理方法，其特征在于， 包括在相同或類似的第I工序，及在所述第I工序間執(zhí)行的一個(gè)以上的第2工序， 按順序配置，執(zhí)行所述第I工序的一個(gè)以上的第I工序模塊結(jié)合的第I工序搬送模塊，及執(zhí)行所述第2工序的一個(gè)以上的第2工序模塊結(jié)合的第2工序搬送模塊， 在所述第I工序模塊執(zhí)行所述第I工序， 將執(zhí)行所述第I工序的基板，經(jīng)過(guò)所述第I工序搬送模塊及所述第2工序搬送模塊，傳達(dá)至所述第2工序模塊執(zhí)行所述第2工序， 將完成所述第2工序的基板，經(jīng)過(guò)所述第2工序搬送模塊及所述第I工序搬送模塊，傳達(dá)至所述第I工序模塊執(zhí)行所述第I工序。
19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的基板處理方法，其特征在于 按順序執(zhí)行第I工序、第2工序及第3工序， 按順序配置，分別執(zhí)行所述第I工序及所述第3工序的第I工序模塊，及結(jié)合第3工序模塊的第I工序搬送模塊，及執(zhí)行所述第2工序的一個(gè)以上的第2工序模塊結(jié)合的第2工序搬送模塊， 在所述第I工序模塊執(zhí)行所述第I工序， 將執(zhí)行所述第I工序的基板，經(jīng)過(guò)所述第I工序搬送模塊及所述第2工序搬送模塊，傳達(dá)至所述第2工序模塊執(zhí)行所述第2工序， 將完成所述第2工序的基板，經(jīng)過(guò)所述第2工序搬送模塊及所述第I工序搬送模塊，傳達(dá)至所述第3工序模塊模塊，執(zhí)行所述第3工序
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的基板處理方法，其特征在于， 所述第I工序及所述第3工序在第I壓力下執(zhí)行，所述第2工序在與所述第I壓力不同的第2壓力下執(zhí)行。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的基板處理方法，其特征在于， 所述第I壓力為真空壓，并且所述第2壓力為大氣壓。
22.根據(jù)權(quán)利要 求19所述的基板處理方法，其特征在于， 所述第I至第3工序執(zhí)行2次以上。
23.根據(jù)權(quán)利要求19所述的基板處理方法，其特征在于， 所述第I工序及第3工序?yàn)槌练e工序。
【文檔編號(hào)】H01L21/67GK104078383SQ201410104338
【公開(kāi)日】2014年10月1日 申請(qǐng)日期:2014年3月20日 優(yōu)先權(quán)日:2013年3月28日
【發(fā)明者】徐康鎮(zhèn), 劉成真, 李炳祐, 金昌洙, 梁皓植 申請(qǐng)人:圓益Ips股份有限公司