用于高壓盤式絕緣子平行度的校正工具和方法
【專利摘要】本發(fā)明提供的是用于高壓盤式絕緣子平行度的校正工具和方法，所述工具包括一個環(huán)形支撐平臺和一個與環(huán)形支撐平臺的形狀大小一樣的環(huán)形壓塊。環(huán)形支撐平臺的內腔用于容納盤式絕緣子的導體嵌件的下端，環(huán)形壓塊的內腔用于容納盤式絕緣子的導體嵌件的上端。所述環(huán)形支撐平臺的外徑和環(huán)形壓塊的外徑等于或稍大于盤式絕緣子的外徑。所述方法是，將盤式絕緣子設置在支撐平臺和環(huán)形壓塊之間，然后送入固化爐中，升溫到120℃—150℃，保持3—6小時。
【專利說明】用于高壓盤式絕緣子平行度的校正工具和方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及的是盤式絕緣子的校正工具和方法，尤其是用于高壓盤式絕緣子的法蘭面平行度的校正工具和方法。
【背景技術】
[0002]盤式絕緣子是高壓氣體絕緣封閉式組合電器的主要元件之一，盤式絕緣子的制造質量直接決定著高壓電器產品的可靠性。盤式絕緣子是通過環(huán)氧樹脂、添加物、在模具中進行澆注后送入固化爐中，然后在一定時間的溫度和壓力下固化成型。其制造過程復雜，影響質量的因素也很多，其中，在較高溫度固化成型后，從固化爐中取出來在自然環(huán)境下冷卻的過程中，內部應力會逐漸釋放，由于環(huán)氧樹脂配料攪拌的均勻性和盤式絕緣子中導電嵌件的熱膨脹系數(shù)的差別，絕緣子內部應力釋放會出現(xiàn)不均勻的問題，有可能會導致盤式絕緣子的兩個法蘭面的不平行的問題。專利號200820221118.7公開了一種盤式絕緣子澆鑄件定形裝置，對于二次固化的工藝方法沒有介紹，而且該專利的結構比較復雜，在大批量生產過程中，需要時間長。

【發(fā)明內容】

[0003]為了解決盤式絕緣子在環(huán)氧樹脂澆注固化后，出現(xiàn)盤式絕緣子的兩個法蘭面的不平行的問題，本發(fā)明提供一種結構簡單的、盤式絕緣子的法蘭面平行度的校正工具和方法。
[0004]本發(fā)明的技術方案是這樣實現(xiàn):用于高壓盤式絕緣子平行度的校正工具，包括一個支撐平臺和一個壓塊，其特征在于，支撐平臺和壓塊為形狀大小一樣的環(huán)形結構，環(huán)形支撐平臺的內腔用于容納盤式絕緣子的導體嵌件的下端，環(huán)形壓塊的內腔用于容納盤式絕緣子的導體嵌件的上端，所述環(huán)形支撐平臺的外徑和環(huán)形壓塊的外徑等于或稍大于盤式絕緣子的外徑，支撐平臺的上端為法蘭面，壓塊的下端為法蘭面。
[0005]支撐平臺的厚度與壓塊的厚度相同，其大小為60_。
[0006]支撐平臺下方至少有3個支腿，且支腿與支撐平臺固定連接。
[0007]支撐平臺下方有4個支腿與支撐平臺為焊接連接。
[0008]用于高壓盤式絕緣子平行度的校正方法，其特征在于，包括以下步驟:
[0009]第一步，將支撐平臺的上端的法蘭面用干布清理干凈；
[0010]第二步，將盤式絕緣子的上下兩個法蘭面用干布清理干凈，然后將盤式絕緣子放置在支撐平臺上，并保持絕緣子的邊緣與環(huán)形支撐平臺的邊緣均勻對齊；
[0011]第三步，將壓塊下端的法蘭面用干布清理干凈，然后，將壓塊的法蘭面放置在絕緣子上，并保持環(huán)形壓塊的邊緣與絕緣子的邊緣、環(huán)形支撐平臺的邊緣均勻對齊；
[0012]第四步，將上述安裝好的環(huán)形壓塊、盤式絕緣子和環(huán)形支撐平臺一起送入專用的固化爐中，并將固化爐中的溫度調整到120°C — 150°C，保持3— 6小時。
[0013]固化爐中的溫度為調整到130°C，保持4小時。
[0014]本發(fā)明具有如下的積極效果:由于將盤式絕緣子的兩個法蘭面設置在平臺和壓塊之間，依靠壓塊的自身的重量就可以使盤式絕緣子得到定位，再將其送入固化爐中，通過加熱、保持足夠的時間，使得盤式絕緣子的兩個法蘭面二次定型固位，有力的保證了盤式絕緣子的兩個法蘭面的平行度。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]圖1為本發(fā)明的一個實施例的結構示意圖。
[0016]圖2為圖1的俯視圖。
【具體實施方式】
[0017]如圖1、圖2所示，高壓盤式絕緣子平行度的校正工具，包括一個環(huán)形支撐平臺I和一個與環(huán)形支撐平臺I的形狀大小一樣的環(huán)形壓塊2，環(huán)形支撐平臺I的內腔3用于容納盤式絕緣子4的導體嵌件的下端5，環(huán)形壓塊2的內腔6用于容納盤式絕緣子4的導體嵌件的上端7，所述環(huán)形支撐平臺I的外徑和環(huán)形壓塊2的外徑等于或稍大于盤式絕緣子4的外徑，支撐平臺I的上端為法蘭面，壓塊2的下端為法蘭面。
[0018]支撐平臺I的厚度與壓塊2的厚度相同,其大小為60mm。
[0019]支撐平臺I下方有4個支腿8，支腿8與支撐平臺I為焊接連接。
[0020]用于高壓盤式絕緣子平行度的校正方法是，包括以下步驟:
[0021]第一步，將支撐平臺I的上端的法蘭面用干布清理干凈；
[0022]第二步，將盤式絕緣子4的上下兩個法蘭面用干布清理干凈，然后將盤式絕緣子4放置在支撐平臺I上，并保持絕緣子4的邊緣與環(huán)形支撐平臺I的邊緣均勻對齊；
[0023]第三步，將壓塊2下端的法蘭面用干布清理干凈，然后，將壓塊2的法蘭面放置在絕緣子4上，并保持環(huán)形壓塊2的邊緣與絕緣子4的邊緣、環(huán)形支撐平臺I的邊緣均勻對齊；
[0024]第四步，將上述安裝好的環(huán)形壓塊2、絕緣子4和環(huán)形支撐平臺I 一起送入專用的固化爐中，并將固化爐中的溫度為調整到130°C，保持4小時。
[0025]將環(huán)氧樹脂澆注后的盤式絕緣子4，通過安裝調整并送入固化爐中再次定位、力口熱、保持，極大地提高了盤式絕緣子的成型質量，保證了盤式絕緣子4的兩個上下法蘭面的平行度。
[0026]需說明的是，以上所述的實施方式是對本發(fā)明技術方案的說明而非限制，所屬【技術領域】的普通技術人員的等同替換或根據(jù)現(xiàn)有技術而做的其它修改只要沒有超出本發(fā)明技術方案的思路和范圍，均應包含在本發(fā)明所要求的權利和范圍之內。
【權利要求】
1.用于高壓盤式絕緣子平行度的校正工具，包括一個支撐平臺(I)和一個壓塊(2)，其特征在于，支撐平臺(I)和壓塊(2)為形狀大小一樣的環(huán)形， 環(huán)形支撐平臺(I)的內腔(3)用于容納盤式絕緣子(4)的導體嵌件的下端(5)，環(huán)形壓塊(2)的內腔(6)用于容納盤式絕緣子(4)的導體嵌件的上端(7)，所述環(huán)形支撐平臺(I)的外徑和環(huán)形壓塊(2)的外徑等于或稍大于盤式絕緣子(4)的外徑，支撐平臺(I)的上端為法蘭面，壓塊(2)的下端為法蘭面。
2.根據(jù)權利要求1所述的用于高壓盤式絕緣子平行度的校正工具，其特征在于，支撐平臺(I)的厚度與壓塊(2)的厚度相同，其大小為60mm。 3根據(jù)權利要求1或2所述的用于高壓盤式絕緣子平行度的校正工具，其特征在于，支撐平臺(I)下方至少有3個支腿(8 )，且支腿(8 )與支撐平臺(I)固定連接。
3.根據(jù)權利要求3所述的用于高壓盤式絕緣子平行度的校正工具，其特征在于，支撐平臺(I)下方有4個支腿(8 )，支腿(8 )與支撐平臺(I)為焊接連接。
4.用于高壓盤式絕緣子平行度的校正方法，其特征在于，包括以下步驟: 第一步，將支撐平臺(I)的上端的法蘭面用干布清理干凈； 第二步，將盤式絕緣子(4)的上下兩個法蘭面用用干布清理干凈，然后將盤式絕緣子(4)放置在支撐平臺(I)上，并保持絕緣子(4)的邊緣與環(huán)形支撐平臺(I)的邊緣均勻對齊； 第三步，將壓塊(2)下端的法蘭面用干布清理干凈，然后，將壓塊(2)的法蘭面放置在絕緣子(4)上，并保持環(huán)形壓塊(2)的邊緣與絕緣子(4)的邊緣、環(huán)形支撐平臺(I)的邊緣均勻對齊； 第四步，將上述安裝好的環(huán)形壓塊(2)、絕緣子(4)和環(huán)形支撐平臺(I) 一起送入專用的固化爐中，并將固化爐中的溫度調整到120°C — 150°C，保持3— 6小時。
5.根據(jù)權利要求4所述的用于高壓盤式絕緣子平行度的校正方法，其特征在于，固化爐中的溫度為調整到130°C，保持4小時。
【文檔編號】H01B19/02GK103456439SQ201310008073
【公開日】2013年12月18日 申請日期:2013年1月9日 優(yōu)先權日:2013年1月9日
【發(fā)明者】董涵, 喬廣, 徐留前, 邵世鵬 申請人:平頂山市普匯電氣有限責任公司