專利名稱：濕式處理設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及濕式處理設(shè)備，且更明確地說，涉及用于通過濕式處理方法處理襯底的表面的濕式處理設(shè)備。
背景技術(shù)：
用于包含薄膜晶體管的顯示裝置的襯底以及用于半導(dǎo)體裝置的襯底經(jīng)歷表面處理工藝，以用于從襯底的表面去除氧化硅薄膜或用于平坦化硅薄膜的表面。表面處理工藝是通過將諸如蝕刻劑的處理液體施加于襯底的表面上而執(zhí)行。在濕式處理設(shè)備中，執(zhí)行工藝的處理室可能會受到處理液體污染。因此，安裝于處理室中的裝備可能容易腐蝕。因此，安裝于執(zhí)行工藝的處理室中的裝備需由具有高的耐腐蝕性以及高的耐化學(xué)性的材料形成。此情形過度地增加了裝備成本,而且,歸因于材料的限制，諸如復(fù)雜的升高系統(tǒng)的某裝備可能無法安裝于處理室中。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種濕式處理設(shè)備，其中具有長的耐久性的升高處理設(shè)施可用低的成本來安裝。本發(fā)明提供一種濕式處理設(shè)備，包含:處理室，其包括襯底進(jìn)入所通過的第一門以及所述襯底退出所通過的第二門；移動臺，其經(jīng)配備以在所述處理室中上下移動且其上放置有所述襯底；多個(gè)支撐件，其連接到所述移動臺；驅(qū)動單元，其經(jīng)配備以通過連接到所述支撐件中的至少一個(gè)而上下移動所述移動臺；固定臺，其固定地安置于所述處理室中且面對所述移動臺，且所述支撐件中的至少一個(gè)通過固定臺；以及多個(gè)保護(hù)構(gòu)件，其安置于所述固定臺與所述移動臺之間、圍繞所述支撐件中的每一個(gè)，且經(jīng)配備以延伸以及收縮。所述固定臺可位于所述移動臺與所述驅(qū)動單元之間。所述固定臺可包含位于所述處理室的底部表面與所述移動臺之間的第一固定臺。所述固定臺可包含位于所述處理室的上部表面與所述移動臺之間的第二固定臺。所述支撐件可包含連接到所述移動臺的下部表面的至少一個(gè)第一支撐件。所述支撐件可包含連接到所述移動臺的上部表面的至少一個(gè)第二支撐件。并未連接到所述驅(qū)動單元的所述支撐件是導(dǎo)桿。所述固定臺可與所述處理室的側(cè)壁以密封方式組合。所述第一 門以及所述第二門可垂直于彼此而安置。所述濕式處理工藝可更包含安裝于所述處理室中且將處理液體供應(yīng)到所述襯底上的濕式處理單元。
如上文所述，根據(jù)本發(fā)明，由于形成上下移動移動臺的升高系統(tǒng)的支撐件以及驅(qū)動單元可被保護(hù)以免受處理溶液影響，因此不必通過使用具有高的耐腐蝕性以及高的耐化學(xué)性的昂貴材料來形成這些構(gòu)成元件，從而降低濕式處理設(shè)備的制造成本。又，濕式處理設(shè)備中的升高系統(tǒng)的耐久性可增加。又，即使?jié)袷教幚韱卧惭b于處理室中，升高系統(tǒng)仍可安裝于處理室中。處理室的上部表面和/或底部表面可被保護(hù)以免受處理溶液的分散影響。由于處理液體是由第一固定臺收集，因此處理液體的排放為順利的且處理液體的處理為容易的，從而減少環(huán)境污染。根據(jù)本發(fā)明的濕式處理設(shè)備可用作方向轉(zhuǎn)換設(shè)備，其在用于處理線性布置的襯底的表面的系統(tǒng)中轉(zhuǎn)換襯底的移動方向。


通過參看所附圖式詳細(xì)描述本發(fā)明的示范性實(shí)施例，本發(fā)明的以上以及其它特征與優(yōu)點(diǎn)將變得更加顯而易見。圖1是顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的濕式處理設(shè)備的配置的示意圖。圖2是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的圖1的移動臺的實(shí)例的透視圖。圖3是顯示圖2的移動 臺上的襯底的傾斜狀態(tài)的示意圖。圖4是顯示根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的濕式處理設(shè)備的配置的示意圖。圖5是顯示根據(jù)本發(fā)明的再一實(shí)施例的濕式處理設(shè)備的配置的示意圖。圖6是具有四個(gè)支撐件的移動臺的示意性平面圖。
具體實(shí)施例方式現(xiàn)將參看顯示本發(fā)明的示范性實(shí)施例的附圖來更全面地描述本發(fā)明。圖1是顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的濕式處理設(shè)備的配置的示意圖。如圖1中所示，根據(jù)當(dāng)前實(shí)施例的濕式處理設(shè)備包含處理室20、移動臺40以及第一固定臺51。移動臺40以及第一固定臺51安置于處理室20中。處理室20可為將襯底10進(jìn)行濕式處理的腔室，且包含襯底10進(jìn)入所通過的第一門21以及襯底10退出所通過的第二門22。第一門21以及第二門22可在垂直于彼此的方向上安置。在本發(fā)明的實(shí)施例中，第一門21安置于處理室20的側(cè)壁的上側(cè)上，且第二門22安置于第一門21的正下方。然而，本發(fā)明不限于此，即，第二門22可安置于處理室20的側(cè)壁的上側(cè)上，且第一門21可安置于第二門22的正下方。又，第一門21可形成于處理室20的側(cè)壁的上側(cè)上，且第二門22可安置于處理室20的另一側(cè)壁的下側(cè)上。又，第一門21可安置于處理室20的側(cè)壁的下側(cè)上，且第二門22可安置于處理室20的另一側(cè)壁的上側(cè)上。盡管未圖示，但扇形過濾器(fan filter)單元(未圖示)可安裝于處理室20的外部區(qū)域上。扇形過濾器單元將處理室20的內(nèi)區(qū)域維持為清潔的，且通過執(zhí)行通風(fēng)而防止顆粒附著到襯底10的表面。襯底10放置于處理室20中的移動臺40上。圖2是圖1的移動臺40的實(shí)例的透視圖。如圖2中所示，移動臺40可包含框架41?？蚣?1包含:第一框架411以及第二框架412，其在X方向上彼此平行而延伸，X方向是襯底10的水平移動方向Xl ;以及第三框架413以及第四框架414，其在Y方向上彼此平行而延伸，Y方向是垂直于襯底10的水平移動方向Xl的方向。第一至第四框架411至414經(jīng)組合以大致形成四邊形。位于水平移動方向Xl的邊緣上的第三框架413定位為低于其他框架，使得襯底10可容易地進(jìn)入處理室20中。盡管未圖示，但當(dāng)襯底10在不同于進(jìn)入方向的方向上退出時(shí)，第四框架414連同第三框架413也可定位為低于第一框架411以及第二框架412。支撐襯底10的側(cè)表面的支撐滾筒43安裝于第一框架411以及第二框架412的上部表面上。又，支撐滾筒43可安裝于第四框架414上，第四框架414安置于水平移動方向Xl的另一邊緣上。如圖2中所示，多個(gè)支撐桿421是通過在第一框架411以及第二框架412上分開預(yù)定間隙而安置。分開預(yù)定間隙的多個(gè)驅(qū)動輥422耦接到支撐桿421中的每一個(gè)。支撐桿421中的每一個(gè)的兩個(gè)邊緣分別埋入于第一框架411以及第二框架412中。齒輪(未圖示)安裝于支撐桿421中的每一個(gè)的兩個(gè)邊緣上。螺旋齒輪(helical gear)安裝于第一框架411以及第二框架412中的一個(gè)上，且螺旋齒輪由額外驅(qū)動單元(未圖示)旋轉(zhuǎn)。當(dāng)螺旋齒輪由驅(qū)動單元旋轉(zhuǎn)時(shí)，支撐桿421通過動力從螺旋齒輪的傳送而旋轉(zhuǎn)，且因此，支撐輥422也旋轉(zhuǎn)。如圖1中所示，襯底10放置于驅(qū)動輥422上，且襯底10可通過驅(qū)動輥422的旋轉(zhuǎn)在水平移動方向Xl上移動。多個(gè)支撐件44連接到移動臺40，且可延伸且可收縮的保護(hù)構(gòu)件45形成以圍繞支撐件44中的每一個(gè)的外側(cè)。移動臺40可通過支撐件44的移動而上下移動，即，在圖2中，在支撐件44的Z方向上向上移動以及向下移動(或延伸以及收縮移動)。此時(shí)，當(dāng)在位于Y方向的邊緣上的一對支撐件44與在Y方向的另一邊緣上的一對支撐件44之間的延伸以及收縮長度不同時(shí)，移動臺40可傾斜預(yù)定角0，且因此，如圖3中所示，放置于移動臺40上的襯底10也可從第一位置Pl傾斜到第二位置P 2。在此狀況下，由于第一框架411上的支撐滾筒43 (見圖2)，襯底10可能不會進(jìn)一步下降。移動臺40的傾斜對于處置大型襯底為非常有用的，且對從襯底10的表面排放處理液體也是有用的。在圖1的濕式處理設(shè)備中，用于將處理液體施加到襯底10的表面上的濕式處理單元30提供于處理室20中。濕式處理單元30可供應(yīng)用于清潔或蝕刻襯底10的表面的至少一種處理液體，且可為經(jīng)設(shè)計(jì)以在沿著襯底10的表面在水平方向上往復(fù)地線性移動的同時(shí)將處理液體噴射到襯底10的表面上的線性刀片(blade)，或經(jīng)設(shè)計(jì)以通過至少一個(gè)噴嘴噴灑襯底10的表面的全部或部分的噴灑單元。驅(qū)動單元60安裝于處理室20的下側(cè)上。第一支撐件44a連接到驅(qū)動單元60。第一支撐件44a的上部末端與移動臺40的下部表面組合。驅(qū)動單元60同時(shí)或部分地升高(或降低)第一支撐件44a，且因此，移動臺40可在處理室20中升高(或降低)。驅(qū)動單元60以及第一支撐件44a可為圓柱體裝置或馬達(dá)與齒輪裝置。面對移動臺40的第一固定臺51位于處理室20中。第一固定臺51安置于移動臺40與處理室20的底部表面24之間。驅(qū)動單元60安置于第一固定臺51與處理室20的底部表面24之間，且由此，連接到驅(qū)動單元60的第一支撐件44a通過第一固定臺51連接到移動臺40。第一支撐件44a經(jīng)安裝，使得第一支撐件44a的升高移動不被第一固定臺51中斷。第一支撐件44a由第一保護(hù)構(gòu)件45a圍繞。第一保護(hù)構(gòu)件45a形成以上下延伸或收縮。第一保護(hù)構(gòu)件45a可由具有高的耐化學(xué)性的合成樹脂材料形成，以防止第一支撐件44a受從濕式處理單元30所噴射的處理液體影響。因此，在圖1的濕式處理設(shè)備中，根據(jù)當(dāng)前實(shí)施例，位于移動臺40與第一固定臺51之間的第一支撐件44a處于由第一保護(hù)構(gòu)件45a密封以免受處理液體影響的狀態(tài)。第一保護(hù)構(gòu)件45a可按風(fēng)箱的形狀形成。第一固定臺51可與處理室20的側(cè)壁組合且密封。因此，驅(qū)動單元60以及第一支撐件44a的位于第一固定臺51下的部分可被保護(hù)以免受處理液體影響。盡管未圖示，但排水系統(tǒng)可與第一固定臺51組合，使得朝向處理室20的底部表面24下降的處理液體收集于第一固定臺51上且順利地排放到外部。在本發(fā)明中，由于第一支撐件44a以及驅(qū)動單元60被保護(hù)以免受處理液體影響，因此不必由昂貴的高抗腐蝕性以及高耐化學(xué)性材料形成第一支撐件44a以及驅(qū)動單元60，從而降低制造成本且增加第一支撐件44a以及驅(qū)動單元60的耐久性。又，盡管濕式處理單元30安裝于處理室20中，但用于升高移動臺40的元件(諸如，第一支撐件44a以及驅(qū)動單元60)也可安裝于處 理室20中。在圖1的濕式處理設(shè)備的狀況下，襯底10通過第一門21進(jìn)入處理室20中。此時(shí)，移動臺40位于處理室20的上部部分上以收納襯底10。之后，移動臺40朝向處理室20的下部部分降低，且關(guān)于襯底10的表面的濕式處理由濕式處理單元30執(zhí)行。之后，襯底10通過第二門22從處理室20排出。濕式處理單元30可位于處理室20的上部部分上。在此狀況下，當(dāng)移動臺40位于處理室20的上部部分上時(shí)，可執(zhí)行濕式處理。當(dāng)濕式處理完成時(shí)，保留于襯底10的表面上的處理液體可由上文所述的傾斜工藝，或通過另外安裝氣刀單元或濕式處理單元30將空氣噴灑到襯底10的表面上來去除。圖4是顯示根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的濕式處理設(shè)備的配置的示意圖。第二固定臺52安裝于移動臺40與處理室20的上部表面23之間。驅(qū)動單元60位于第二固定臺52與處理室20的上部表面23之間。第二支撐件44b連接于移動臺40與驅(qū)動單元60之間。因此，連接到驅(qū)動單元60的第二支撐件44b通過第二固定臺52連接到移動臺40。第二支撐件44b經(jīng)安裝，使得第二支撐件44b的升高移動(或收縮移動)不被第二固定臺52中斷。第二支撐件44b由第二保護(hù)構(gòu)件45b圍繞。第二保護(hù)構(gòu)件45b形成以向下延伸以及向上收縮。第二保護(hù)構(gòu)件45b可由具有高的耐化學(xué)性的合成樹脂材料形成，以保護(hù)第二支撐件44b以免受處理液體影響。因此，在圖4的濕式處理設(shè)備中，位于移動臺40與第二固定臺52之間的第二支撐件44b由第二保護(hù)構(gòu)件45b密封以免受處理液體影響。第二保護(hù)構(gòu)件45b可按風(fēng)箱的形狀形成。第二固定臺52可以密封方式附接到處理室20的側(cè)壁。因此，驅(qū)動單元60以及第二支撐件44b位于第二固定臺52上方的部分可被保護(hù)以免受處理室20中的處理液體和/或強(qiáng)腐蝕性氣氛影響。此濕式處理方法與參看圖1所述的濕式處理方法相同，且由此，將不重復(fù)其詳細(xì)描述。圖5是顯示根據(jù)本發(fā)明的再一實(shí)施例的濕式處理設(shè)備的配置的示意圖。第一固定臺51在移動臺40與處理室20的底部表面24之間進(jìn)一步安裝到圖4的濕式處理設(shè)備。因此，溢出到處理室20的底部表面24上的處理液體可收集于第一固定臺51上。
多個(gè)第一支撐件44a安裝于移動臺40的下部表面上，且第一支撐件44a的邊緣可通過第一固定臺51延伸到處理室20的底部表面24。第一支撐件44a并未連接到驅(qū)動單元60，但執(zhí)行為導(dǎo)引移動臺40以具有穩(wěn)定的升高移動的導(dǎo)桿。因此，當(dāng)驅(qū)動單元60位于處理室20的上部部分上時(shí)，移動臺40可穩(wěn)定地上下移動。然而，本發(fā)明不限于此，即，額外驅(qū)動單元(未圖示)可安裝于第一固定臺51下方且第一支撐件44a可連接到驅(qū)動單元。又，在圖5中，位于處理室20的上部部分上的驅(qū)動單元60可位于第一固定臺51下方，且第二支撐件44b可用作導(dǎo)桿。第一支撐件44b如圖1中的第一支撐件44a由第一保護(hù)構(gòu)件45a圍繞，且由此，將不重復(fù)其詳細(xì)描述。圖6是移動臺40的示意性平面圖，且移動臺40可在四個(gè)轉(zhuǎn)角上具有四個(gè)支撐件(第一支撐件44a以及第二支撐件44b)。S卩，在圖6中，第一支撐點(diǎn)441以及第三支撐點(diǎn)443可位于鄰近于水平移動方向Xl (襯底沿著其進(jìn)入以及退出)的兩個(gè)轉(zhuǎn)角上，且第二支撐點(diǎn)442以及第四支撐點(diǎn)444可分別位于與第一支撐點(diǎn)441以及第三支撐點(diǎn)443相對的兩個(gè)轉(zhuǎn)角上。上文所述的第一支撐件44a以及第二支撐件44b安裝于第一至第四支撐點(diǎn)441至444上。根據(jù)本發(fā)明，圖5的第一支撐件44a以及第二支撐件44b可用上文所述的結(jié)構(gòu)的組合安裝于第一至第四支撐點(diǎn)441至444上。舉例來說， 第一支撐點(diǎn)441上的支撐件可具有與第一支撐件44a相同的結(jié)構(gòu)，且第二至第四支撐點(diǎn)442至444上的支撐件可具有與第二支撐件44b相同的結(jié)構(gòu)。此時(shí)，驅(qū)動單元可通過安置于處理室的下部部分上而連接到第一支撐件44a，或可通過安置于處理室的上部部分上而連接到第二支撐件44b。又，在此狀況下，另一第一支撐件44a可進(jìn)一步安置于第二至第四支撐點(diǎn)442至444上。或者，第一支撐點(diǎn)441上的支撐件可具有與第二支撐件44b相同的結(jié)構(gòu)，且第二至第四支撐點(diǎn)442至444上的支撐件可具有與第一支撐件44a相同的結(jié)構(gòu)。此時(shí)，如上文所述，驅(qū)動單元可通過安置于處理室的下部部分上而連接到第一支撐件44a，或通過安置于處理室的上部部分上而連接到第二支撐件44b。又，在此狀況下，另一第一支撐件44a可進(jìn)一步安置于第一支撐點(diǎn)441上。 又，第一支撐件44a可安置于第一支撐點(diǎn)441以及第三支撐點(diǎn)443上，且第二支撐件44b可安置于第二支撐點(diǎn)442以及第四支撐點(diǎn)444上。此時(shí)，驅(qū)動單元可通過安置于處理室的下部部分上而連接到第一支撐件44a，或通過安置于處理室的上部部分上而連接到第二支撐件44b。又，在此狀況下，另一第一支撐件44a可進(jìn)一步安置于第二支撐點(diǎn)442以及第四支撐點(diǎn)444上。第一支撐點(diǎn)441以及第三支撐點(diǎn)443上的支撐件中的至少一個(gè)(其鄰近于襯底進(jìn)入以及退出所沿著的水平移動方向XI)經(jīng)配置為第一支撐件44a。因此，在襯底在移動臺40上水平地移動時(shí)襯底的移動對支撐件的干擾的可能性可得以最小化。如上文所述，在根據(jù)本發(fā)明的濕式處理設(shè)備中，濕式處理單元30在處理室20中的安裝并非必需的。舉例來說，濕式處理單元30可安裝于連接到處理室的另一處理室中。在此狀況下，處理室20暴露于腐蝕氣氛，且由此，如上文所述，襯底升高系統(tǒng)可被保護(hù)以免受腐蝕氣氛影響。
盡管已參考本發(fā)明的示范性實(shí)施例特定地顯示且描述了本發(fā)明，任何所屬技術(shù)領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員，當(dāng)可作些許改`動與潤飾，而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。
權(quán)利要求
1.一種濕式處理設(shè)備，包括: 處理室，其包括襯底進(jìn)入所通過的第一門以及所述襯底退出所通過的第二門； 移動臺，其經(jīng)配備以在所述處理室中上下移動且其上放置有所述襯底； 多個(gè)支撐件，其連接到所述移動臺； 驅(qū)動單元，其經(jīng)配備以通過連接到所述支撐件中的至少一個(gè)而上下移動所述移動臺； 固定臺，其固定地安置于所述處理室中且面對所述移動臺，且所述支撐件中的至少一個(gè)通過所述固定臺；以及 多個(gè)保護(hù)構(gòu)件，其安置于所述固定臺與所述移動臺之間、圍繞所述支撐件中的每一個(gè)，且經(jīng)配備以延伸以及收縮。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕式處理設(shè)備，其特征在于所述固定臺位于所述移動臺與所述驅(qū)動單元之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕式處理設(shè)備，其特征在于所述固定臺包括位于所述處理室的底部表面與所述移動臺之間的第一固定臺。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕式處理設(shè)備，其特征在于所述固定臺包括位于所述處理室的上部表面與所述移動臺之間的第二固定臺。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕式處理設(shè)備，其特征在于所述支撐件包括連接到所述移動臺的下部表面的至少一個(gè)第一支撐件。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕式處理設(shè)備，其特征在于所述支撐件包括連接到所述移動臺的上部表面的至少一個(gè) 第二支撐件。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕式處理設(shè)備，其特征在于并未連接到所述驅(qū)動單元的所述支撐件是導(dǎo)桿。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一權(quán)利要求所述的濕式處理設(shè)備，其特征在于所述固定臺與所述處理室的側(cè)壁以密封方式組合。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一權(quán)利要求所述的濕式處理設(shè)備，其特征在于所述第一門以及所述第二門垂直于彼此而安置。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一權(quán)利要求所述的濕式處理設(shè)備，更包括安裝于所述處理室中且將處理液體供應(yīng)到所述襯底上的濕式處理單元。
全文摘要
本發(fā)明提供一種濕式處理設(shè)備，其包含處理室，其包括襯底進(jìn)入所通過的第一門以及所述襯底退出所通過的第二門；移動臺，其經(jīng)配備以在所述處理室中上下移動且其上放置有所述襯底；多個(gè)支撐件，其連接到所述移動臺；驅(qū)動單元，其經(jīng)配備以通過連接到所述支撐件中的至少一個(gè)而上下移動所述移動臺；固定臺，其經(jīng)固定地安置以面對所述移動臺，且所述支撐件中的至少一個(gè)通過固定臺；以及多個(gè)保護(hù)構(gòu)件，其安置于所述固定臺與所述移動臺之間、圍繞所述支撐件中的每一個(gè)，且經(jīng)配備以延伸以及收縮。
文檔編號H01L21/67GK103247553SQ201210375148
公開日2013年8月14日 申請日期2012年9月27日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月10日
發(fā)明者張承逸, 安吉秀 申請人:株式會社Mm科技