專利名稱：排氣捕集器的制作方法
技術領域：
本發(fā)明依據2011年9月13日申請之日本專利申請第2011-199622號之優(yōu)先權，將該日本申請的全部內容作為參考文獻引用于文中。本發(fā)明涉及被用于對基板進行氣體處理的處理裝置的排氣捕集器?！?br> 背景技術：
在半導體裝置與平板顯示器(FPD)的制造工序中，成膜、熱處理、干蝕刻、清潔等這樣的工序都是在真空處理室中，使用規(guī)定氣體進行的。例如，采用CVD (化學氣相沉積)法進行成膜的成膜裝置具有反應室，該反應室能將內部排氣成真空；基板支承部，該基板支承部被配置于該反應室內，支承半導體晶片等的基板；基板加熱部，該基板加熱部對被基板支承部支承的基板進行加熱；真空栗等排氣裝置，該真空泵等排氣裝置經由規(guī)定的排氣管道與反應室連接，對反應室排氣；以及原料供給系統，該原料供給系統向反應室供給原料氣體。在此類成膜裝置中，被從原料供給系統向反應室供給的原料氣體因被基板加熱部加熱的基板的熱而在氣相中或基板面上進行熱分解或化學反應，從而生成反應生成物，該反應生成物堆積在基板上，由此形成薄膜。從反應室中排出的廢氣中，包含即使其生成也不會有助于薄膜的成膜的反應生成物與反應副生成物。在這樣的反應生成物與反應副生成物中，凝聚而成為粒子狀的生成物在廢氣沿排氣管道內流動時會出現堆積在排氣管道和真空泵的內壁的情況。如堆積此類堆積性的物質，則可能出現排氣能力低下與真空泵故障。因此，通常使用捕集廢氣中的堆積性物質、防止其流向下游側的排氣捕集器。排氣捕集器中有如下的類型，S卩、將翅片的多塊板配置于內部，加長實際的氣體流路，通過長時間地使廢氣接觸該板面，來捕集廢氣中的堆積性物質。另外，還有如下的類型，即、不設置翅片板，而是設置有多塊有開口的擋板，通過使廢氣多次碰撞擋板面來捕集廢氣中的堆積性物質。對于上述排氣捕集器而言，基本上都是使廢氣中的堆積性物質堆積于擋板和翅片板的表面上進行捕集，因此有時會因為擋板和翅片板的配置與配置間隔，而使大量的堆積性物質堆積于表面上，堵塞流路，或者，即便難以堵塞流路，堆積性物質的捕集效率也很難提聞。

發(fā)明內容
本發(fā)明提供既能提聞捕集效率又能減少堵塞的排氣捕集器。根據本發(fā)明的一個方式，提供一種排氣捕集器，具備流入口，該流入口使來自處理裝置的廢氣流入；流出口，該流出口使從上述流入口流入的上述廢氣流出；以及多塊擋板，該多塊擋板具有一個或多個具有第一開口尺寸的第一開口部、以及多個具有比上述第一開口尺寸小的第二開口尺寸的第二開口部，在上述流入口與上述流出口之間，該多塊擋板被配置為與從上述流入口流向上述流出口的上述廢氣的流動方向相交叉，上述多塊擋板中的一塊擋板的上述第一開口部與相鄰擋板的上述第一開口部相對于上述流動方向相互錯位，上述多塊擋板中相鄰的兩塊擋板的間隔在上述第二開口尺寸的O. 5倍至2倍的范圍內。


圖1是表示本發(fā)明的實施方式的排氣捕集器以及使用該排氣捕集器的成膜裝置的示意圖。圖2是表示本發(fā)明的實施方式的排氣捕集器的示意剖視圖。圖3是表示被配置于圖2的排氣捕集器內的擋板的示意俯視圖。圖4是表示擋板、對擋板進行定位的桿、調節(jié)擋板間隔的墊片之間關系的示意圖。圖5是說明相鄰兩塊擋板的位置關系的俯視圖。圖6是說明被配置于圖2的排氣捕集器上的過濾器單元的過濾器的構造的俯視圖。圖7A 圖7C是說明通過圖2的排氣捕集器去除廢氣中的堆積性物質的原理的說明圖。圖8A及圖SB是說明圖2的排氣捕集器的適當間隔尺寸的說明圖。圖9A及圖9B是說明圖2的排氣捕集器的小口徑孔的適當間隔的說明圖。
具體實施例方式以下根據附圖對本發(fā)明的實施方式的成膜方法以及成膜裝置進行詳述。圖1是表示本發(fā)明的實施方式的排氣捕集器以及使用該排氣捕集器的成膜裝置的示意圖。如圖所示，成膜裝置20具有處理容器22，該處理容器22能夠收納多片被處理體亦即半導體晶片W。該處理容器22由縱向長的內管24和縱向長的外管26構成，該內管24具有有頂的圓筒體形狀；該外管26具有頂的圓筒體形狀。外管26被配置為在內管24的外周與外管26的內周之間留有規(guī)定間隔地包圍內管24。另外，內管24與外管26例如都由石英形成。在外管26的下端部經由O型環(huán)等密封部件30氣密地連接有具有圓筒體形狀例如為不銹鋼材質的歧管28。利用該歧管28支承外管26的下端部。另外，該歧管28被未圖示的底板支承。另外，在歧管28的內壁設置有具有環(huán)形形狀的支承臺32，內管24的下端部被該支承臺32支承。在處理容器22的內管24內，收納有作為晶片保持部的晶舟34。作為被處理體的多個晶片W被以固定的間距保持于晶舟34。在本實施方式中，具有300mm直徑的例如5(Tl00片左右的晶片W以大致相等的間距被晶舟34保持為多級。晶舟34能夠以如后所述的方式升降，且通過歧管28的下部開口，從處理容器22的下方被收納于內管24內，或從內管24被取出。晶舟34例如由石英制作。另外，在收納晶舟34時，處理容器22的下端亦即歧管28的下部開口利用例如由石英、不銹鋼板構成的蓋部36密閉。在處理容器22的下端部與蓋部36之間，為了保持氣密性，例如夾設有O型環(huán)等密封部件38。晶舟34經由石英制的保溫筒40被載置于工作臺42上，該工作臺42被支承于旋轉軸44的上端部，該旋轉軸44貫通于蓋部36，該蓋部36對歧管28的下端開口進行開閉。
在旋轉軸44與蓋部36上供旋轉軸44貫通的孔之間，例如設置有磁流體密封件46，由此旋轉軸44被氣密地密封，并可旋轉地被支承。旋轉軸44例如安裝于被舟升降機等升降機構48支承的臂50的前端。晶舟34及蓋部36能夠一體式地升降。另外，還可以將工作臺42固定設置于蓋部36 —側，不使晶舟34旋轉，對晶片W實施成膜處理。此外，在處理容器22的側部設置有包圍處理容器22的例如由碳精金屬絲制加熱器構成的加熱部(未圖示)，由此位于其內側的處理容器22及其中的晶片W被加熱。另外，成膜裝置20中設置有供給原料氣體的原料氣體供給源54、供給反應氣體的反應氣體供給源56以及供給惰性氣體以作為吹掃氣體的吹掃氣體供給源58。原料氣體供給源54存儲有硅烷(SiH4)氣體、二氯甲硅烷(DCS)氣體等含硅氣體，且經由設置有流量控制器及開閉閥(未圖示)的配管而與氣體噴嘴60連接。氣體噴嘴60氣密地貫通歧管28，在處理容器22內彎曲為L字形狀，且在內管24內的整個高度方向上延伸。在氣體噴嘴60以規(guī)定的間距形成有多個氣體噴射孔60A，能夠從橫向對被晶舟34支承的晶片W供給原料氣。氣體噴嘴60例如能夠由石英制作。反應氣體供給源56存儲例如氨(NH3)氣，經由設置有流量控制器及開閉閥(未圖示)的配管而與與氣體噴嘴64連接。氣體噴嘴64氣密地貫通歧管28，在處理容器22內彎曲成L字形狀，且在內管24內的整個高度方向上延伸。在氣體噴嘴60以規(guī)定的間距形成有多個氣體噴射孔64A，能夠從橫向對被晶舟34支承的晶片W供給反應氣。氣體噴嘴64例如能夠由石英制作。吹掃氣體供給源58存儲掃吹氣體，經由設置有流量控制器及開關閥(無圖示)的配管，與氣體噴嘴68連接。氣體噴嘴68氣密地貫通歧管28，在處理容器22內，彎曲為L字形狀，在內管24內的整個高度方向延伸。在氣體噴嘴68以規(guī)定的間距形成有多個氣體噴射孔68A，能夠從橫向對被晶舟34支承的晶片W供給掃吹氣體。氣體噴嘴68例如能夠以石英制作。另外，作為掃吹氣體，例如能夠使用Ar、He等稀有氣體和氮氣等惰性氣體。另外，將各氣體噴嘴60、64、68設置為集合于內管24內的一側(在圖不例中，因空間關系，將噴嘴68記載于相對于其他的氣體噴嘴60、64的相反側)，在與該各氣體噴嘴60、
64、68對置的內管24的側壁上，沿上下方向形成有多個氣體流通孔72。因此，被從氣體噴嘴60、64、68供給的氣體通過晶片間而在水平方向上流動，并通過氣體流通孔72，被引導入內管24與外管26之間的間隙74。另外，在歧管28的上部側，形成有與內管24及外管26之間的間隙74連通的排氣口 76，且在該排氣口 76設置有對處理容器22進行排氣的排氣系統78。排氣系統78具有與排氣口 76連接的配管80，在配管80的中途，依次設置有壓力調節(jié)閥80B和真空泵82，該壓力調節(jié)閥80B能夠調節(jié)閥芯的開度，并通過改變該閥芯的開度來調節(jié)處理容器22內的壓力。由此，能夠對處理容器22內的環(huán)境進行壓力調節(jié)并排氣直至達到規(guī)定壓力。另外，在配管80且在真空泵82的下游側設置有本發(fā)明的實施方式所涉及的排氣捕集器10、連結于排氣捕集器10的上部的過濾器單元14。由此，通過真空泵82從處理容器22進行排氣，被從真空泵82排出的廢氣流入排氣捕集器10。另外，在過濾器單元14的下游側，配管80被連接于排氣設備(未圖示)。由此，在排氣捕集器10去除了堆積性物質后的廢氣流向排氣設備，在此處，去除廢氣中所含的例如未分解的氨氣等有毒氣體后將其排放到大氣中。
其次參考圖2至圖5，說明排氣捕集器10。如圖2所示，排氣捕集器10具有主體11，該主體11具有上端開口、底部密封的圓筒狀形狀；頂板11a，該頂板Ila密封主體11的上端開口 ；多塊擋板12，該擋板12在主體11內沿高度方向上以規(guī)定間隔配置。在主體11的側周部的下方部分設置有氣體流入口11b，在頂板Ila設置有氣體流出口 11c。頂板Ila經由O型環(huán)、金屬密封部件等密封部件(未圖示)，被固定于主體11的上端開口邊緣，由此，主體11與頂板Ila之間被密封。另外，在主體11內設置有桿lie,該桿Ile從底部中央與底部幾乎垂直地延伸。桿Ile如后所述，具有對擋板12進行定位的功能。另外，在主體11的側周部，從中央到上方部分設置有冷卻套管13。在冷卻套管13的下方部分設置有流體流入口 13a，在上方部分設置有流體流出口 13b。使被冷機單元(未圖示)調節(jié)溫度的流體以如下的方式循環(huán)流動，即、從流體流入口 13a向冷卻套管13內供給，并從流體流出口 13b流出，返回冷機單元的方式，由此，能夠將主體11維持于規(guī)定的溫 度。來自成膜裝置20的廢氣被高溫加熱的情況很多，因此，主體11與擋板12也被加熱。由此，堆積性物質的附著系數降低。但是，通過冷機單元將主體11維持于規(guī)定溫度，由此能夠防止擋板12被加熱，從而能夠提高附著系數。即，通過設置有冷卻套管13，并利用冷機單元調節(jié)主體11的溫度，能夠增加捕集量。參照圖3，擋板12具有圓板狀的上表面形狀，例如，以不銹鋼等金屬形成。擋板12的厚度優(yōu)選設定為在擋板12上附著有堆積性物質時，擋板12能夠承受堆積性物質的重量。例如，擋板12的厚度例如可以是從O. 5mm到5. Omm,在本實施方式中，約為1mm。另外,對于擋板12的外徑而言，只要是擋板12能夠設置于本體11內的范圍內，則優(yōu)選為盡可能接近主體11的內徑的數值，在本實施方式中約為200mm。擋板12具有4個大口徑孔12a、多個(在圖示例中為38個)小口徑孔12b以及位于中央的導向孔12c。4個大口徑孔12a的中心位于與擋板12的外周圓同心的圓的圓周上，以約45°的角度間隔彼此分離。大口徑孔12a的內徑優(yōu)選設定為能夠在擋板12形成例如4個大口徑孔12a。例如，大口徑孔12a的內徑可以是從42mm到76mm，在本實施方式中約為50mmo另外，多個小口徑孔12b在4個大口徑孔12a以外的部分，被以規(guī)定的規(guī)律性或隨機地配置。在圖示的例子中，在導向孔12c的周圍，以60°的角度間隔設置有6個小口徑孔12b，在相鄰的兩個大口徑孔12a之間，在擋板12的半徑方向上以幾乎相等的間隔設置有4個小口徑孔12b。另外，小口徑孔12b的內徑比大口徑孔12a的內徑小，例如，優(yōu)選從IOmm到20mm,在本實施方式中，約為12mm。導向孔12c具有比上述桿Ile的外徑略大的內徑，通過將桿Ile插入導向孔12c，來對擋板12進行定位。具體而言，如圖4所示，擋板12與供桿lie插入的圓筒狀的墊片12s在上下方向上交替地插入于桿lie，由此擋板12在上下方向及水平方向上被定位。通過墊片12s的高度，能夠適當調節(jié)擋板12的間隔，在本實施方式中大約為10_。S卩，擋板12以大約Ilmm的間距(擋板12的厚度Imm與間隔IOmm)被配置。圖5是示意性表示被配置于排氣捕集器10的主體11內的多塊擋板12中的，在上下方向上相鄰的任意兩塊擋板12的俯視圖。圖中，以實線表示上方的擋板12U，以虛線表示下方的擋板12D。如圖示所示，上方擋板12U的大口徑孔12au的位置為，相對于下方擋板12D的大口徑孔12ad，以大約45°的角度錯位。根據此類配置，穿過下方的擋板12D的大口徑孔12ad的廢氣主要穿過上方擋板12U的小口徑孔12bu。即廢氣不是僅穿過大口徑孔12a，而是能夠穿過小口徑孔12b至少一次。如后所述，小口徑孔12b具有捕集包含于沿排氣捕集器10內流動的廢氣中的堆積性物質的功能。另外，大口徑孔12a具有與小口徑孔12b同樣捕集堆積性物質的功能、以及在小口徑孔12b堵塞的情況下提供廢氣流路的功能。再次參照圖2，在主體11的頂板Ila上，氣密地配置有過濾器單元14。排氣捕集器10的內部空間與過濾器單元14的內部空間經由頂板的氣體流出口 Ilc相互連通。在過濾器單元14內，在上下方向上以規(guī)定的間隔配置有多個網板14a。過濾器單元14具有與排氣捕集器10的本體11幾乎相等的內徑，與此相對應，網板14a還具有與擋板12幾乎相等的外徑。 參照圖6,網板14a具有圓板狀的上表面形狀。另外，網板14a具有十字狀的支承部件14b、被支承部件14b支承的網眼部14c、形成于網眼部14c的開口 14d以及形成于中央的導向孔He。網眼部14c例如由不銹鋼制成，優(yōu)選具有比擋板12的小口徑孔12b的內徑小的網眼(開口尺寸)。網眼優(yōu)選例如為5mnTl0mm。通過網板14a，從排氣捕集器10流入的廢氣中殘留的堆積性物質的微小粒子與廢氣中的反應副生成物等被捕集。另外，為了在網眼部14c堵塞的情況下廢氣仍然流動，設置有開口 14d。此外，為了通過插入導桿14f(圖2)對網板14a進行定位而設置有導向孔He。下面參照圖1、以及從圖7A 圖7C至圖9A與圖9B，對廢氣中的堆積性物質怎樣通過發(fā)明的實施方式的排氣捕集器10被捕集加以說明。另外，圖7A 圖7C分別是，從圖5的成膜裝置20 (圖1)排氣并從氣體流入口 Ilb流入本體11內的廢氣的流動方向雖然因擋板12的擋板面(沒有孔12a及12b的部分)略微改變，但是還是沿主體11內從下向上流動(參照箭頭A)。S卩，在主體11內，與沿擋板12的表面方向的流動相比，朝向擋板12流動而穿過大口徑孔12a及小口徑孔12b的流動是主導性的。廢氣穿過大口徑孔12a及小口徑孔12b時，廢氣中的堆積性物質吸附于大口徑孔12a及小口徑孔12b的內邊緣(邊緣)。于是，吸附于邊緣的堆積性物質成為核，相對于該核，廢氣中的堆積性物質進一步吸附，以核為中心，堆積性物質成長下去。其結果是，如圖7B所示，具有幾乎為圓形的截面的堆積物DP以孔12a及12b的邊緣為中心形成(該堆積物DP沿大口徑孔12a及小口徑孔12b的圓形的邊緣成長下去，因此具有環(huán)形的形狀)。如此，能夠從廢氣中有效捕集堆積性物質。如果該堆積物DP進一步成長下去，則如圖7C所示，會變成例如在最下面的擋板12，從邊緣成長的堆積物DP使小口徑孔12b堵塞的狀況。但是，即使在這種情況下，因為該擋板12的大口徑孔12a (圖示省略)沒有堵塞，因此廢氣還會穿過大口徑孔12a朝向上一塊擋板12流動(參照箭頭B)。進而穿過上一塊擋板12的小口徑孔12b (參照箭頭C)。此時，如上所述，廢氣中殘留的堆積性物質在小口徑孔12b的邊緣堆積、成長下去，因此堆積性物質被從廢氣中有效地捕集。另外，在圖7C中，如果堆積性物質被進一步捕集，則在從下方計數的第二塊擋板12的大口徑孔12a的邊緣堆積的堆積物會與在最下方的擋板12的小口徑孔12b的邊緣堆積的堆積物接觸。于是，會被認為該大口徑孔12a被堆積物包圍堵塞。但是，即使在這種情況下，廢氣也能夠通過該大口徑孔12a而流動。圖7C表示沿圖5的1-1線的截面，下方的擋板12 (12D)的小口徑孔12b (12bu)位于上方的擋板12 (12U)的大口徑孔12a (12au)的下方，但是在偏離1-1線的截面中，在大口徑孔12a (12au)的邊緣的下方，沒有小口徑孔12b (12bu)。因此，在上方的擋板12 (12U)的大口徑孔12a (12au)的邊緣的堆積物與下方的擋板12 (12D)之間，存在間隙，廢氣能夠通過該間隙與上方的擋板12 (12U)的大口徑孔12a (12au)向上方流動。另外，如從圖8A中所看到的，小口徑孔12b堵塞時，堆積物DP的圓形狀截面的半徑r幾乎等于小口徑孔12b的內徑d的約二分之一。換言之，到堆積于小口徑孔12b的邊緣的堆積物DP的半徑r變?yōu)樾】趶娇?2b的內徑d的二分之一時為止，都能夠通過小口徑孔12b的邊緣捕集堆積性物質。此處，如圖SB所示，擋板12的間隔g比小口徑孔12b的內徑d的二分之一窄，小口徑孔12b在與相鄰的擋板12的擋板面對置的情況下，堆積于小口徑孔12b的邊緣的堆積物DP在小口徑孔12b堵塞前，會與相鄰的擋板12的擋板面接觸，阻礙廢氣的流通。于是，堆積物DP無法進一步成長。即，該小口徑孔12b即使還能夠捕集廢氣中的堆積性物質，也無法進行捕集了。為了避免出現該狀況，擋板12的間隔g優(yōu)選比小口徑孔12b的內徑d的約二分之一大。但是，從捕集量的觀點出發(fā)，優(yōu)選在廢氣捕集器10的主體11內配置多塊擋板12，因此使擋板12的間隔g過大不是上策。例如，小口徑孔12b堵塞時，其周圍的電導減小，因此會有氣體的流速降低，捕集效率降低的問題。如果將擋板12的間隔g設定為小口徑孔12b的內徑d的約兩倍，則即便在上下相連的兩塊擋板12的各自小口徑孔12b的位置上下一致，且彼此的小口徑孔12b被堆積物堵塞的情況下，在兩塊擋板12的上下方向上也能留有足夠的間隔。因此，能夠抑制堵塞的小口徑孔12b的周圍的導電降低。其結果是還能夠抑制捕集效率降低。另外，小口徑孔12b被堆積物堵塞時的堆積物的半徑如上所述為小口徑孔12b的內徑d的二分之一。因此，上下相鄰的兩塊擋板12的間隔如果是小口徑孔12b的內徑d的約兩倍，則在小口徑孔12b堵塞的情況下，在上下相鄰的兩塊擋板12之間殘留的間隙(堆積物間的間隔)幾乎與小口徑孔12b的內徑d相等。另外，擋板12的間隔g還可以與小口徑孔12b的內徑d相等。即使在這種情況下，在上下相鄰的兩塊擋板12的各自小口徑孔12b的位置上下一致的情況下，在小口徑孔12b堵塞之前，在這兩塊擋板12之間仍留有間隙，能夠確保通過小口徑孔12b的氣體流路。另外，如圖9A所示，優(yōu)選以如下的方式形成兩個小口徑孔12b，即、使在小口徑孔12b堵塞時，一個小口徑孔12b的邊緣的堆積物DP與其相鄰的小口徑孔12b的邊緣的堆積物DP接觸(參照圖中的箭頭E)。換言之，優(yōu)選調節(jié)小口徑孔12b的間隔L，以使在小口徑孔12b堵塞時，在相鄰兩個小口徑孔12b的邊緣的堆積物DP之間不形成間隙G。具體而言，因為小口徑孔12b堵塞時的堆積物的半徑r為小口徑孔12b的內徑d的約二分之一，因此優(yōu)選在一塊擋板12上，相鄰的兩個小口徑孔12b的間隔L不大于小口徑孔12b的內徑d。如此，通過縮小小口徑孔12b的間隔L，能夠高密度地形成小口徑孔12b，因此能夠增加捕集量。另外，作為擋板12的厚度，從在大口徑孔12a及小口徑孔12b的邊緣成核，以核為中心形成具有圓形截面形狀的堆積物的觀點出發(fā)，在擋板12具有能夠承受堆積物的重量的強度的范圍內，優(yōu)選薄的厚度，如上所述，例如優(yōu)選從O. 5mm到5mm。下面，對相對于成膜裝置20使用排氣捕集器10求取捕集量的結果進行說明。在使用的排氣捕集器10中，設定·擋板12的張數19張 擋板12的間隔10mm·大口徑孔12a的數量4個·大口徑孔12a的內徑50mm·小口徑孔12b的數量38個 小口徑孔12b的內徑12mm進而，使成膜裝置20運轉42天，求取捕集了多少氮化硅(實施例)。作為含硅氣體使用DCS氣體，作為氮化氣體使用氨。另外，為了比較，準備了比較例的排氣捕集器。該排氣捕集器在具有與擋板12不同的擋板方面，與排氣捕集器10不同，在其他構成方面，與排氣捕集器10相同。該排氣捕集器中收納著17張僅有4個內徑相等的孔的擋板、以及兩張擋板12。其中，17張擋板的明細為3張形成有具有50mm的內徑的孔的擋板，5張形成有具有40mm的內徑的孔的擋板，以及9張形成有具有20mm內徑的孔的擋板。另外，從氣體流入口 Ilb朝向氣體流出口 1lc的方向，依次配置有2張擋板12、3張形成有具有50mm的內徑的孔的擋板、5張形成有具有40mm的內徑的孔的擋板、以及9張形成有具有20mm_的內徑的孔的擋板。擋板的間隔從氣體流入口 1lb —側朝向氣體流出口 1lc的方向慢慢變窄，并且，氣體流入口 1lb —側的擋板12的間隔為50mm。將這樣的排氣捕集器與成膜裝置20連接，在相同條件下，運轉成膜裝置20。根據試驗前后的排氣捕集器的重量差求得捕集量。其結果是，在實施例中捕集了大約5，920g的氮化硅，而在比較例中，僅捕集了 2，430g的氮化硅。另外，從目視檢查的結果可知，在比較例的排氣捕集器中，中途的擋板堵塞。而在實施例的排氣捕集器10中，在距離氣體流入口 1lb最近的(最下方)的擋板12，幾乎所有的小口徑孔12b都堵塞，而大口徑孔12a的至少中央部開口，進而能夠繼續(xù)使用。從上述結果可知，實施例的排氣捕集器10能夠有效捕集，并且能夠長期不堵塞地使用。如上所述，根據本實施方式的排氣捕集器10，以橫穿廢氣氣流的方式配置具有大口徑孔12a及小口徑孔12b的擋板12，積極地使廢氣中的堆積性物質堆積于擋板12的大口徑孔12a及小口徑孔12b的邊緣，因此能夠更有效地捕集堆積性物質。在以往的廢氣捕集器中，雖然是使堆積性物質堆積在翅片板與擋板的表面，但是如果不是利用面，而是利用大口徑孔12a及小口徑孔12b的邊緣，則容易成核，堆積物DP以核為中心成長下去，因此很明顯捕集效率良好。當然在擋板12的擋板面上也能夠堆積堆積性物質。另外，即使在小口徑孔12b堵塞的情況下，因為大口徑孔12a不堵塞，因此廢氣能夠穿過該擋板12a的大口徑孔12a，堆積性物質被該擋板12的下游側的其他擋板12捕集。即，在一塊擋板12，即使小口徑孔12b堵塞，因為廢氣能夠通過大口徑孔12a流動，因此能夠繼續(xù)使用排氣捕集器10，能夠通過更為下游側的擋板12捕集堆積性物質。在使用以往的翅片板等的排氣捕集器中，為了避免堵塞，例如在廢氣中的堆積性物質的濃度高的流入口一側，加寬翅片板的間隔，在廢氣中的堆積性物質濃度低的流出口一側，縮窄翅片板的間隔。另外，在改變擋板間隔的情況下，需要根據使用的氣體、使用條件，進行例如實驗，決定設定怎樣的間隔。但是，在本實施方式的排氣捕集器10中，即使在小口徑孔12b堵塞的情況下，廢氣也能夠穿過大口徑孔12a，因此沒有必要在氣體流入口 Ilb附近擴寬擋板12的間隔，由此來確保廢氣流路。另外，擋板12的間隔如上所述能夠根據小口徑孔12b的內徑決定，并且，在上下方向上也能夠設定為恒定。為此，能夠緊密地配置擋板12，由此能夠進一步提高捕集效率。以上參照若干實施方式說明了本發(fā)明，但是本發(fā)明并不限定上述實施方式，能夠參照附加的權利要求范圍，實施各種變更與變形。例如，在上述實施方式中，在排氣捕集器10設置4個大口徑孔12a，但是大口徑孔12a的數量可以是I個，2個，還可以是4個以上。另外，在設置有例如3個大口徑孔12a的情況下，優(yōu)選上下相鄰的兩塊擋板12相互以60°的角度錯位。由此，在這兩塊擋板12上，大口徑孔12a就不會上下重疊。在上述實施方式中，在對成膜裝置20的處理容器22進行排氣的真空泵82的下游側配置有排氣捕集器10，但是排氣捕集器10也可以配置于處理容器22與真空泵82之間。在這種情況下，進一步優(yōu)選在壓力調節(jié)閥80B與真空閥82之間配置排氣捕集器10。在上述實施方式中，在排氣捕集器10上配置有過濾器單元14，但是也可以沒有過濾器單元14。另外，排氣捕集器10的氣體流出口 Ilc還可以不在頂板Ila上，而設置在主體11的側周部的上方部分。在上述實施方式中，為了確定擋板12的間隔，而使用圍繞桿Ile周圍的具有圓筒狀形狀的墊片12s，在其他實施方式中，還可以使用具有與擋板12的外徑相等的外徑的、具有能夠支承擋板12的厚度(寬度)的、具有圓環(huán)狀形狀的墊片。另外，大口徑孔12a以及小口徑孔12b的平面形狀不局限于圓形，還可以是多邊形。在小口徑孔12b為多邊形的情況下，很明顯應該根據從多邊形狀孔的邊緣到多邊形狀孔的中心為止的距離，來決定小口徑孔12b的尺寸、間隔以及擋板12的間隔。另外，還可以使大口徑孔12a及小口徑孔12b的邊緣形成得粗糙，不光滑，可以形成為鋸齒狀。如此，能夠促進成核。另外，在上述實施方式中，針對在使用作為原料氣體的硅烷或DCS與作為氮化氣體的氨形成氮化硅膜的成膜裝置20中使用排氣捕集器10的情況進行了說明，但不局限于氮化硅膜的成膜，還可以用于對氧化硅膜、氧氮化硅膜、非晶硅膜、非晶碳膜、聚酰亞胺膜等薄膜進行成膜的成膜裝置。另外，自然不局限于成膜裝置，還可以用于使用氣體的蝕刻裝置與清潔裝置。根據本發(fā)明的實施方式，提供既能提高捕集效率又能降低堵塞的排氣捕集器。
權利要求
1.一種排氣捕集器，其特征在于，具備流入口，該流入口使來自處理裝置的廢氣流入，該處理裝置是使用處理氣體對基板實施規(guī)定處理的裝置；流出口，該流出口使從上述流入口流入的上述廢氣流出；以及多塊擋板，該多塊擋板具有一個或多個具有第一開口尺寸的第一開口部、以及多個具有比上述第一開口尺寸小的第二開口尺寸的第二開口部，在上述流入口與上述流出口之間，該多塊擋板被配置為與從上述流入口流向上述流出口的上述廢氣的流動方向相交叉，上述多塊擋板中的一塊擋板的上述第一開口部與相鄰擋板的上述第一開口部相對于上述流動方向相互錯位，上述多塊擋板中相鄰的兩塊擋板的間隔在上述第二開口尺寸的O. 5倍至2倍的范圍內。
2.根據權利要求1所述的排氣捕集器，其特征在于，上述多塊擋板的上述多個第二開口部以小于等于上述第二開口尺寸的間隔配置。
3.根據權利要求1所述的排氣捕集器，其特征在于，還具有調節(jié)上述多塊擋板間隔的調節(jié)部件。
4.根據權利要求1所述的排氣捕集器，其特征在于，還具備過濾器單元，該過濾器單元與上述流出口連通，且該過濾器單元包含有網板，該網板具有擁有規(guī)定網眼的網眼部件，且該網板相互留有間隔地配置。
5.根據權利要求1所述的排氣捕集器，其特征在于，上述多塊擋板中的相鄰兩塊擋板的間隔在上述第二開口尺寸的O. 5至I倍的范圍內。
全文摘要
本發(fā)明提供一種排氣捕集器。本發(fā)明的排氣捕集器具備流入口，該流入口使來自處理裝置的廢氣流入，該處理裝置為使用處理氣體對基板實施規(guī)定處理的裝置；流出口，該流出口使從上述流入口流入的上述廢氣流出；以及多塊擋板，該擋板具有一個或多個具有第一開口尺寸的第一開口部、以及多個具有比上述第一開口尺寸小的第二開口尺寸的第二開口部，在上述流入口與上述流出口之間該擋板被配置為與從上述流入口流向上述流出口的上述廢氣的流動方向相交叉，上述多塊擋板中的一塊擋板的上述第一開口部與相鄰擋板的上述第一開口部相對于上述流動方向相互錯位，上述多塊擋板中相鄰的兩塊擋板的間隔在上述第二開口尺寸的0.5倍至2倍的范圍內。
文檔編號H01L21/67GK102989238SQ20121033534
公開日2013年3月27日 申請日期2012年9月11日 優(yōu)先權日2011年9月13日
發(fā)明者小池悟 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社