專利名稱：控制液晶顯示裝置接觸孔孔壁角度的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及到液晶顯示領域，特別涉及到一種控制液晶顯示裝置接觸孔孔壁角度的制作方法。
背景技術：
圖1所示是現(xiàn)有技術的液晶面板的剖視圖，參照圖1，液晶面板包括TFT基底60、 面對TFT基底60的濾色基底70、位于TFT基底60和濾色基底70之間的液晶層80。TFT基底60包括相對設置的第一基底10、形成在第一基底10上的TFT20、形成在具有TFT20的第一基底10上的有機絕緣層30、形成在有機絕緣層30上的像素電極40及形成在像素電極40上的第一對準膜50。每個TFT20都包括柵極21、門絕緣層22、有源圖案23、歐姆接觸圖案對、源極25 和漏極沈。利用門絕緣層22使柵極21與源極25和漏極沈絕緣。在門絕緣層22上形成有源圖案23和歐姆接觸圖案24，以根據施加給柵極21上的電源，通過有源圖案23和歐姆接觸圖案M使源極25與漏極26電連接。源極25和漏極沈形成在有源圖案23和歐姆接觸圖案M上。有機絕緣層30形成在TFT20上。在有機絕緣層30上形成用于暴露漏極沈的接觸孔35，接觸孔35的孔壁傾斜角度為θ。像素電極40均勻地形成在有機絕緣層30、透過接觸孔35暴露的漏極沈及接觸孔35的側壁上。第一對準膜50形成在像素電極40上，并具有多個沿預定方向或摩擦方向延伸的對準槽。濾色基底70包括第二基底71、濾色板72、共用電極73和第二對準膜74。共用電極73面向像素電極40，以與TFT基底60相對。濾色基底70與TFT基底60相互面對地配合，而液晶層80位于濾色基底70和TFT基底60之間。目前，制作接觸孔35的制作方法為(1)將絕緣材料用濺射的方式在第一基底10上形成有機絕緣層30 ；(2)在有機絕緣層30上光阻劑；(3)光阻劑層通過使用掩模進行曝光和顯影而圖案化；(4)利用光阻劑圖案，使掩模得到蝕刻，然后進行光阻邊緣清除工藝，以移去部分光阻；(5)對掩模進行燒烤，以硬化得到接觸孔35。上述制作方法，通過烘烤的方式形成接觸孔的孔壁傾斜角度，不能準確的控制接觸孔35的角度，當接觸孔35孔壁傾斜角度小于45度時，會造成接觸孔35的面積過大而降低開口率影響亮度，而接觸孔35孔壁傾斜角度大于70度時會造成下一道ITO制程鍍膜不均產生缺陷。

發(fā)明內容
本發(fā)明的主要目的為提供一種控制液晶顯示裝置接觸孔孔壁角度的制作方法，使接觸孔孔壁傾斜角度控制在45-70度之間，獲得最佳開口率。本發(fā)明提出一種控制液晶顯示裝置接觸孔孔壁角度的制作方法，包括以下步驟A)在基底上涂覆光刻膠，形成光刻膠層；B)利用具有預定圖案的光硬化單體對所述光刻膠層進行曝光；C)利用顯影劑對經過上述處理后的光刻膠層進行顯影時間，控制顯影時間、顯影溫度和顯影劑的濃度，得到預設角度的接觸孔孔壁。優(yōu)選地，所述步驟C)包括固定顯影劑的濃度和顯影溫度，控制顯影時間以得到預設角度的接觸孔孔壁。優(yōu)選地，所述顯示時間為30秒到40秒鐘。優(yōu)選地，所述步驟C)包括固定顯影時間和顯影溫度，控制顯影劑的濃度以得到預設角度的接觸孔孔壁。優(yōu)選地，所述顯示劑的濃度為0. 03%到0. 05%。優(yōu)選地，所述步驟C)包括固定顯影劑的濃度和顯影時間，控制顯影溫度以得到預設角度的接觸孔孔壁。優(yōu)選地，所述顯影溫度為20°C至40°C。優(yōu)選地，在步驟C)之后，還包括步驟D)使用UV光照射光刻膠層，硬化光硬化單體。本發(fā)明提出的一種控制液晶顯示裝置接觸孔孔壁角度的制作方法，區(qū)別于現(xiàn)有技術通過后烘烤溫度來控制接觸孔孔壁角度，本實施例的制作接觸孔的方法利用包括光硬化單體的光刻膠之材料溶點特性，綜合控制顯影溫度、顯影劑的濃度和溫度時間，將接觸孔孔壁的傾斜角度準確控制在45度至70度之間。


圖1為現(xiàn)有技術的液晶面板的剖面圖；圖2為本發(fā)明控制液晶顯示裝置接觸孔孔壁角度的制作方法實施例的流程示意圖；圖3為本發(fā)明控制液晶顯示裝置接觸孔孔壁角度的制作方法實施例中接觸孔孔壁角度與顯影時間的曲線圖；圖4為本發(fā)明控制液晶顯示裝置接觸孔孔壁角度的制作方法實施例中接觸孔孔壁角度與顯影劑濃度的曲線圖；圖5為本發(fā)明控制液晶顯示裝置接觸孔孔壁角度的制作方法實施例中接觸孔孔壁角度與顯影溫度的曲線圖。本發(fā)明目的的實現(xiàn)、功能特點及優(yōu)點將結合實施例，參照附圖做進一步說明。
具體實施例方式應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。眾所周知，光刻膠是一種暫時涂布在晶片上的感光材料，和底片感光材料相似，受照射后發(fā)生化學反應，從而將光掩模上的光學圖案轉印到晶片表面。在接觸孔圖案形成過程中，由于其對解析度要求高，因此一般采用正光刻膠。該類光刻膠通常是通過感光劑而交聯(lián)的酚醛樹脂(Novolac)。曝光時，光子引發(fā)光刻膠中的光敏產酸物(PAG)發(fā)生光化學反應產生質子H+ (光酸)，此質子會與光刻膠反應導致其關系鍵斷裂而解交聯(lián)，使得曝光部分的光刻膠可被顯影劑所溶解，從而得到光刻膠圖案。本發(fā)明提出可以通過綜合控制顯影過程中顯影劑的濃度、顯影時間和顯影溫度三個因素從而將接觸孔孔壁的角度準確定位于一精確的預設值。如圖2所示，本發(fā)明控制液晶顯示裝置接觸孔孔壁角度的制作方法實施例包括步驟A)在基底上涂覆光刻膠，形成光刻膠層；首先，在基底上涂布光刻膠層，該光刻膠層的厚度可為500-10000nm，光刻膠層內含有光硬化單體，以曝光定義出接觸孔圖案。具體為預先利用燒烤的方法除去基底上的水分，隨后通過輔助氣體法涂布HMDS，所述輔助氣體法是指利用輔助氣體夾帶甲基硅氮烷物噴灑至襯底表面，經HMDS處理之后再利用旋轉涂布法涂覆光刻膠層，例如酚醛樹脂型光刻膠，接著對光刻膠層進行預烘烤以除去光刻膠中的過量溶劑使光刻膠硬化并提高光刻膠與襯底間的附著力。B)利用具有預定圖案的掩模對所述光刻膠層進行曝光；利用光學掩模對光刻膠層進行曝光，光刻膠層中的光酸生成劑受光照后產生質子，使得曝光部分的光刻膠被顯影劑所溶解，曝光定義出接觸孔圖案。C)利用顯影劑對經過上述處理后的光刻膠層進行顯影時間，控制顯影時間、顯影溫度和顯影劑的濃度，得到預設角度的接觸孔孔壁。在曝光過程結束之后，利用顯影劑如TMAH(氫氧化四甲基銨)進行顯影過程，將光刻膠與質子反應而降解解交聯(lián)的部分光刻膠溶解掉，同時保留曝光區(qū)域中未充分降解解交聯(lián)的部分光刻膠，從而在光刻膠層上得到接觸孔圖案。在上述步驟C)中，綜合控制顯影劑的濃度、顯影時間和顯影溫度，以準確控制接觸孔孔壁傾斜角度。有如下三種方式(1)可固定顯影劑濃度與顯影溫度，改變顯影時間來控制接觸孔孔壁的傾斜角度。 參照圖3，圖3所示為固定顯影濃度與顯影溫度時，顯影時間與接觸孔孔壁傾斜角度的曲線圖，從圖中可見，當顯影時間越長，即顯影劑浸泡時間越長，顯影反應力越強，接觸孔側邊顯影反應越明顯。當顯影時間為30秒時，接觸孔孔壁傾斜角度約為45度，當顯影時間40秒時，接觸孔孔壁傾斜角度約為70度。(2)可固定顯影時間與顯影溫度，改變顯影劑的濃度來控制接觸孔孔壁的傾斜角度。參照圖4，圖4所示為固定顯影時間與顯影溫度時，顯影劑的濃度與接觸孔孔壁傾斜角度的曲線圖，從圖中可見，當顯影劑的濃度越高，則顯影反應力越強。高濃度顯影劑使接觸孔內部垂直顯影速率比側邊顯影速率大。當顯影劑的濃度為0. 03%時，接觸孔孔壁的傾斜角度約為45度，當顯影劑的濃度為0. 05%時，接觸孔孔壁的傾斜角度約為70度。(3)可固定顯影時間與顯影劑的濃度，改變顯影溫度來控制接觸孔孔壁的傾斜角度。參照圖5，圖5所示為固定顯影時間與顯影劑的濃度時，顯影溫度與接觸孔孔壁傾斜角度的曲線圖，從圖中可見，當顯影溫度越高，則顯影反應力越強。高溫度顯影劑使接觸孔內部垂直顯影速率比側邊顯影速率大。當顯影溫度為20°C時，接觸孔孔壁的傾斜角度約為45 度，當顯影溫度為40°C時，接觸孔孔壁的傾斜角度約為70度。
本實施例中，區(qū)別于現(xiàn)有技術通過后烘烤溫度來控制接觸孔孔壁角度，本實施例的制作接觸孔的方法利用包括光硬化單體的光刻膠之材料溶點特性，將接觸孔孔壁的傾斜角度準確控制在45度至70度之間。進一步地，為了將顯影后的接觸孔圖案成型，進行步驟D)第二次曝光，第二次曝光采用UV光照射的方式，以硬化光硬化單體。以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內。
權利要求
1.一種控制液晶顯示裝置接觸孔孔壁角度的制作方法，其特征在于，包括以下步驟A)在襯底上涂覆光刻膠，形成光刻膠層；B)利用具有預定圖案的光硬化單體對所述光刻膠層進行曝光；C)利用顯影劑對經過上述處理后的光刻膠層進行顯影時間，控制顯影時間、顯影溫度和顯影劑的濃度，得到預設角度的接觸孔孔壁。
2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟C)包括固定顯影劑的濃度和顯影溫度，控制顯影時間以得到預設角度的接觸孔孔壁。
3.如權利要求2所述的方法，其特征在于，所述顯示時間為30秒到40秒鐘。
4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟C)包括固定顯影時間和顯影溫度，控制顯影劑的濃度以得到預設角度的接觸孔孔壁。
5.如權利要求4所述的方法，其特征在于，所述顯示劑的濃度為0.03%到0. 05%。
6.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟C)包括固定顯影劑的濃度和顯影時間，控制顯影溫度以得到預設角度的接觸孔孔壁。
7.如權利要求6所述的方法，其特征在于，所述顯影溫度為20°C至40°C。
8.如權利要求1至7中任一項所述的方法，其特征在于，在步驟C)之后，還包括步驟D)使用UV光照射光刻膠層，硬化光硬化單體。
全文摘要
本發(fā)明揭示了一種控制液晶顯示裝置接觸孔孔壁角度的制作方法，包括以下步驟A)在襯底上涂覆光刻膠，形成光刻膠層；B)利用具有預定圖案的光硬化單體對所述光刻膠層進行曝光；C)利用顯影劑對經過上述處理后的光刻膠層進行顯影時間，控制顯影時間、顯影溫度和顯影劑的濃度，得到預設角度的接觸孔。本發(fā)明利用包括光硬化單體的光刻膠之材料溶點特性，將接觸孔孔壁的傾斜角度準確控制在45度至70度之間。
文檔編號H01L21/768GK102364389SQ20111031502
公開日2012年2月29日 申請日期2011年10月17日 優(yōu)先權日2011年10月17日
發(fā)明者吳若杉, 陳孝賢 申請人:深圳市華星光電技術有限公司