專利名稱：涂覆裝置以及噴嘴的維護方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種對被處理基板涂覆處理液的涂覆裝置以及該涂覆裝置所搭載的具有狹縫狀的噴出口的噴嘴的維護方法。
背景技術：
例如，在FPD (平板顯示器)的制造中，電路圖案的形成通過所謂的光刻工序來進行。在該光刻工序中，在玻璃基板等被處理基板上成膜規(guī)定的膜之后，涂覆處理液、即光致抗蝕劑(下面，稱為抗蝕劑)，從而形成抗蝕劑膜(感光膜)。然后，與電路圖案相對應地曝光上述抗蝕劑膜，對該曝光后的抗蝕劑膜進行顯影處理，并對該顯影處理后的抗蝕劑膜進行圖案形成。在這樣的光刻工序中，作為對被處理基板涂覆抗蝕劑液而形成抗蝕劑膜的方法， 存在從狹縫狀的噴嘴噴出口帶狀地噴出抗蝕劑液而在基板上涂覆抗蝕劑的方法。利用圖12簡單地對使用該方法的以往的抗蝕劑涂覆裝置進行說明。圖12所示的抗蝕劑涂覆裝置200具有載置基板G的載置臺201、配置在該載置臺 201的上方的抗蝕劑供給噴嘴202、使該噴嘴202移動的噴嘴移動部件203。在抗蝕劑供給噴嘴202上設有具有沿著基板的寬度方向延伸的微小間隙的狹縫狀的噴出口 202a，使從抗蝕劑液供給源204供給的抗蝕劑液R從噴出口 20 噴出。然而，因為狹縫狀的噴出口 20 由微小的間隙形成，所以如果在噴嘴待機時不實施噴嘴頂端的維護處理，則會由于抗蝕劑液的干燥等而產(chǎn)生堵塞。因此，如圖12所示，抗蝕劑涂覆裝置200具有用于對噴嘴頂端進行清洗的噴嘴維護部件208。該噴嘴維護部件208例如具有向噴嘴噴出口 20 噴出清洗液(稀釋劑)而對噴嘴頂端進行清洗的噴嘴清洗部208a、用于在溶劑蒸汽氣氛下保持噴出口 20 以使在待機時噴出口 20 不會干燥的噴嘴槽208b。并且，具有起動加注處理部208c，該起動加注處理部208c在對基板G進行涂覆處理之前，向旋轉(zhuǎn)自如的圓柱形狀的起動加注輥的表面噴出抗蝕劑液R，使附著在噴嘴頂端的抗蝕劑液R均勻化(起動加注處理)。在該結(jié)構中，在對基板G進行抗蝕劑涂覆處理時，一邊利用噴嘴移動部件203使噴嘴202水平移動，一邊從狹縫狀的噴出口 20 將抗蝕劑液R帶狀地噴出到基板的整個表面，由此，進行抗蝕劑液R的涂覆處理。另外，在噴嘴202待機時，利用上述噴嘴維護部件208對噴嘴進行維護處理。在該維護處理中，首先，利用噴嘴移動部件203將噴嘴202移動到噴嘴清洗部208a。然后，在噴嘴清洗部208a對噴嘴頂端實施清洗處理，接著，如圖13所示，噴嘴202保持在噴嘴槽208b 中以使噴嘴噴出口 20 不會干燥。另外，對下一個基板G進行涂覆處理之前，將噴嘴202移動到起動加注處理部 208c，通過向起動加注輥噴出抗蝕劑液，對噴嘴頂端實施起動加注處理。另外，在專利文獻1中記載有進行這樣的維護處理的裝置結(jié)構。
專利文獻日本專利第4040025號公報如上所述，在噴嘴待機期間進行的噴嘴202的維護處理中，噴嘴202的頂端部(噴出口 202a)被噴嘴清洗部208a清洗，如圖13所示，噴嘴202被保持在噴嘴槽208b中以使噴嘴噴出口 20 不會干燥。在此，如果是在相同批內(nèi)連續(xù)地處理的基板間的待機期間，則直到下一個基板G 的涂覆處理不會長時間空閑，因此，噴嘴202內(nèi)的流路202b保持被處理液、即抗蝕劑液填充的狀態(tài)。另一方面，在不同的批間的待機期間，有時也會成為長時間的待機，出于防止抗蝕劑的干燥附著、流路清洗等目的，噴嘴202內(nèi)的流路202b從抗蝕劑液R置換成溶劑T (稀釋劑)。然而，存在這種問題以在噴嘴流路202b內(nèi)置換成溶劑T的狀態(tài)長時間放置噴嘴流路202b時，隨著待機中的時間推移，被填充到噴嘴頂端(噴出口 202a)的溶劑T發(fā)生蒸發(fā)，如圖14所示，在溶劑T中溶出的抗蝕劑成分在溶劑T的界面T 1附近析出，在流路202b 內(nèi)成為異物D而發(fā)生粘結(jié)。另外，像那樣在流路202b中附著有異物D時，來自噴出口 20 的抗蝕劑噴出狀態(tài)變得不均勻，有可能在對基板G進行抗蝕劑液R的涂覆處理中在涂覆膜中產(chǎn)生條狀斑。另外，為了以不在流路202b內(nèi)引起損傷的方式除去異物D，需要分解噴嘴202而進行清洗，存在麻煩和需要時間這種問題。另外，在流路202b內(nèi)置換成溶劑T之后，為了防止噴出口 20 附近的干燥，存在噴出溶劑T的、即進行所謂虛擬分配的方法，但因為需要噴出而廢棄大量的溶劑T，所以存在成本增大這種問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述那樣的以往技術的問題點而做成的，本發(fā)明提供一種涂覆裝置以及噴嘴的維護方法，在向被處理基板涂覆處理液的涂覆裝置中，防止在噴嘴內(nèi)的流路內(nèi)的異物的附著，并且在對被處理基板進行處理液的涂覆時，能夠從狹縫狀的噴嘴噴出口均勻地噴出處理液。為了解決上述的問題，本發(fā)明的涂覆裝置包括噴嘴，其用于從以被處理基板的寬度方向為長度方向的狹縫狀的噴出口噴出處理液；維護部件，其在上述噴嘴的待機期間保持上述噴嘴內(nèi)的流路中被從上述處理液置換成上述處理液的溶劑的狀態(tài)，本發(fā)明的涂覆裝置用于從上述噴嘴的噴出口向上述基板噴出處理液并形成涂覆膜，其特征在于，上述維護部件具有向上述噴嘴供給上述溶劑的溶劑供給部件、在與上述噴嘴的噴出口之間形成規(guī)定的間隙的液保持面，在上述待機期間，以向上述液保持面噴出規(guī)定量的溶劑的狀態(tài)保持上述噴嘴，上述溶劑的相對于上述噴嘴的界面形成在上述噴嘴的外表面。或者，本發(fā)明的涂覆裝置包括噴嘴，其用于從以被處理基板的寬度方向為長度方向的狹縫狀的噴出口噴出處理液；維護部件，其在上述噴嘴的待機期間保持上述噴嘴內(nèi)的流路中被從上述處理液置換成上述處理液的溶劑的狀態(tài)，本發(fā)明的涂覆裝置用于從上述噴嘴的噴出口向上述基板噴出處理液并形成涂覆膜，其特征在于，上述維護部件具有向上述噴嘴供給上述溶劑的溶劑供給部件、用于存儲至少能夠浸漬上述噴出口的規(guī)定量的溶劑的存儲容器；在上述待機期間，以上述噴嘴的噴出口被浸漬在上述存儲容器所存儲的溶劑中的狀態(tài)保持上述噴嘴，上述溶劑的相對于上述噴嘴的界面形成在上述噴嘴的外表面。通過這樣構成，即使在溶劑中溶出的處理液的成分由于溶劑的蒸發(fā)而在界面附近析出，也能夠防止析出的異物向流路內(nèi)的附著。S卩、使流路內(nèi)成為潔凈的狀態(tài)，對被處理基板涂覆處理液時，能夠從狹縫狀的噴嘴噴出口均勻地噴出處理液。另外，由從溶劑析出的處理液成分構成的異物附著在噴嘴外表面，因此，不分解噴嘴就能夠容易地進行異物的除去作業(yè)。為了解決上述的問題，本發(fā)明的噴嘴的維護方法如下所述噴嘴的噴出口呈以被處理基板的寬度方向為長度方向的狹縫狀，在從該噴出口噴出處理液的噴嘴中，在上述噴嘴的待機期間，以從上述處理液置換成上述處理液的溶劑的方式保持上述噴嘴內(nèi)的流路， 本發(fā)明的噴嘴的維護方法的特征在于，其包括向上述噴嘴供給上述溶劑以置換上述處理液的步驟；在上述噴出口的下方配置液保持面、并在上述噴出口與上述液保持面之間形成規(guī)定的間隙的步驟；以從上述噴出口向上述液保持面噴出規(guī)定量的溶劑的狀態(tài)保持上述噴嘴、將上述溶劑的相對于上述噴嘴的界面形成在上述噴嘴的外表面的步驟?；蛘?，本發(fā)明的噴嘴的維護方法如下所述噴嘴的噴出口呈以被處理基板的寬度方向為長度方向的狹縫狀，在從該噴出口噴出處理液的噴嘴中，在上述噴嘴的待機期間，以從上述處理液置換成上述處理液的溶劑的方式保持上述噴嘴內(nèi)的流路，本發(fā)明的噴嘴的維護方法的特征在于，其包括向上述噴嘴供給上述溶劑以置換上述處理液的步驟；將至少能夠浸漬上述噴出口的規(guī)定量的溶劑存儲在存儲容器中的步驟；以浸漬在上述存儲容器所存儲的溶劑中的狀態(tài)保持上述噴嘴的噴出口、將上述溶劑的相對于上述噴嘴的界面形成在上述噴嘴的外表面的步驟?；蛘?，本發(fā)明的噴嘴的維護方法如下所述在從噴出口噴出處理液的長條狀的噴嘴中，在上述噴嘴的待機期間防止在上述噴嘴內(nèi)的流路內(nèi)的異物的附著，其特征在于，該噴嘴的維護方法包括在上述噴出口的下方配置液保持面、并在上述噴出口與上述液保持面之間形成規(guī)定的間隙的步驟；以從上述噴出口向上述液保持面噴出規(guī)定量的處理液的狀態(tài)保持上述噴嘴、將上述處理液的相對于上述噴嘴的界面形成在上述噴嘴的外表面的步驟。采用這樣的方法，即使在溶劑中溶出的處理液的成分由于溶劑的蒸發(fā)而在界面附近析出，也能夠防止析出的異物向流路內(nèi)的附著。S卩、使流路內(nèi)成為潔凈的狀態(tài)，對被處理基板涂覆處理液時，能夠從狹縫狀的噴嘴噴出口均勻地噴出處理液。另外，由從溶劑析出的處理液成分構成的異物附著在噴嘴外表面，因此，不分解噴嘴就能夠容易地進行異物的除去作業(yè)。采用本發(fā)明，能夠獲得一種涂覆裝置以及噴嘴的維護方法，其在向被處理基板涂覆處理液的涂覆裝置中，防止在噴嘴內(nèi)的流路內(nèi)的異物的附著，對被處理基板涂覆處理液時，能夠從狹縫狀的噴嘴噴出口均勻地噴出處理液。


圖1是表示本發(fā)明的一實施方式的整體概略結(jié)構的俯視圖。
圖2是表示本發(fā)明的一實施方式的整體概略結(jié)構的側(cè)視圖。圖3是圖1的A-A向視剖視圖。圖4是本發(fā)明的涂覆裝置所具有的待機部的剖視圖。圖5是圖4的B-B向視剖視圖。圖6是圖4的待機部所具有的噴嘴槽的局部放大剖視圖。圖7是表示本發(fā)明的涂覆裝置的動作的流程的流程圖。圖8的(a)、(b)是表示本發(fā)明的涂覆裝置的其他的方式的剖視圖。圖9是表示本發(fā)明的涂覆裝置的其他的方式的剖視圖。圖10是表示本發(fā)明的涂覆裝置的其他的方式的剖視圖。圖11的(a)、圖11的(b)是表示本發(fā)明的涂覆裝置的其他的方式的剖視圖。圖12是用于對以往的涂覆處理單元的概略結(jié)構進行說明的立體圖。圖13是以往的涂覆處理單元所具有的噴嘴槽的剖視圖。圖14是表示配置在圖13的噴嘴槽中的噴嘴的頂端部的狀態(tài)的局部放大剖視圖。圖15是表示本發(fā)明的噴嘴的其他的方式的剖視圖。
具體實施例方式下面，根據(jù)附圖對本發(fā)明的涂覆裝置以及噴嘴的維護方法的一實施方式進行說明。另外，在該實施方式中，以這樣的情況為例進行說明將涂覆裝置應用于抗蝕劑涂覆處理單元，該抗蝕劑涂覆處理單元一邊懸浮輸送被處理基板、即玻璃基板，一邊對上述基板進行處理液、即抗蝕劑液的涂覆處理。如圖1、圖2所示，該抗蝕劑涂覆處理單元1包括懸浮輸送部2A，其用于一張一張地懸浮輸送玻璃基板G ；輥輸送部2B，其從上述懸浮輸送部2A接收基板G，并進行輥輸送， 該抗蝕劑涂覆處理單元1構成為使基板G被所謂水平輸送。在上述懸浮輸送部2A中設有沿著基板輸送方向、即X方向延長的懸浮載置臺3。 在懸浮載置臺3的上表面上，如圖示那樣在X方向和Y方向以固定間隔交替地設有多個氣體噴出口 3a和多個氣體吸氣口 3b，通過使來自氣體噴出口 3a的非活性氣體的噴出量與來自氣體吸氣口北的吸氣量之間的壓力負載恒定，使玻璃基板G懸浮。另外，在該實施方式中，利用氣體的噴出以及吸氣使基板G懸浮，但不限定于此， 也可以只利用氣體噴出的結(jié)構使基板懸浮。另外，在輥輸送部2B中，在載置臺3之后并行設有被輥驅(qū)動部40旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的多根輥軸41。在各輥軸41上安裝有多個輸送輥42，成為利用上述輸送輥42的旋轉(zhuǎn)來輸送基板 G的結(jié)構。在懸浮輸送部2A的懸浮載置臺3的寬度方向(Y方向)的左右側(cè)方設有沿著X方向平行地延伸的一對導軌5。在該一對導軌5上設有從下方對玻璃基板G的四角的緣部進行吸附保持而在導軌5上移動的四個基板承載件6。利用上述基板承載件6使懸浮在懸浮載置臺3上的玻璃基板G沿著輸送方向(X方向)移動。另外，為了順利地進行從懸浮輸送部2A向輥輸送部2B的基板交付，導軌5不僅延伸設置到懸浮載置臺3的左右側(cè)方，還延伸設置到輥輸送部2B的側(cè)方。如圖3 (圖1的A-A向視斷面)所示，各基板承載件6具有能夠沿著導軌5移動地設在導軌5上的滑動構件6a、能夠通過吸引動作、放開動作對基板G的下表面進行吸附的吸附構件6b、使吸附構件6b升降移動的升降驅(qū)動部6c。另外，在吸附構件6b上連接有吸引泵(未圖示)，該吸引泵吸引基板G與附構件 6b之間的接觸區(qū)域的空氣而使該接觸區(qū)域接近真空狀態(tài)，由此，使吸附構件6b吸附在基板 G上。另外，上述滑動構件6a、升降驅(qū)動部6c、上述吸引泵各自的驅(qū)動被由計算機構成的控制部50控制。另外，如圖1、圖2所示，在懸浮輸送部2A的懸浮載置臺3上設有向玻璃基板G噴出抗蝕劑液的噴嘴16。噴嘴16形成為例如長度方向沿Y方向的大致長方體形狀，形成得長于玻璃基板G在Y方向上的寬度。如圖2、圖3所示，在噴嘴16的下端部形成有以懸浮載置臺3的寬度方向為長度方向的狹縫狀的噴出口 16a。另外，抗蝕劑液從抗蝕劑液供給部30經(jīng)由送出泵31以及切換閥32被供給到該噴嘴16。另一方面，在噴嘴16的維護時(待機時)，從溶劑供給部33經(jīng)由送出泵34以及切換閥32供給抗蝕劑的溶劑(稀釋劑液)。即、溶劑供給部件由溶劑供給部33以及送出泵 34構成。另外，如圖1所示，在噴嘴16的兩側(cè)設有沿著X方向延伸的一對導軌10。在該導軌10上設有能夠沿著該導軌10滑動移動的一對滑動構件17，如圖3所示，在各滑動構件 17上鉛垂地豎立設置有軸18。在上述軸18上設有能夠沿著該軸18升降移動的升降驅(qū)動部19，在Y方向相對的一對升降驅(qū)動部19之間架設有用于保持噴嘴16的直棒狀的噴嘴臂 11。通過上述結(jié)構使噴嘴16能夠升降移動，并且能夠沿著導軌10在X方向移動。另外，在載置臺3上方，在比噴嘴16靠上游的一側(cè)，作為噴嘴16的維護部件設有清洗噴嘴頂端(噴出口 16a)并使噴嘴16待機規(guī)定時間的待機部14、用于在涂覆處理前使附著在噴嘴頂端的抗蝕劑液均勻化的起動加注處理部20。待機部14具有將附著在噴嘴16的噴出口 16a上的多余的抗蝕劑液清洗并除去的噴嘴清洗部對、用于待機時將噴出口 16a保持在溶劑(稀釋劑)的蒸汽氣氛下以使噴出口 16a不會干燥的噴嘴槽26。另外，起動加注處理部20具有殼體21，其呈箱狀，具有在基板寬度方向(Y方向) 細長的上部開口 21a;起動加注輥23，其呈圓筒或者圓柱形狀，利用電動機等旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部22 能夠繞軸線旋轉(zhuǎn)地設在殼體21內(nèi)。如圖2所示，起動加注輥23的上部設為突出于殼體21 的上部開口 21a的狀態(tài)。如上述那樣使噴嘴16能夠升降移動并且能夠沿著導軌10在X方向移動，并且使噴嘴16能夠在向玻璃基板G噴出抗蝕劑液的噴出位置與位于比該噴出位置靠上游的一側(cè)的起動加注處理部20以及待機部14之間移動。S卩、構成為在噴嘴待機時，噴嘴16被移動到待機部14，在該位置進行噴嘴清洗等， 在涂覆處理前，噴嘴16被移動到起動加注處理部20，實施起動加注處理。進一步詳細說明上述待機部14。如圖4的剖視圖所示，噴嘴清洗部M具有噴嘴清洗頭25。
噴嘴清洗頭25具有向噴嘴噴出口 16a附近噴出稀釋劑等清洗液的稀釋劑噴出噴嘴25a、對清洗使用后的稀釋劑進行吸引回收的稀釋劑排出管25b、將氮氣等規(guī)定的氣體向噴嘴噴出口 16a附近噴射的氣體噴射噴嘴25c。使該噴嘴清洗頭25能夠利用頭掃描機構(未圖示)在基板寬度方向(Y方向)掃描移動，由此，能夠從噴嘴噴出口 16a的一端到另一端地進行清洗。另外，噴嘴槽沈具有殼體27，該殼體27呈箱狀，具有在基板寬度方向(Y方向)細長的上部開口 27a，在該殼體27內(nèi)存儲有規(guī)定量的溶劑T (稀釋劑)。在殼體27的側(cè)部設有排出管27b，使被存儲的溶劑T不會超過規(guī)定的容量。如圖4所示，在噴嘴待機時，以噴嘴頂端部(噴出口 16a)從上述上部開口 27a插入到殼體27內(nèi)的狀態(tài)保持噴嘴頂端部(噴出口 16a)。另外，如圖4、圖5 (圖4的B-B向視截面)所示，在殼體27內(nèi)，在被存儲的溶劑T 的上方以例如被棒狀的支承構件36從下方支承的方式設有沿著基板寬度方向延伸的長方形板狀的液保持板觀(板構件)。在該液保持板觀的上表面上形成有與該液保持板觀的上表面處于同一平面的液保持面，該液保持面由具有耐藥品性(耐抗蝕劑性、耐溶劑性)、低摩擦系數(shù)的材質(zhì)構成。另外，在批與批間的待機期間使用該液保持板觀，但在該待機期間，在控制部50 的控制下，噴嘴16內(nèi)的流路16b從抗蝕劑液置換成溶劑T (稀釋劑)。另外，使規(guī)定量的溶劑T從噴嘴噴出口 16a噴出到液保持板28 (液保持面^a)上。由此，如圖6(噴嘴頂端部的放大圖)所示，溶劑T以利用其表面張力進行形狀維持的狀態(tài)被保持在噴嘴噴出口 16a與液保持板觀之間。并且，使溶劑T的相對于噴嘴16 的界面Tl不是形成在噴嘴16的流路16b內(nèi)，而是形成在噴嘴16的外表面。接著，進一步利用圖7對在這樣構成的抗蝕劑涂覆處理單元1中包括從對基板G 涂覆抗蝕劑液到在待機時的噴嘴的起動加注處理的一系列的流程進行說明。在抗蝕劑涂覆處理單元1中，重新向懸浮載置臺3上輸入玻璃基板G時，基板G被在載置臺3上形成的非活性氣體的氣流從下方支承，并被基板承載件6保持(圖7的步驟 Si)。然后，在控制部50的控制下驅(qū)動基板承載件6，開始向基板輸送方向輸送(圖7的步驟S2)。另外，從抗蝕劑噴嘴16的噴出口 16a噴出處理液、即抗蝕劑液，對通過噴嘴16的下方的基板G實施涂覆處理(圖7的步驟S3)。向基板G上的抗蝕劑液的涂覆處理結(jié)束時，停止來自噴嘴16的抗蝕劑液的噴出， 從懸浮輸送部2A向輥輸送部2B交付涂覆處理完畢的基板G，利用輥輸送向之后的處理部送出(圖7的步驟S4)。成為待機期間時，控制部50使噴嘴16沿著導軌10向待機部14的上方移動(圖 7的步驟S5)。然后，首先，在待機部14的噴嘴清洗部M，噴嘴清洗頭25對噴嘴16的頂端部進行掃描，使用清洗液(稀釋劑)進行清洗處理(圖7的步驟S6)。接著，噴嘴16移動到噴嘴槽沈處，以噴嘴頂端部從殼體27的上部開口 27a插入到殼體27內(nèi)的狀態(tài)保持噴嘴16 (圖7的步驟S7)。
在此，對批內(nèi)的所有的基板G的涂覆處理未完畢時(圖7的步驟S8)，原樣不動地以規(guī)定時間保持噴嘴16，在此期間，將噴出口 16a暴露在溶劑T的蒸汽中以使噴出口 16a不會干燥(圖7的步驟S9)。在噴嘴槽沈處進行規(guī)定時間的待機之后，噴嘴16移動到起動加注處理部20的上方。然后，將規(guī)定量的抗蝕劑液從噴出口 16a噴出到起動加注輥23的表面，并且，通過起動加注輥23向規(guī)定方向旋轉(zhuǎn)來實施噴嘴頂端的起動加注處理(圖7的步驟S10)。另外，將被實施了起動加注處理的噴嘴16移動到對基板G涂覆抗蝕劑液的涂覆處理位置，對下一個基板G進行涂覆處理(圖7的步驟S3)。另一方面，在步驟S8中，對批內(nèi)的所有的基板G進行的涂覆處理完畢時，控制部50 對切換閥32進行切換控制，從溶劑供給部33對噴嘴16供給溶劑T (稀釋劑)。由此，噴嘴 16內(nèi)的流路16b從抗蝕劑液置換成溶劑T，使噴嘴16內(nèi)的流路16b成為被溶劑T填充的狀態(tài)(圖7的步驟S11)。另外，還從噴嘴噴出口 16a對液保持板觀噴出規(guī)定量的溶劑T(圖 7的步驟S12)。由此，如圖6所示，在噴出口 16a與液保持板觀(液保持面^a)之間，使溶劑T成為利用其表面張力進行形狀維持的狀態(tài)，以該狀態(tài)保持規(guī)定時間(圖7的步驟S13)。另外，在該狀態(tài)下，溶劑T的相對于噴嘴16的界面Tl形成在噴嘴16的外表面。因此，即使在溶劑T中溶出的抗蝕劑成分由于溶劑T的蒸發(fā)而在界面Tl附近析出，也能夠防止析出的異物向流路16b內(nèi)的附著。另外，在抗蝕劑涂覆處理單元1中有重新進行涂覆處理的批時(圖7的步驟S14)， 噴嘴16移動到起動加注處理部20的上方。然后，控制部50對切換閥32進行切換控制，從抗蝕劑供給部30對噴嘴16供給抗蝕劑液。由此，在噴嘴16內(nèi)的流路16b內(nèi)再次從溶劑T置換成抗蝕劑液(圖7的步驟S15)。然后，將規(guī)定量的抗蝕劑液從噴出口 16a噴出到起動加注輥23的表面，并且，通過起動加注輥23向規(guī)定方向旋轉(zhuǎn)來實施起動加注處理(圖7的步驟S10)。另外，將被實施了起動加注處理的噴嘴16移動到對基板G涂覆抗蝕劑液的涂覆處理位置，對下一批的基板G進行涂覆處理(圖7的步驟S3)。如上面那樣，采用本發(fā)明的實施的方式，在不實施使用噴嘴16的涂覆處理的批間的待機期間，噴嘴內(nèi)的流路16b從抗蝕劑液置換成溶劑T，并且能夠保持為溶劑T的相對于噴嘴16的界面Tl形成在噴嘴16的外表面的狀態(tài)。由此，即使在溶劑T中溶出的抗蝕劑成分由于溶劑T的蒸發(fā)而在界面Tl附近析出，也能夠防止析出的異物向流路16b內(nèi)的附著。S卩、使流路16b內(nèi)成為潔凈的狀態(tài)，對基板G涂覆抗蝕劑液時，能夠從狹縫狀的噴嘴噴出口 16a均勻地噴出抗蝕劑液。另外，由從溶劑T中析出的抗蝕劑成分構成的異物附著在噴嘴外表面，因此，不分解噴嘴16就能夠容易地進行異物的除去作業(yè)。另外，在上述實施的方式中，表示了在噴嘴槽沈的殼體27內(nèi)的規(guī)定位置始終配置有液保持板觀的結(jié)構，但不限定于該方式，也可以是根據(jù)需要而在噴嘴16(噴出口 16a)的下方配置液保持板觀的結(jié)構。在那種情況下，例如，如圖8的(a)、圖8的(b)所示，也可以將液保持板觀設成這樣相對于被配置在殼體27上方的噴嘴16的下方位置從側(cè)方進退移動自如，并利用由滾珠絲杠機構、步進電動機等構成的進退移動部件四使液保持板觀進退移動。通過這樣構成，通過如圖8的(a)所示那樣在批內(nèi)的待機期間使液保持板觀從噴嘴16下方退避，能夠高效地向噴嘴16的噴出口 16a供給溶劑T的蒸汽，從而防止噴嘴16 的噴出口 16a的干燥。另夕卜，成為批間的待機期間時，噴嘴16內(nèi)的流路16b被置換成溶劑T，如圖8的(a) 所示，使液保持板觀從噴嘴16下方退避直到置換完畢，由此，能夠?qū)⒅脫Q液時被排出的抗蝕劑液直接排出到被存儲在下方的溶劑T中。S卩、被從噴嘴16排出的抗蝕劑液不會附著在液保持板觀上，因此，如圖8的(b)所示，能夠通過在置換液之后在噴嘴16下方配置液保持板觀，利用溶劑T的表面張力更可靠地形成界面Tl。或者，也可以不像上述實施方式那樣使用液保持板觀，而使用起動加注輥23的輥面作為液保持面。在那種情況下，在批間的待機期間，例如，在噴嘴清洗部M處進行的噴嘴清洗之后，噴嘴16移動到起動加注處理部20的上方。然后，噴嘴16的流路16b內(nèi)被置換成溶劑T，在起動加注輥23的旋轉(zhuǎn)被停止的狀態(tài)下，從噴出口 16a向輥面噴出規(guī)定量的溶劑T。由此，使溶劑T成為利用其表面張力在噴出口 16a與輥面之間進行形狀維持的狀態(tài)，溶劑T的相對于噴嘴16的界面形成在噴嘴外表因此，只要直到在下一批的涂覆處理前進行的起動加注處理之前保持該狀態(tài)即可。另外，在上述實施方式中，使液保持面28a成為處于同一平面的狀態(tài)，但也可以如圖9所示，在液保持面28a上，在噴出口 16a的前后位置設置沿著基板寬度方向延伸的一對槽部^b。通過設置該槽部^b，強制地決定從噴嘴16噴出的溶劑T的相對于液保持板28的界面的位置，隨之，能夠更可靠地將以規(guī)定量向液保持板觀噴出的溶劑T的相對于噴嘴16 的界面Tl形成在噴嘴16的外表面。另外，在上述的實施方式中，通過從噴嘴16對液保持板觀噴出規(guī)定量的溶劑T，使溶劑T的相對于噴嘴16的界面Tl形成在噴嘴16的外表面。然而，在本發(fā)明中，不限定于此，也可以通過使噴嘴頂端浸漬在所存儲的溶劑T 中，使溶劑τ的相對于噴嘴16的界面Tl形成在噴嘴外表面。在那種情況下，例如，也可以如圖10所示，從噴出口 16a向截面呈Y字形的存儲容器35中噴出溶劑T而積存溶劑T，并且，使噴嘴頂端浸漬在溶劑T中，將界面Tl形成在噴嘴外表面?；蛘撸鐖D11的(a)、圖11的(b)所示，也可以形成具有排出管27b、排出管27c 的噴嘴槽26的結(jié)構，該排出管27b以使噴嘴頂端不會接觸到被存儲在殼體27(存儲容器) 中的溶劑T的方式設置，該排出管27c設在比排出管27b靠上方的位置。在那種情況下，通過閥切換，在批內(nèi)的待機期間，如圖11的(a)所示，只使用排出管27b，在批間的待機期間，如圖11的(b)所示，只使用排出管27c。另外，如圖11的(b) 所示，使排出管27c的設置高度為溶劑T能夠存儲到至少使噴嘴頂端浸漬在溶劑T中的高度。
圖11的(b)所示，通過以這樣的方式構成，也能夠?qū)⑷軇㏕的相對于噴嘴16的界面Tl形成在噴嘴外表面。或者，也可以是如圖15所示那樣的噴嘴的形狀。圖15是其他的實施方式的噴嘴的剖視圖。另外，對與上述的噴嘴相同的部分省略說明。噴嘴60在與形成有噴出口 16a的面61的端部連接的斜面62上形成有槽部63。通過形成槽部63，強制地決定從噴嘴60噴出的溶劑的相對于噴嘴60的界面的位置，能夠更可靠地在噴嘴60的外表面形成溶劑的相對于噴嘴60的界面。另外，在上述的實施方式中，以將噴嘴16內(nèi)的抗蝕劑液置換成溶劑的方式實施本發(fā)明，但也可以不將噴嘴16內(nèi)置換成溶劑而以抗蝕劑液原樣不變地實施本發(fā)明。在那種情況下，也因為抗蝕劑液的相對于噴嘴16的界面形成在噴嘴16的外側(cè)，所以能夠防止析出的異物的向流路16b內(nèi)的附著。另外，能夠削減溶劑的使用量，也不需要置換成溶劑的時間。或者，也可以這樣在將噴嘴16內(nèi)的抗蝕劑液置換成溶劑時，使送出泵31反方向運轉(zhuǎn)而將噴嘴16內(nèi)的抗蝕劑液送回到抗蝕劑供給部30之后對切換閥32進行切換，使送出泵34運轉(zhuǎn)而從溶劑供給部33向噴嘴16內(nèi)供給溶劑。通過進行這樣的動作，能夠不廢棄噴嘴16內(nèi)的抗蝕劑液就置換成溶劑。另外，噴嘴16不限于具有狹縫狀的噴出口的狹縫噴嘴，例如無論是形成得比玻璃基板G的寬度長的長條狀的噴嘴，還是排列設置有多個微細孔作為噴出口的噴嘴，都能夠獲得同樣的效果。另外，當然也可以部分地組合上述的實施方式而進行。
權利要求
1.一種涂覆裝置，其包括噴嘴，其呈長條狀，用于從噴出口噴出處理液；維護部件， 其用于在上述噴嘴的待機期間保持上述噴嘴內(nèi)的流路中被從上述處理液置換成上述處理液的溶劑的狀態(tài)，該涂覆裝置用于從上述噴嘴的噴出口向上述基板噴出處理液并形成涂覆膜，其特征在于，上述維護部件具有向上述噴嘴供給上述溶劑的溶劑供給部件、在與上述噴嘴的噴出口之間形成規(guī)定的間隙的液保持面；在上述待機期間，以向上述液保持面噴出規(guī)定量的溶劑的狀態(tài)保持上述噴嘴，上述溶劑的相對于上述噴嘴的界面形成在上述噴嘴的外表面。
2.根據(jù)權利要求1所述的涂覆裝置，其特征在于，該涂覆裝置具有殼體，該殼體存儲規(guī)定量的上述溶劑、并且具有至少能夠供上述噴嘴的噴出口插入的上部開口；上述液保持面設在上述殼體內(nèi)；在上述噴嘴的噴出口被插入上述殼體的上部開口中的狀態(tài)下，在上述噴出口與上述液保持面之間形成規(guī)定的間隙。
3.根據(jù)權利要求2所述的涂覆裝置，其特征在于，上述液保持面形成在板構件上，該板構件設在上述殼體內(nèi)。
4.根據(jù)權利要求2所述的涂覆裝置，其特征在于，涂覆裝置具有進退移動部件，該進退移動部件在上述噴嘴的噴出口被插入上述殼體的上部開口中的狀態(tài)下，用于使上述液保持面相對于上述噴嘴的下方位置進退移動。
5.根據(jù)權利要求1所述的涂覆裝置，其特征在于，在上述液保持面上，在上述噴嘴的噴出口的前后位置形成有沿著上述噴出口的長度方向延伸的一對槽部。
6.根據(jù)權利要求1所述的涂覆裝置，其特征在于，上述液保持面是輥的曲面。
7.一種涂覆裝置，其包括噴嘴，其呈長條狀，用于從噴出口噴出處理液；維護部件， 其用于在上述噴嘴的待機期間保持上述噴嘴內(nèi)的流路中被從上述處理液置換成上述處理液的溶劑的狀態(tài)，該涂覆裝置用于從上述噴嘴的噴出口向上述基板噴出處理液并形成涂覆膜，其特征在于，上述維護部件具有向上述噴嘴供給上述溶劑的溶劑供給部件、用于存儲至少能夠浸漬上述噴出口的規(guī)定量的溶劑的存儲容器；在上述待機期間，以上述噴嘴的噴出口被浸漬在上述存儲容器所存儲的溶劑中的狀態(tài)保持上述噴嘴，上述溶劑的相對于上述噴嘴的界面形成在上述噴嘴的外表面。
8.根據(jù)權利要求7所述的涂覆裝置，其特征在于，該涂覆裝置具有殼體，該殼體存儲規(guī)定量的上述溶劑，并且，具有至少能夠供上述噴嘴的噴出口插入的上部開口；上述存儲容器設在上述殼體內(nèi)；在上述噴嘴的噴出口被插入上述殼體的上部開口中的狀態(tài)下，上述噴出口被浸漬在上述存儲容器所存儲的溶劑中。
9.根據(jù)權利要求7所述的涂覆裝置，其特征在于，上述存儲容器具有至少能夠供上述噴嘴的噴出口插入的上部開口 ；在上述噴嘴的噴出口被插入在上述存儲容器的上部開口中的狀態(tài)下，上述噴出口被浸漬在上述存儲容器所存儲的溶劑中。
10.一種噴嘴的維護方法，在從噴出口噴出處理液的長條狀的噴嘴中，在上述噴嘴的待機期間，以從上述處理液置換成上述處理液的溶劑的方式保持上述噴嘴內(nèi)的流路，其特征在于，該噴嘴的維護方法包括向上述噴嘴供給上述溶劑以置換上述處理液的步驟；在上述噴出口的下方配置液保持面、并在上述噴出口與上述液保持面之間形成規(guī)定的間隙的步驟；以從上述噴出口向上述液保持面噴出規(guī)定量的溶劑的狀態(tài)保持上述噴嘴、將上述溶劑的相對于上述噴嘴的界面形成在上述噴嘴的外表面的步驟。
11.一種噴嘴的維護方法，在從噴出口噴出處理液的長條狀的噴嘴中，在上述噴嘴的待機期間，以從上述處理液置換成上述處理液的溶劑的方式保持上述噴嘴內(nèi)的流路，其特征在于，該噴嘴的維護方法包括向上述噴嘴供給上述溶劑以置換上述處理液的步驟；將至少能夠浸漬上述噴出口的規(guī)定量的溶劑存儲在存儲容器中的步驟；以浸漬在上述存儲容器所存儲的溶劑中的狀態(tài)保持上述噴嘴的噴出口、將上述溶劑的相對于上述噴嘴的界面形成在上述噴嘴的外表面的步驟。
12.—種噴嘴的維護方法，在從噴出口噴出處理液的長條狀的噴嘴中，在上述噴嘴的待機期間防止在上述噴嘴內(nèi)的流路內(nèi)的異物的附著，其特征在于，該噴嘴的維護方法包括在上述噴出口的下方配置液保持面、并在上述噴出口與上述液保持面之間形成規(guī)定的間隙的步驟；以從上述噴出口向上述液保持面噴出規(guī)定量的處理液的狀態(tài)保持上述噴嘴、將上述處理液的相對于上述噴嘴的界面形成在上述噴嘴的外表面的步驟。
全文摘要
本發(fā)明提供一種涂覆裝置以及噴嘴的維護方法，其防止在噴嘴內(nèi)的流路內(nèi)的異物的附著、并在對被處理基板涂覆處理液時從狹縫狀的噴嘴噴出口均勻地噴出處理液。從噴嘴的噴出口向基板(G)噴出處理液并形成涂覆膜的涂覆裝置(1)包括噴嘴(16)，其從狹縫狀的噴出口(16a)噴出處理液；維護部件(26)，其在噴嘴的待機期間保持噴嘴內(nèi)的流路中被從處理液置換成處理液的溶劑(T)的狀態(tài)，維護部件包括向噴嘴供給溶劑的溶劑供給部件(33、34)、在與噴嘴的噴出口之間形成規(guī)定的間隙的液保持面(28a)，在待機期間，以向液保持面噴出規(guī)定量的溶劑的狀態(tài)保持噴嘴，溶劑相對于噴嘴的界面(T1)形成在噴嘴的外表面。
文檔編號H01L21/027GK102376547SQ20111024169
公開日2012年3月14日 申請日期2011年8月17日 優(yōu)先權日2010年8月18日
發(fā)明者山下俊弘, 池本大輔, 篠崎賢哉, 錦織正博 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社