專利名稱：放射線敏感性樹脂組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及放射線敏感性樹脂組合物。更詳細(xì)而言，涉及在IC等的半導(dǎo)體制造工序、液晶、熱敏頭(thermal head)等的電路基板的制造、其他的光刻蝕工序中使用的放射線敏感性樹脂組合物。
背景技術(shù)：
化學(xué)增幅型放射線敏感性樹脂組合物是通過以KrF準(zhǔn)分子激光、ArF準(zhǔn)分子激光為代表的遠(yuǎn)紫外線等的放射線照射在曝光部生成酸，通過以該酸為催化劑的反應(yīng)使曝光部和未曝光部在顯像液中的溶解速度發(fā)生變化，在基板上形成抗蝕劑圖案的組合物。在進行更精密的線寬控制時，例如，在設(shè)備的設(shè)計尺寸為亞半微米以下的情況下，重要的是化學(xué)增幅型抗蝕劑不僅析像性能優(yōu)異，而且抗蝕劑圖案的線寬的偏差的指標(biāo)即LWR(線寬粗糙度，Line Width Roughness)小，并且，圖案形狀為矩形。為了控制這種微細(xì)的形狀，已公開添加堿性化合物作為用于調(diào)整生成的酸的擴散速度的酸擴散控制劑的技術(shù)(例如，參照專利文獻I、2)?，F(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻I :日本特公平2-27660號公報專利文獻2 日本特開2009-53688號公報

發(fā)明內(nèi)容
因酸發(fā)生解離而失去酸擴散控制性的酸擴散控制劑在曝光部與未曝光部的對比度優(yōu)異這方面受到關(guān)注。但是，就現(xiàn)有的含有因酸發(fā)生解離而失去酸擴散控制性的酸擴散控制劑的組合物而言，LWR特性、圖案形狀尚不令人滿意。另外，在形成微細(xì)線圖案時，存在因與基板的密合性不足等理由而導(dǎo)致抗蝕劑圖案倒塌，無法形成正確的圖案的情況。本發(fā)明是鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題而完成的發(fā)明，作為其課題，提供一種放射線敏感性樹脂組合物，所述放射線敏感性樹脂組合物能夠形成LWR小且圖案形狀優(yōu)異的抗蝕劑圖案，即使在形成微細(xì)線圖案時，抗蝕劑圖案也不倒塌，能夠形成正確的圖案。本發(fā)明人為了實現(xiàn)上述課題進行了深入的研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)通過含有含酸解離性基團的樹脂和具有規(guī)定的磺酰胺的陰離子結(jié)構(gòu)的化合物的組合物就能夠解決上述課題，從而完成了本發(fā)明。S卩，根據(jù)本發(fā)明，可提供如下所示的放射線敏感性樹脂組合物。[I] 一種放射線敏感性樹脂組合物，其特征在于，含有㈧含有酸解離性基團的樹脂(下面也稱為“樹脂(A) ”)和(C)下述通式(i)表示的化合物(下面也稱為“化合物(C)”)。
權(quán)利要求
1.一種放射線敏感性樹脂組合物，其特征在于，含有(A)含有酸解離性基團的樹脂和(C)下述通式(i)表示的化合物，
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的放射線敏感性樹脂組合物，其中，所述通式(i)中的X+為下述通式(1-1)和下述通式(1-2)中的至少一個通式表示的翻Il陽離子，
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的放射線敏感性樹脂組合物，其中，進一步含有(B)放射線敏感性酸產(chǎn)生劑。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的放射線敏感性樹脂組合物，其中，所述(A)含有酸解離性基團的樹脂具有下述通式(2)表示的重復(fù)單元，
全文摘要
本發(fā)明提供一種放射線敏感性樹脂組合物，其特征在于，含有(A)含有酸解離性基團的樹脂和(C)通式(i)表示的化合物(通式(i)中，R1表示氫原子等；R2表示單鍵等；R3表示氫原子的一部分或全部可以被氟原子取代的、碳原子數(shù)為1～10的直鏈狀的1價烴基等；X+表示陽離子)。
文檔編號H01L21/027GK102804065SQ201080026410
公開日2012年11月28日 申請日期2010年6月14日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月16日
發(fā)明者芹澤龍一, 松村信司, 榊原宏和 申請人:Jsr株式會社