專利名稱：熱處理爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于對收納的被處理體實施熱處理的熱處理爐。
背景技術(shù)：
在半導體裝置的制造中，為了對作為被處理體的半導體晶片實施 氧化、擴散、CVD (Chemical Vapor Deposition:化學氣相沉積)等處 理，使用各種熱處理裝置。并且， 一般的熱處理裝置由用于收納半導 體晶片并對其進行熱處理的處理容器(反應(yīng)管)、設(shè)置于處理容器的周 圍的電阻發(fā)熱體、和設(shè)置于該電阻發(fā)熱體的周圍的隔熱部件構(gòu)成熱處 理爐，電阻發(fā)熱體隔著支撐體配置在該隔熱部件的內(nèi)壁面上。
作為上述電阻發(fā)熱體，例如言及能夠進行批式(batch)處理的熱 處理裝置的情況時，使用沿著圓筒狀的隔熱部件的內(nèi)壁面配置的螺旋 狀的加熱線，能夠?qū)t內(nèi)加熱到例如800 100(TC左右的高溫。另夕卜， 作為上述隔熱部件，例如使用通過將由陶瓷纖維等構(gòu)成的隔熱部件燒 制成圓筒狀而構(gòu)成的結(jié)構(gòu)物，能夠使作為輻射熱和傳導熱而損失的熱 量減少，有助于實現(xiàn)效率良好的加熱。作為上述支撐體，例如使用陶 瓷制的結(jié)構(gòu)物，以使得上述加熱線能夠熱膨脹且能夠熱收縮的方式以 規(guī)定的間距支撐該加熱線。
但是，在上述熱處理爐中，上述加熱線形成為螺旋狀，并且以在 其與隔熱部件之間留有空隙的方式被支撐，以使該加熱線能夠進行熱 膨脹和熱收縮。但是，加熱線在高溫下使用時會產(chǎn)生畸變(clip distortion),其線長隨著時間的推移而逐漸伸長。另外，在加熱時，加
4熱線也會熱膨脹。進一步，還有在降溫時對加熱線吹空氣而進行快速 冷卻的類型。這樣反復(fù)進行升降溫而使得加熱線變形，存在與相鄰的 加熱線短路而發(fā)生斷線的情況。
特別是在立式的熱處理爐的情況下，由于升降溫而反復(fù)進行熱膨 脹和熱收縮，加熱線在支撐體內(nèi)移動時因重力而使得加熱線每次向下 方移動少許，移動量積蓄在最下圈，由于加熱線的移動的蓄積而使得 巻繞直徑變大，當?shù)竭_隔熱部件的內(nèi)表面時，因不能向外側(cè)膨脹而使 得加熱線向上下變形，當與相鄰的加熱線短路時，產(chǎn)生的熱使加熱線 斷線。
另外，為了解決這樣的問題，提出有以下的技術(shù)方案為了防止 加熱線的畸變和熱膨脹等弓I起的伸長蓄積在一端側(cè)，通過熔接在電阻 發(fā)熱體的外側(cè)部安裝向爐的半徑方向外側(cè)突出的軸狀等的固定部件， 將該固定部件的前端埋入隔熱部件中固定(參照日本特開平io — 233277號公報)。
但是，認為，如上所述，因為將固定部件接合在電阻發(fā)熱體的外 側(cè)部上并將該固定部件埋設(shè)在隔熱部件中，由此固定電阻發(fā)熱體，所 以，限制電阻發(fā)熱體伴隨熱膨脹收縮而向徑向移動，應(yīng)力容易集中在 電阻發(fā)熱體與固定部件的接合部上，會引起耐久性降低(使用壽命變 短)。另外，由于固定部件是棒軸狀，所以容易從隔熱部件拔出，保持 性差，難以維持電阻發(fā)熱體的固定性能，會引起耐久性的降低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問題而完成的，其目的在于提供一種熱處理爐， 該熱處理爐能夠容許電阻發(fā)熱體伴隨熱膨脹收縮而向徑向移動，同時 能夠防止電阻發(fā)熱體向下方移動，能夠提高電阻發(fā)熱體的耐久性。
本發(fā)明的熱處理爐包括
圍繞用于收納被處理體并對其進行熱處理的處理容器的筒狀的隔
熱咅卩件；
以螺旋狀設(shè)置于上述隔熱部件的內(nèi)周面上的電阻發(fā)熱體； 設(shè)置于上述隔熱部件的內(nèi)周面上，并以使得上述電阻發(fā)熱體能夠 在徑向熱膨脹收縮的方式支撐該電阻發(fā)熱體的支撐體；和
5設(shè)置于上述電阻發(fā)熱體上，并通過與上述支撐體的一個側(cè)面抵接 而阻止該電阻發(fā)熱體向下方移動的移動阻止部件。
在本發(fā)明的熱處理爐中，優(yōu)選還包括設(shè)置于上述電阻發(fā)熱體上、 并在徑向貫通上述隔熱部件伸出到外部的多個端子板。
在本發(fā)明的熱處理爐中，優(yōu)選上述移動阻止部件以不向上述隔熱 部件側(cè)突出且向上下方向伸出的形狀通過熔接固定在電阻發(fā)熱體上。
在本發(fā)明的熱處理爐中，優(yōu)選上述支撐體具有前端被埋設(shè)在上 述隔熱部件屮并沿水平方向延伸的水平部，和設(shè)置于該水平部的后端 并沿鉛直方向延伸的垂直部，其中，
上述水平部的上表面和上述垂直部的正面形成為曲面狀。
在這樣的熱處理爐中，優(yōu)選在上述水平部的下表面上設(shè)置有沿著 長度方向的槽。
在本發(fā)明的熱處理爐中，優(yōu)選上述移動阻止部件設(shè)置有多個， 一個移動阻止部件相對于在上下方向相鄰的其它移動阻止部件配
置于在上述隔熱部件周方向上錯開的位置。
在這樣的熱處理爐中，優(yōu)選上述支撐體沿著上述隔熱部件的周方
向設(shè)置有多個，
一個移動阻止部件能夠抵接的支撐體相對于在上下方向相鄰的其 它移動阻止部件能夠抵接的支撐體，在上述隔熱部件的周方向上配置 于不同的位置。
在本發(fā)明的熱處理爐中，優(yōu)選上述移動阻止部件以與上述電阻發(fā) 熱體相同的材料形成。
根據(jù)本發(fā)明，因為在筒狀的隔熱部件的內(nèi)周面上沿軸方向以規(guī)定 間距設(shè)置有支撐體，其中，該支撐體以使得螺旋狀的電阻發(fā)熱體能夠 在徑向熱膨脹收縮的方式支撐該螺旋狀的電阻發(fā)熱體，并且在電阻發(fā) 熱體上按每規(guī)定的圈設(shè)置有與支撐體的一個側(cè)面抵接、從而阻止電阻 發(fā)熱體向下方移動的移動阻止部件，所以能夠容許電阻發(fā)熱體伴隨熱 膨脹收縮而向徑向移動，同時能夠防止電阻發(fā)熱體向下方移動，能夠 提高包括電阻發(fā)熱體的熱處理爐的耐久性。


圖1是概略表示本發(fā)明的熱處理爐的實施方式的縱剖面圖。 圖2是表示該熱處理爐的一部分的立體圖。 圖3是該熱處理爐的局部的橫剖面圖。
圖4是該熱處理爐的局部的縱剖面圖。
圖5是局部表示電阻發(fā)熱體上的端子部件的安裝結(jié)構(gòu)的圖和該圖
的側(cè)面圖。
圖6是表示支撐體的立體圖。
圖7是表示支撐體和移動阻止部件的關(guān)系的圖。
圖8是移動阻止部件的立體圖。
圖9是電阻發(fā)熱體的側(cè)面圖。
圖10是說明移動阻止部件的其它配置例的說明圖。 圖11是說明移動阻止部件的其它形狀例的說明圖。
具體實施例方式
以下，根據(jù)附圖詳細說明用于實施本發(fā)明的優(yōu)選實施方式。圖1 是概略表示本發(fā)明的熱處理爐的實施方式的縱剖面圖，圖2是表不該 熱處理爐的一部分的立體圖，圖3是該熱處理爐的局部的橫剖面圖， 圖4是該熱處理爐的局部的縱剖面圖。
在圖1中，1表示作為一個半導體制造裝置的立式熱處理裝置，該 熱處理裝置1具有立式的熱處理爐2，該熱處理爐2能夠一次收納多個 作為被處理體的例如半導體晶片w并對其進行氧化、擴散、減壓CVD 等熱處理。該熱處理爐2主要包括用于分多層收納晶片w并進行規(guī) 定的熱處理的處理容器(也稱為反應(yīng)管)3、圍繞該處理容器3的筒狀 的隔熱部件4、和沿著該隔熱部件4的內(nèi)周面配置的螺旋狀的電阻發(fā)熱 體(也稱加熱線)5。通過隔熱部件4和電阻發(fā)熱體5構(gòu)成加熱器〔加 熱裝置)6。
上述熱處理裝置1具有用于設(shè)置加熱器6的基體板7。在該基體板 7上形成有用于從下方向上方插入處理容器3的開口部8，在該開口部 8上以覆蓋基體板7和處理容器3之間的間隙的方式設(shè)置有未圖示的隔 熱部件。
上述處理容器3也稱為處理管，是石英制，形成為上端被閉塞、
7下端開口的縱長的圓筒狀。在處理容器3的開口端形成有朝外的凸緣
3a，該凸緣3a通過未圖示的凸緣固定部被支撐在上述基體板7上。圖 示例的處理容器3在下側(cè)部設(shè)置有用于將處理氣體、不活潑氣體等導 入處理容器3內(nèi)的導入孔(導入口)9和用于對處理容器2內(nèi)的氣體進 行排氣的未圖示的排氣孔(排氣口)。在導入孔9上連接有氣體供給源， 在排氣孔上連接有具有能夠減壓控制到例如10 10—8Torr Cl.3 1.3X 10—9kPa)左右的真空泵的排氣系統(tǒng)。
在處理容器3的下方，用于閉塞處理容器3的下端開口部(爐口) 且能夠在上下方向上進行開閉的蓋體10，以通過未圖示的升降機構(gòu)能 夠升降移動的方式設(shè)置。在該蓋體10的上部載置有作為爐口的保溫機 構(gòu)的例如保溫筒11，在該保溫筒11的上部載置有作為保持工具的石英 制的晶舟12，該晶舟12能夠在上下方向上以規(guī)定的間隔裝載多個例如 100 150個左右的例如直徑為300mm的晶片w。在蓋體10上設(shè)置有 使晶舟12繞其軸心旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)55。晶舟12通過蓋體10的下降移 動能夠從處理容器3內(nèi)被搬出到下方的裝載區(qū)域(卸載)，在交換晶片 w后，通過蓋體10的上升移動被搬入(加載)處理容器3內(nèi)。
圖5是局部地表示電阻發(fā)熱體上的端子部件的安裝結(jié)構(gòu)的圖，(a) 是平面圖，(b)是側(cè)面圖，圖6是表示支撐體的立體圖，圖7是表示 支撐體和移動阻止部件的關(guān)系的圖，圖8是移動阻止部件的立體圖， 圖9是電阻發(fā)熱體的側(cè)面圖。
如圖2 圖5所示，上述加熱器6包括上述隔熱部件4;沿著該 隔熱部件4的內(nèi)周配置的螺旋狀的電阻發(fā)熱體5;在上述隔熱部件4 的內(nèi)周面上在軸方向上以規(guī)定的間距設(shè)置的支撐上述電阻發(fā)熱體5的 支撐體13;在徑向貫通以適當?shù)拈g隔沿軸方向配置于電阻發(fā)熱體5的 外側(cè)的隔熱部件4并向外部延伸的多個端子板14;和按每規(guī)定的圈(例 如1.5圈)設(shè)置在電阻發(fā)熱體5上、并通過與上述支撐體3的-一個側(cè) 面抵接從而阻止電阻發(fā)熱體5向下方移動的移動阻止部件(stopper) 15。
電阻發(fā)熱體5由作為例如鐵(Fe)、鉻(Cr)和鋁(Al)的合金線 的坎塔爾(Kanthal)線構(gòu)成。該電阻發(fā)熱體5的粗細根據(jù)熱處理爐2 的規(guī)格不同而不同，例如能夠使用直徑4mm左右的電阻發(fā)熱體5 。
8上述電阻發(fā)熱體5沿著上述隔熱部件4的內(nèi)壁面以不與隔熱部件4 接觸的規(guī)定的巻繞直徑和規(guī)定的間距形成為螺旋狀。隔熱部件的內(nèi)徑
例如為600mm。電阻發(fā)熱體5通過由具有耐熱性和電絕緣性的材料例 如陶瓷構(gòu)成的支撐體13，在隔開能夠確保規(guī)定熱量的規(guī)定的排列間距 例如10mm、和與隔熱部件4的內(nèi)壁面相距規(guī)定的間隙s例如s= 10mm 的狀態(tài)，以能夠熱膨脹和熱收縮(能夠向螺旋的半徑方向和周方向移 動)的方式被支撐在圓筒狀的隔熱部件4的內(nèi)側(cè)。
如圖3、圖6和圖7所示，上述支撐體13具有前端埋設(shè)在上述隔 熱部件4中并在水平方向上延伸的水平部13a、和設(shè)置于該水平部13a 的后端并在鉛直方向上延伸(從后端立起)的垂直部13b。在此情況下， 為了降低電阻發(fā)熱體5因熱膨脹收縮而滑動時的摩擦阻力，優(yōu)選上述 水平部13a的至少上表面和上述垂直部13b的正面即能夠與電阻發(fā)熱 體5接觸的部分被形成為曲面狀。在本實施方式中，如圖6所示，在 水平部13a的上表面形成有上部R部16，在垂直部13b的正面形成有 爐心方向R部17。為了減小支撐體13的熱容量，在水平部13a的F表 面上沿著長度方向設(shè)置有槽18。
另外，在水平部13a的下表面的槽18的兩側(cè)部上形成有下部R部 19，即使萬一電阻發(fā)熱體5接觸水平部13a的下表面，也能夠降低其 摩擦阻力。在水平部13a的前端部為了阻止從隔熱部件4脫落而設(shè)置 有向兩側(cè)突出的突出部20。在上述支撐體13的垂直部13b的l:端部和 下端部形成有能夠相互卡合的凹部21和凸部22，如圖7所示，使凹部 21與凸部22卡合，在上下重疊配置支撐體13的垂直部13b，由此， 支撐體13能夠以規(guī)定的間距在隔熱部件4的軸方向上配置成一列。支 撐體13沿周方向以規(guī)定的間隔例如30度的間隔配置于隔熱部件4的 內(nèi)周面。隔熱部件4的內(nèi)壁面與支撐體13的垂直部13b的正面的間隔 t例如為10mm，在上下的支撐體13的水平部13a之間形成的槽部23 的間隙h例如為5mm。
如圖4 圖9所示，在電阻發(fā)熱體5上，在隔熱部件4的軸方向上 以適當?shù)拈g隔設(shè)置有貫通上述隔熱部件4并延伸至外部的電極連接用 的端子板14，以能夠?qū)⒆鳛闊崽幚頎t2內(nèi)的處理容器3內(nèi)在上下方向 上分成多個區(qū)域而進行溫度控制的方式構(gòu)成。該端子板14由與電阻發(fā)熱體5相同的材料構(gòu)成，從防止熔斷和抑制散熱量的觀點出發(fā)，形成 為所需要的截面積的板狀。
為了安裝端子板14，如圖5所示，上述電阻發(fā)熱體5在中間位置 被端子板14的安裝部分切斷，該被切斷的兩端部5a被向隔熱部件4 的半徑方向外側(cè)折彎，該被折彎的兩端部5a通過熔接被固定在端子板 14的兩個面上。特別是，為了緩和應(yīng)力向熔接接合部集中，上述電阻 發(fā)熱體5的被切斷的兩端部5a的折彎部24被進行R彎曲加工。
在鉛直方向上配置的螺旋狀的電阻發(fā)熱體5在每個區(qū)域均通過端 子板14被固定在隔熱部件4上，但因為通過支撐體13以能夠熱膨脹 和熱收縮的方式被支撐，所以，如果保持該狀態(tài)，則在因畸變或熱膨 脹等而伸長的情況下，存在該伸長因重力而積累至各區(qū)域的下側(cè)的傾 向。因此，為了防止電阻發(fā)熱體5的因畸變和熱膨脹等引起的伸長由 于重力而積累至各區(qū)域下側(cè)，如圖7 圖9所示，在上述電阻發(fā)熱體5 上按每規(guī)定的圈設(shè)置有移動阻止部件15，該移動阻止部件15通過與上 述支撐體13的一個側(cè)面(在圖7中，因為電阻發(fā)熱體朝右方下降傾斜， 所以為左側(cè)面)抵接而阻止電阻發(fā)熱體5向下方移動。
在將移動阻止部件15按電阻發(fā)熱體5的每--圈配置的情況下，因 為擔心移動阻止部件15因上下相鄰而相互接觸，發(fā)生短路，所以優(yōu)選 一個移動阻止部件15相對于在上下方向上相鄰的其它移動阻止部件 15，被配置于在隔熱部件的周方向上錯開的位置。更具體而言，例如 如圖10 (a)或(b)所示， 一個移動阻止部件15能夠抵接的支撐體 13相對于在上下方向上相鄰的其它移動阻止部件15能夠抵接的支撐 體13配置于在隔熱部件4的周方向上不同的位置(移動阻止部件15 以在上下不相鄰的方式在周方向上每隔支撐體13的一個間距或數(shù)個間 距錯開位置配置)。由此，能夠防止移動阻止部件15彼此接觸而短路。
該移動阻止部件15由與電阻發(fā)熱體5相同的材料形成。如圖8所 示，移動阻止部件15與電阻發(fā)熱體5相比，以向隔熱部件一側(cè)(半徑 方向外側(cè))不突出并向上下方向伸出的形狀通過熔接部25固定在電阻 發(fā)熱體5上。在圖示的例中，優(yōu)選移動阻止部件15為將能夠嵌合于電 阻發(fā)熱體5的外周上的環(huán)切斷成一半的形狀(半環(huán)狀或大致C字狀)， 在使移動阻止部件15的凹槽15a卡合在電阻發(fā)熱體的內(nèi)周側(cè)的狀態(tài)下通過上下兩處的熔接部25被固定。通過以這種方式設(shè)置，能夠防止移
動阻止部件15接觸隔熱部件4，確保電阻發(fā)熱體5的徑向的自由移動， 并且能夠防止在移動阻止時在電阻發(fā)熱體5上產(chǎn)生力矩或應(yīng)力集中。
圖11表示移動阻止部件的其它形狀的示例。作為移動阻止部件15， 可以如圖11 (a)所示那樣，是在上下方向上為較長的長方體狀且在其 上下方向中間部形成有凹槽15a的形狀，或也可以如圖ll (b)所示那 樣，是將圓棒軸狀體固定在電阻發(fā)熱體5的上下的形狀，或如圖11 (c) 所示那樣，將四角軸狀體固定在電阻發(fā)熱體5的上下的形狀。
為了保持隔熱部件4的形狀并輔助增強隔熱部件4，如圖1所示， 隔熱部件4的外周被金屬制例如不銹鋼制的外皮(outer shell) 26覆蓋。 另夕卜，為了抑制對加熱器外部的熱影響，外皮26的外周由水冷外套27 覆蓋。在隔熱部件4的頂部設(shè)置有覆蓋它的上部隔熱部件28，在該上 部隔熱部件28的上部設(shè)置有覆蓋外皮26的頂部(上端部)的不銹鋼 的頂板29。
為了在熱處理后使晶片快速降溫，實現(xiàn)處理的快速化，提高生產(chǎn) 率，在加熱器6上設(shè)置有用于將加熱器6與處理容器3之間的空間30 內(nèi)的氣體排出至外部的排熱系統(tǒng)31、和將冷卻流體(例如空氣)導入 上述空間30中強制地進行冷卻的冷卻機構(gòu)32。上述排熱系統(tǒng)31主要 由例如設(shè)置于加熱器6的上部的排氣口 33、和連接該排氣口 33與未圖 示的工廠排氣系統(tǒng)的未圖示的排熱管構(gòu)成。在排熱管—匕設(shè)置有未圖示 的排氣鼓風機和熱交換器。
上述冷卻機構(gòu)32具有在上述隔熱部件28與外皮26之間在高度 方向上形成的多個的環(huán)狀流路34、和為了從各環(huán)狀流路34向上述空間 30吹出冷卻流體而設(shè)置于隔熱部件4上的吹出孔35。
在上述外皮26的外表面上，沿著高度方向設(shè)置有用于向各環(huán)狀流 路34分配供給冷卻流體的共用的一根未圖示的供給管道，在外皮26 上形成有連通供給管道內(nèi)與各環(huán)狀流路34的連通口。在供給管道上經(jīng) 由開閉閥連接有未圖示的冷卻流體供給源(例如送風機)，該冷卻流體 供給源吸引潔凈室(clean room)內(nèi)的空氣作為冷卻流體并將其壓送供 給。
根據(jù)以上述方式構(gòu)成的熱處理爐2，因為在筒狀的隔熱部件4的內(nèi)周面上以規(guī)定的間距沿軸方向設(shè)置有支撐體13，該支撐體13支撐螺旋 狀的電阻發(fā)熱體5使其能夠在徑向熱膨脹收縮，并且按每規(guī)定的圈在
電阻發(fā)熱體5上設(shè)置有移動阻止部件15，該移動阻止部件15與支撐體 13的一個側(cè)面接觸從而阻止電阻發(fā)熱體5向下方移動，所以能夠防止 發(fā)生由電阻發(fā)熱體5的畸變、熱膨脹等引起的伸長積累至一端側(cè)的現(xiàn) 象。因此，由于不會發(fā)生電阻發(fā)熱體5的一端側(cè)的巻繞直徑變大而接 觸隔熱部件4的內(nèi)周面的情況，所以電阻發(fā)熱體5不會因彎曲等變形 或短路而發(fā)生斷裂，能夠提高電阻發(fā)熱體5的耐久性。另外，由于不 是如以往的固定部件那樣將電阻發(fā)熱體自身固定，能夠容許電阻發(fā)熱 體5的徑向的熱膨脹收縮移動，所以不會在電阻發(fā)熱體5上產(chǎn)生力矩 或發(fā)生應(yīng)力集中，能夠提高電阻發(fā)熱體5乃至熱處理爐2的耐久性(使 用壽命長)。
而且，本發(fā)明不限于上述的實施方式，在本發(fā)明的宗旨的范圍內(nèi) 能夠進行各種設(shè)計變更。例如，作為處理容器，也可以使用在下端部 連接具有導入管部和排氣管部的耐熱金屬制例如不銹鋼制的圓筒狀的 總管而成的結(jié)構(gòu)，另外還可以使用二重管結(jié)構(gòu)。
權(quán)利要求
1. 一種熱處理爐，其特征在于，包括圍繞用于收納被處理體并對其進行熱處理的處理容器的筒狀的隔熱部件；以螺旋狀設(shè)置于所述隔熱部件的內(nèi)周面上的電阻發(fā)熱體；設(shè)置于所述隔熱部件的內(nèi)周面上，并以使得所述電阻發(fā)熱體能夠在徑向熱膨脹收縮的方式支撐該電阻發(fā)熱體的支撐體；和設(shè)置于所述電阻發(fā)熱體上，并通過與所述支撐體的一個側(cè)面抵接而阻止該電阻發(fā)熱體向下方移動的移動阻止部件。
2. 如權(quán)利要求1所述的熱處理爐，其特征在于，還包括 設(shè)置于所述電阻發(fā)熱體上、并在徑向貫通所述隔熱部件伸出到外部的多個端子板。
3. 如權(quán)利要求1所述的熱處理爐，其特征在于所述移動阻止部件以不向所述隔熱部件側(cè)突出并向上下方向伸出 的形狀通過烙接固定在電阻發(fā)熱體上。
4. 如權(quán)利要求1所述的熱處理爐，其特征在于所述支撐體具有前端被埋設(shè)在所述隔熱部件中并沿水平方向延 伸的水平部，和設(shè)置于該水平部的后端并沿鉛直方向延伸的垂直部， 其中，所述水平部的上表面和所述垂直部的正面形成為曲面狀。
5. 如權(quán)利要求4所述的熱處理爐，其特征在于 在所述水平部的下表面上設(shè)置有沿著長度方向的槽。
6. 如權(quán)利要求l所述的熱處理爐，其特征在于-所述移動阻止部件設(shè)置有多個，一個移動阻止部件相對于在上下方向相鄰的其它移動阻止部件配 置于在所述隔熱部件周方向上錯開的位置。
7. 如權(quán)利要求6所述的熱處理爐，其特征在于 所述支撐體沿著所述隔熱部件的周方向設(shè)置有多個， 一個移動阻止部件能夠抵接的支撐體相對于在上下方向相鄰的其它移動阻止部件能夠抵接的支撐體，配置于在所述隔熱部件的周方向 上不同的位置。
8. 如權(quán)利要求1所述的熱處理爐，其特征在于 所述移動阻止部件由與所述電阻發(fā)熱體相同的材料形成。
全文摘要
本發(fā)明提供一種熱處理爐。該熱處理爐包括圍繞用于收納被處理體(w)并對其進行熱處理的處理容器(3)的筒狀的隔熱部件(4)；以螺旋狀設(shè)置于隔熱部件(4)的內(nèi)周面上的電阻發(fā)熱體(5)；和設(shè)置于隔熱部件(4)的內(nèi)周面上，并以使得電阻發(fā)熱體(5)能夠在徑向熱膨脹收縮的方式支撐該電阻發(fā)熱體(5)的支撐體(13)。熱處理爐還包括設(shè)置于電阻發(fā)熱體(5)上，并通過與支撐體(13)的一個側(cè)面抵接而阻止該電阻發(fā)熱體(5)向下方移動的移動阻止部件(15)。
文檔編號H01L21/00GK101499410SQ20091000197
公開日2009年8月5日 申請日期2009年1月24日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月31日
發(fā)明者中尾賢, 小林誠, 山賀健一 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社