專利名稱：采用負(fù)性光刻膠刻蝕玻璃或金屬基底的方法以及采用該方法制備印刷版的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種采用負(fù)性光刻膠刻蝕玻璃或金屬的方法以及采用該方法
制備印刷版(cliche)的方法。
本申請要求享有于2007年9月21日在KIPO遞交的第10-2007-0096589
號韓國專利申請的優(yōu)先權(quán)，其公開的內(nèi)容以參考的方式全部引入本文。
背景技術(shù)：
膠印法是使特殊電子材料(例如導(dǎo)電膠、具有優(yōu)異的光學(xué)性能的墨汁等) 圖形化的一種方法，并且在進(jìn)行膠印工藝的同時(shí)制備用于顯示器的電子記錄/ 成像/電路器件的基本部件，例如電路材料或彩色濾光片，而印刷版是實(shí)現(xiàn)以 上方法所必需的。
此處，根據(jù)字典的含義，印刷版是被制成一種形狀以使預(yù)定的實(shí)體容易 地插入其中，而在相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域中，其通常指一種包括不平坦部分的工具， 其用于轉(zhuǎn)移電子材料的圖形。
已知的印刷版是通過以下方式制備的在其上沉積有鉻的玻璃上涂敷正 性光刻膠，并使其圖形化以刻蝕玻璃的表面，從而得到所需的形狀。但是， 由于正性光刻膠和鉻表面的粘附問題，存在的問題是，正性光刻膠被鉻刻蝕 溶液腐蝕，或者當(dāng)用玻璃制作印刷版時(shí)，對于用于刻蝕玻璃的氫氟酸的耐久 性差。
另外，要求使用正性光刻膠時(shí)要形成的光掩膜為玻璃刻蝕部分的反型
(inversetype)。因此，存在的問題是，當(dāng)在其它工藝中需要通常的光掩膜時(shí)， 應(yīng)另外制作昂貴的光掩膜。
此外，如圖2所示，印刷版通過包括多個(gè)步驟的復(fù)雜工藝來制備。另外， 由于通過使用單一波長的激光來對正性光刻膠進(jìn)行曝光，對于曝光波長，通 常使用例如157nm、 193 nm、 248 nm等的深紫外或在短波長處的單一激光 束，例如I-線(365 nm)或G-線(436 nm)，從而有成本高的缺點(diǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問題
因此，為了解決上述問題，本發(fā)明的目的是提供一種刻蝕方法和用該方法制備印刷版的方法，在所述刻蝕方法中，由于對金屬或金屬氧化物表面的粘附強(qiáng)度優(yōu)異，使用不會(huì)被在玻璃或金屬的刻蝕過程中使用的金屬或金屬氧
化物刻蝕溶液腐蝕的負(fù)性光刻膠，所以不必制備反型光掩膜(inversephotomask),制備方法簡單且能夠使用例如混合波長型光源的低分辨率光源而不使用單一激光束，從而確保了經(jīng)濟(jì)效益。技術(shù)方案
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種刻蝕玻璃的方法，該方法包括以下步驟 a)在設(shè)置于玻璃表面上的金屬層或金屬氧化物層上形成負(fù)性光刻膠層；b)使所述負(fù)性光刻膠層選擇性地曝光；c)使所述負(fù)性光刻膠層的未曝光部分顯影從而使負(fù)性光刻膠層圖形化；d)刻蝕金屬層或金屬氧化物層，該部分金屬層或金屬氧化物層上沒有涂敷步驟c)中被圖形化的負(fù)性光刻膠層；和e)刻蝕玻璃，該部分玻璃上沒有涂敷步驟d)中被圖形化的金屬層或金屬氧化物層。
此外，本發(fā)明提供一種刻蝕金屬的方法，該方法包括以下步驟a)在金屬上形成負(fù)性光刻膠層；b)使所述負(fù)性光刻膠層選擇性地曝光；c)使所述負(fù)性光刻膠層的未曝光部分顯影從而使負(fù)性光刻膠層圖形化；和d)刻蝕金屬，該部分金屬上未涂敷步驟c)中被圖形化的負(fù)性光刻膠層。
另外，本發(fā)明提供了一種使用所述刻蝕玻璃或金屬的方法制備印刷版的方法。
再有，本發(fā)明提供了采用所述制備印刷版的方法制備的印刷版。還有，本發(fā)明提供了一種在電子材料圖形化中使用所述印刷版的方法。有益效果
在采用負(fù)性光刻膠刻蝕玻璃或金屬的方法及使用該方法制備印刷版的方法中，由于金屬或金屬氧化物表面與負(fù)性光刻膠之間的粘附強(qiáng)度優(yōu)異，負(fù)性光刻膠不會(huì)被金屬或金屬氧化物刻蝕溶液腐蝕，所以不必制備反型光掩膜，制備方法簡單且能夠使用例如混合波長型光源的低分辨率光源而不使用單一激光束，從而確保了經(jīng)濟(jì)效益。


圖1為說明根據(jù)本發(fā)明的采用負(fù)性光刻膠刻蝕玻璃的方法的流程圖；圖2為說明采用已知的正性光刻膠制備印刷版的方法的流程圖3為采用掃描電鏡(Hitach S-4800)拍攝的根據(jù)本發(fā)明的采用負(fù)性光刻膠制備的印刷版的正面圖片(比例2200:1);
圖4為顯示圖3中由左邊的圈所指的部分的放大圖片(比例9000:1);圖5為在比較例中采用正性光刻膠制備的印刷版的圖片(比例1000:1);
以及
圖6為顯示在實(shí)施例2中制備的印刷版的圖片。
具體實(shí)施例方式
在下文中將詳細(xì)描述本發(fā)明。
本發(fā)明涉及在刻蝕金屬層或金屬氧化物層時(shí)用作掩膜的光刻膠，并且優(yōu)選使用負(fù)性光刻膠。
所述負(fù)性光刻膠為廣泛用于制備在目前LCD彩色濾光片中使用的BM(黑矩陣)的光刻膠。因此，如果使用所述負(fù)性光刻膠刻蝕玻璃或金屬，由于能夠使用采用針對負(fù)性光刻膠的顯影溶液的已知的彩色濾光片的生產(chǎn)線，所以能夠經(jīng)濟(jì)有效地制備印刷版。通常，需要印刷版的膠印法是在LCD彩色濾光片和TFT電路中所用的下一代方法，其可降低成本和生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間(tacttime),并且考慮到LCD面板成本的降低，其可作為針對較低生產(chǎn)率的有效替代方案。
因此，本發(fā)明提出了一種制備能夠用在膠印法中的印刷版的新方法。也就是說，作為在已知彩色濾光片工藝中使用的光掩膜，使用負(fù)性光刻膠來有效地制備具有所需壓紋圖形的印刷版。
首先，將描述根據(jù)本發(fā)明的刻蝕玻璃的方法。
在根據(jù)本發(fā)明的刻蝕玻璃的方法中，在步驟a)中，優(yōu)選玻璃的厚度在0.2 10mm的范圍內(nèi)。原因是，在玻璃具有上述厚度范圍的情況下，在通常的LCD彩色濾光片制備方法中容易地進(jìn)行光刻膠的刻蝕和圖形化之后，其可提供能夠承受覆蓋層的壓力的機(jī)械強(qiáng)度。金屬可包括選自鉻(Cr)、鉬(Mo)和鎢(W)中的一種或多種金屬，但并不限于此。金屬氧化物可包括選自氧化鉻、氧化鉬和氧化鴇中的一種或多種，但不限于此。在本發(fā)明中，在上述實(shí)例中，最優(yōu)選使用鉻或氧化鉻。
作為負(fù)性光刻膠，可以使用用于黑矩陣的黑色光刻膠、用于彩色濾光片的彩色光刻膠等。在此，作為黑色光刻膠和彩色光刻膠，可以使用包括顏料、堿溶性樹脂粘合劑、具有烯鍵式不飽和雙鍵的多官能單體、光敏引發(fā)劑、溶劑和添加劑且在本領(lǐng)域中已知的混合物。優(yōu)選地，設(shè)計(jì)一種負(fù)性光刻膠，以使對由通常汞燈發(fā)射的所有波長的混合波束均發(fā)生光反應(yīng)，例如，可以使用由LG化學(xué)株式會(huì)社(LG Chemicals, Co., Ltd.)生產(chǎn)的化學(xué)產(chǎn)品，例如HCR3410R、 HCR3 310G、 HCR3 210B、 BK73D1等，但不限于此。
所述負(fù)性光刻膠層可以通過在金屬層或金屬氧化物層上旋涂、狹縫與旋轉(zhuǎn)式涂布(slit and spin coating)、狹縫涂布、毛細(xì)管涂布等來形成，但不限于此。
在步驟b)中，可以通過本領(lǐng)域中已知的方法進(jìn)行負(fù)性光刻膠層的選擇性曝光，例如，可以使用光掩膜來進(jìn)行選擇性曝光，但不限于此。
當(dāng)對負(fù)性光刻膠層進(jìn)行選擇性曝光時(shí)，可以使用例如包括1-線(365 nm)、H-線(405 nm)和G-線(436 nm)波長的混合波長的低分辨率光源。曝光可以在高壓汞燈下實(shí)施，其中，以10 300mJ/cmS的曝光量、在1 100mW/cm2的強(qiáng)度下、在包括上述波長范圍的200 800 nm的波長范圍下進(jìn)行曝光2 15秒。在此，曝光量根據(jù)光刻膠的敏感性而不同且優(yōu)選200mJ/cm2。
如果象已知技術(shù)一樣使用在200 300 nm范圍內(nèi)的波長，由于上述波長范圍不是單一波長而是通過使用濾光片等人工地使曝光機(jī)器的波長范圍變窄而形成的波長，所以可在負(fù)性光刻膠中含有的光敏引發(fā)劑的種類受到限制，并且在曝光機(jī)器中需要特殊設(shè)備，例如濾光器(photofUter)。因此，存在工藝復(fù)雜及需要額外成本的問題。
在步驟c)中，作為使負(fù)性光刻膠顯影時(shí)使用的顯影溶液，優(yōu)選使用KOH、NaOH、 TMAH (氫氧化四甲銨)等。
根據(jù)本發(fā)明，負(fù)性光刻膠通過光敏引發(fā)劑組分僅在其接收到UV的部分開始交聯(lián)，預(yù)烘后完成固化而形成堅(jiān)硬的聚合物，并且當(dāng)其在堿性水溶液中顯影時(shí)，由于溶解性的差異，負(fù)性光刻膠未接收到UV的部分溶解。因此，僅僅是接收到UV光線的部分可以保留而形成精細(xì)的圖形。
7另一方面，如果使用酸性水溶液作為顯影溶液，則其溶解負(fù)性光刻膠的未曝光部分及其下面的金屬膜。從而，除去了負(fù)性光刻膠對其下面絕緣基底的粘附強(qiáng)度降低的部分而僅保留了接收光線的部分。但是，這種去除不能完全進(jìn)行，因而不能得到精細(xì)的圖形。
在步驟d)中，當(dāng)金屬層或金屬氧化物層例如為鉻層或氧化鉻層時(shí)，可以
使用硝酸、硝酸鈰銨((NH4)2Ce(N03)6)等作為刻蝕溶液來刻蝕它們，但不限于此。
另外，當(dāng)金屬層或金屬氧化物層例如為鉬層或氧化鉬層時(shí)，可以使用含有根據(jù)刻蝕速率以不同比例彼此混合的HF和H202的混合物作為刻蝕溶液，但不限于此。
此外，當(dāng)金屬層或金屬氧化物層例如為鎢或氧化鎢時(shí)，可以使用含有以不同濃度彼此混合的氫氟酸(HF)和去離子水的氫氟酸水溶液作為刻蝕溶液，但不限于此。
在步驟e)中，可以使用氫氟酸(HF)等作為刻蝕溶液來刻蝕玻璃，但不限于此。
在根據(jù)本發(fā)明的刻蝕玻璃的方法中，在步驟a)中，可以使用在其表面上設(shè)有金屬層或金屬氧化物層的商品玻璃，例如鉻BM玻璃，但是該方法可在步驟a)之前進(jìn)一步包括在玻璃表面上形成金屬層或金屬氧化物層的步驟。該金屬層或金屬氧化物層可通過沉積來形成。
此時(shí)，為了以不超過幾納米的薄膜的形式形成金屬層或金屬氧化物層，可以使用等離子體沉積、電子束沉積和熱沉積，為了防止燈絲產(chǎn)生熱，除了可在常壓下進(jìn)行的等離子體沉積之外，優(yōu)選在10—4~10'12毫巴范圍內(nèi)的真空下進(jìn)行沉積操作。所述沉積通過用氮離子或氧離子轟擊金屬靶來進(jìn)行，所述氮離子或氧離子被高能電子或由聚焦金屬靶的電子束產(chǎn)生的熱量而等離子化。
在步驟e)之后，用再加工制劑(rework chemical)可除去保留在玻璃上的光刻膠，所述再加工制劑為用于除去光刻膠的堿性溶劑，其通常在LCD彩色濾光片工藝中用于提高產(chǎn)率。例如，優(yōu)選使用一種再加工制劑，其中通過將基于胺的添加劑、硫氧化物、表面活性劑等加入NaOH等中來提高刻蝕效果。
此外，在根據(jù)本發(fā)明的刻蝕玻璃的方法中，在步驟e)之后，可以通過使用在步驟d)中應(yīng)用的金屬刻蝕劑來除去保留在玻璃圖形突起上的金屬和金屬氧化物。光刻膠和圖形突起上的金屬和金屬氧化物的去除(在最后步驟中露 出)不是制備印刷版必須實(shí)施的步驟，而且，即使存在有機(jī)和無機(jī)物質(zhì)層， 印刷版的功能也可以保持。
接著，在下文中將描述根據(jù)本發(fā)明的刻蝕金屬的方法。
刻蝕金屬的方法包括以下步驟a)在金屬上形成負(fù)性光刻膠層；b)使 所述負(fù)性光刻膠層選擇性地曝光;C)使負(fù)性光刻膠層的未曝光部分顯影從而 使負(fù)性光刻膠層圖形化；和d)刻蝕金屬，該部分金屬上未涂敷步驟c)中被
圖形化的負(fù)性光刻膠層。
幾乎可以使用具有用于圖形化的刻蝕溶液的所有金屬，例如鉻、鉬和鉤 等來作為所述金屬，但不限于此。另外，除了不使用玻璃之外，使用與刻蝕 玻璃的方法相同的方法和材料。
在本發(fā)明中，當(dāng)基底不是玻璃而是金屬時(shí)，刻蝕金屬的方法可變得更簡 單。在使負(fù)性光刻膠圖形化之后，如果將其暴露于金屬刻蝕溶液中預(yù)定的時(shí) 間，則在金屬上形成不平坦的部分并且可通過使用再加工制劑除去殘留的負(fù) 性光刻膠。
另外，本發(fā)明提供了一種采用刻蝕玻璃或金屬的方法制備印刷版的方法。 此外，本發(fā)明提供了采用所述制備印刷版的方法制備的印刷版。
用刻蝕玻璃的方法制備的印刷版可包括玻璃，其具有由刻蝕而形成的 不平坦的部分；金屬層或金屬氧化物層，其設(shè)置于所述玻璃的突起上；和負(fù) 性光刻膠層，其設(shè)置于所述金屬層或金屬氧化物層上，它們順序成層。另外， 通過進(jìn)一步除去所述光刻膠層，印刷版可包括具有不平坦部分的玻璃和金屬 層或金屬氧化物層，或者，通過再除去所述金屬層或金屬氧化物層，印刷版 可僅包括具有不平坦部分的玻璃。
另夕卜，用刻蝕金屬的方法制備的印刷版可包括金屬，其具有由刻蝕而 形成的不平坦的部分；和負(fù)性光刻膠層，其設(shè)置于所述金屬上，它們順序成 層。另外，通過進(jìn)一步除去所述光刻膠層，印刷版可僅包括具有不平坦部分 的金屬。
此外，本發(fā)明提供了在使電子材料圖形化中使用所述印刷版的方法。具 體地，所述方法可包括以下步驟將電子材料涂敷到基底上；使印刷版的圖 形化的面與基底上涂敷有電子材料的面接觸，從而將電子材料轉(zhuǎn)移到所述印 刷版上；和將涂敷在所述印刷版上的電子材料轉(zhuǎn)移到要印刷的物體上。
9此處，所述基底可以為平板或輥?zhàn)?，并且所述印刷版可以為平板或輥?zhàn)印?另外，本發(fā)明可包括以下步驟用電子材料填充具有凹槽的印刷版的凹 槽；將基底壓在填充了電子材料的印刷版上，從而將填充在凹槽中的電子材
料轉(zhuǎn)移到基底上；和使基底上轉(zhuǎn)移有電子材料的面與要印刷的面接觸，從而
將基底上的電子材料轉(zhuǎn)移到要印刷的物體上。
所述電子材料包括光學(xué)墨汁、用于配線的金屬溶液、導(dǎo)電膠、光刻膠、 附著劑和粘合劑等。
另外，通過轉(zhuǎn)移根據(jù)本發(fā)明的印刷版上的電子材料并對其印刷而獲得的
印刷物體可用在TFT-LCD的彩色濾光片、電子電路等中。
由于采用已知的正性光刻膠制備的印刷版具有良好的圖形準(zhǔn)確性 (pattern straight property),所以和采用負(fù)性光刻膠制備的印刷版相比，可以 獲得更精確的分辨率。通常，由于通過采用單一波長的激光來使正性光刻膠 曝光，所以在涂敷面上幾乎不發(fā)生漫反射，并且對于曝光波長，通常采用例 如157nm、 193 nm和248 nm等的深紫外或者短波長的單一激光束，例如i-線(365 nm)或g-線(436 nm)，從而能夠獲得尺寸不超過幾百納米(nm) 的超精細(xì)圖形。基于相同的原因，由于圖形準(zhǔn)確性確保了在±0.5%內(nèi)的可靠 性，所以采用正性光刻膠的印刷版的圖形準(zhǔn)確性與之對應(yīng)。但是，在正性光 刻膠的情況下，由于需要使用僅用特殊光的曝光機(jī)器，所以與負(fù)性光刻膠的 情況相比，其具有設(shè)備昂貴且原材料成本更高的缺點(diǎn)。因此，在應(yīng)用已知的 LCD彩色濾光片的生產(chǎn)線制備印刷版的情況中，具有許多局限。相反，在負(fù) 性光刻膠的情況下，與采用正性光刻膠制備的印刷版相比，當(dāng)其用于制備要 求幾十微米或不小于100 )Lim水平的用于LCD彩色濾光片的印刷版時(shí)，可以 使用基于KOH的已知彩色濾光片的顯影線并且具有相當(dāng)優(yōu)異的準(zhǔn)確性。 實(shí)施例
在下文中，將參照實(shí)施例詳細(xì)地描述本發(fā)明。但是，本發(fā)明可以多種不 同的形式實(shí)施，而不應(yīng)被解釋為局限于本文舉出的實(shí)施例。相反，提供這些 實(shí)施例是為了充分地向本領(lǐng)域的技術(shù)人員傳遞本發(fā)明的構(gòu)思。
實(shí)施例1
通過采用旋涂在厚度為0.5 mm的鉻BM玻璃(Avatec， lot#l-060916)上 形成厚度為2 pm的用于黑矩陣的負(fù)性光刻膠(LG Chemicals, LGBK73D1)。 將形成的光刻膠以200 mJ/cn^的曝光量在光強(qiáng)為20 mW/cm2的高壓汞燈下曝光10秒，并用KOH顯影溶液使曝光的負(fù)性光刻膠顯影。在顯影之后，僅有
曝光了的圖形部分保留在鉻BM上，而由于被光掩膜遮蔽而未曝光的部分被
顯影溶液洗去，從而露出鉻層。為了刻蝕該鉻層以便露出玻璃部分，采用通
過以16:10:74的混合比混合硝酸、硝酸鈰銨((NH4)2Ce(N03)6)和H20來制 備的刻蝕溶液來刻蝕所述鉻層。接著，用含有以9:1的混合比彼此混合的去 離子水和氫氟酸的氫氟酸水溶液刻蝕玻璃部分，以制備其上形成有圖形的印 刷版。制備的印刷版在圖3和圖4中示出。 比較例
通過采用旋涂在厚度為0.5 mm的鉻BM玻璃(Avatec, lot#l-060916)上 形成厚度為2 pm的正性光刻膠(Clariant， AZ1512)。將形成的光刻膠以200 mJ/cn^的曝光量在光強(qiáng)為20 mW/cm2的高壓汞燈下曝光10秒，并用2.38% 的TMAH (氫氧化四甲銨)顯影溶液使曝光的光刻膠顯影。在顯影之后，僅 有被光掩膜遮蔽的圖形部分保留在鉻BM上，而曝光了的部分被顯影溶液洗 去，從而露出鉻層。為了刻蝕該鉻層以便露出玻璃部分，采用通過以16:10:74 的混合比混合硝酸、硝酸鈰銨((NH4)2Ce(N03)6)和H20制備的刻蝕溶液來 刻蝕所述鉻層。接著，用含有以9:1的混合比彼此混合的去離子水和氫氟酸 的氫氟酸水溶液刻蝕玻璃部分，以制備其上形成有圖形的印刷版。制備的印 刷版在圖5中示出。
通過采用旋涂在厚度為0.5 mm的鉻BM玻璃(Avatec, lot#l-060916)上 形成厚度為1.5 iam的用于黑矩陣的藍(lán)色負(fù)性光刻膠(LG Chemicals, HCR3 210B)之后，使形成的光刻膠以100 mJ/cn^的曝光量在光強(qiáng)為20 mW/cm2 的高壓汞燈下曝光5秒，并用TMAH (氫氧化四甲銨)顯影溶液使曝光的負(fù) 性光刻膠顯影。在顯影之后，僅有曝光了的圖形部分保留在鉻BM上，而由 于被光掩膜遮蔽而未曝光的部分被顯影溶液洗去，從而露出鉻層。為了刻蝕 該鉻層以便露出玻璃部分，采用通過以16:10:74的混合比混合硝酸、硝酸鈰 銨((NH4)2Ce(N03)6)和H20制備的刻蝕溶液來刻蝕所述鉻層。接著，用含 有以9:1的混合比彼此混合的去離子水和氫氟酸的氫氟酸水溶液刻蝕玻璃部 分，以制備其上形成有圖形的印刷版。制備的印刷版在圖6中示出。如圖6 所示，根據(jù)本發(fā)明能夠制備具有清晰圖形的印刷版。
權(quán)利要求
1、一種刻蝕玻璃的方法，其包括以下步驟a)在設(shè)置于玻璃表面上的金屬層或金屬氧化物層上形成負(fù)性光刻膠層；b)使所述負(fù)性光刻膠層選擇性地曝光；c)使所述負(fù)性光刻膠層的未曝光部分顯影從而使負(fù)性光刻膠層圖形化；d)刻蝕金屬層或金屬氧化物層，該部分金屬層或金屬氧化物層上沒有涂敷步驟c)中被圖形化的負(fù)性光刻膠層；和e)刻蝕玻璃，該部分玻璃上沒有涂敷步驟d)中被圖形化的金屬層或金屬氧化物層。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕玻璃的方法，其進(jìn)一步包括在步驟a)之前，在所述玻璃表面上形成金屬層或金屬氧化物層。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的刻蝕玻璃的方法，其中，在步驟a)之前，所述金屬層或金屬氧化物層通過使用選自等離子體沉積、電子束沉積和熱沉積中的任意一種方法而被沉積到玻璃表面上。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕玻璃的方法，其進(jìn)一步包括在歩驟e)之后，除去所述負(fù)性光刻膠層。
5、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的刻蝕玻璃的方法，其進(jìn)一步包括在除去所述負(fù)性光刻膠層的步驟之后，除去所述金屬層或金屬氧化物層。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕玻璃的方法，其中，所述玻璃的厚度在0.2 10mm的范圍內(nèi)。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕玻璃的方法，其中，所述金屬包括選自鉻、鉬和鎢中的一種或多種。
8、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕玻璃的方法，其中，所述金屬氧化物包括選自氧化鉻、氧化鉬和氧化鎢中的一種或多種。
9、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕玻璃的方法，其中，所述負(fù)性光刻膠為選自黑色光刻膠和彩色光刻膠中的任意一種。
10、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕玻璃的方法，其中，在所述金屬層或金屬氧化物層上，采用選自旋涂法、狹縫與旋轉(zhuǎn)式涂布法、狹縫涂布法和毛細(xì)管涂布法中的任意一種方法來形成所述負(fù)性光刻膠層。
11、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕玻璃的方法，其中，在步驟b)中，所述曝光在200 800 nm的波長范圍內(nèi)進(jìn)行2 15秒。
12、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕玻璃的方法，其中，在步驟b)中，所述曝光在選自為I-線的356 nm、為H-線的405 nm和為G-線的436 nm中的一種或多種波長處進(jìn)行2 15秒。
13、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕玻璃的方法，其中，在步驟c)中，使用選自KOH和NaOH中的一種或多種顯影溶液來進(jìn)行所述顯影。
14、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕玻璃的方法，其中，在步驟d)中，使用選自硝酸、硝酸鈰銨、氫氟酸和H202的溶液混合物以及氫氟酸和去離子水的溶液混合物中的一種或多種刻蝕溶液來刻蝕所述金屬層或金屬氧化物層。
15、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕玻璃的方法，其中，在步驟e)中，使用氫氟酸來刻蝕所述玻璃。
16、 一種采用權(quán)利要求1所述的刻蝕玻璃的方法制備印刷版的方法。
17、 一種采用權(quán)利要求16所述的制備印刷版的方法制備的印刷版。
18、 根據(jù)權(quán)利要求17所述的印刷版，其中，所述印刷版包括玻璃，其具有由刻蝕而形成的不平坦的部分；金屬層或金屬氧化物層，其設(shè)置于所述玻璃的突起上；和負(fù)性光刻膠層，其設(shè)置于所述金屬層或金屬氧化物層上，它們順序成層。
19、 一種在使電子材料圖形化中使用權(quán)利要求17所述的印刷版的方法。
20、 一種刻蝕金屬的方法，其包括以下步驟a) 在金屬上形成負(fù)性光刻膠層；b) 使所述負(fù)性光刻膠層選擇性地曝光；C)使所述負(fù)性光刻膠層的未曝光部分顯影從而使負(fù)性光刻膠層圖形化；和d)刻蝕金屬，該部分金屬上沒有涂敷步驟c)中被圖形化的負(fù)性光刻膠層。
21、 根據(jù)權(quán)利要求20所述的刻蝕金屬的方法，其中，所述金屬包括選自鉻、鉬和鉤中的一種或多種。
22、 一種采用權(quán)利要求20所述的刻蝕金屬的方法制備印刷版的方法。
23、 一種采用權(quán)利要求22所述的制備印刷版的方法制備的印刷版。
24、 根據(jù)權(quán)利要求23所述的印刷版，其中，所述印刷版包括金屬，其具有由刻蝕而形成的不平坦的部分；和負(fù)性光刻膠層，其設(shè)置于所述金屬上，它們順序成層。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種采用負(fù)性光刻膠刻蝕玻璃或金屬的方法以及采用該方法制備印刷版的方法。在根據(jù)本發(fā)明的刻蝕玻璃或金屬的方法中，由于負(fù)性光刻膠與金屬或金屬氧化物之間的粘合強(qiáng)度優(yōu)異，光刻膠層不會(huì)被金屬或金屬氧化物刻蝕溶液腐蝕，所以不必制備反型光掩膜，制備方法簡單且能夠使用例如混合波長型光源的低分辨率光源，從而確保了經(jīng)濟(jì)效益。
文檔編號H01L21/306GK101675504SQ200880014683
公開日2010年3月17日 申請日期2008年9月22日 優(yōu)先權(quán)日2007年9月21日
發(fā)明者崔庚銖, 李基羅, 李承憲, 田景秀, 申東明, 金志洙 申請人:Lg化學(xué)株式會(huì)社