基板處理裝置的制作方法

文檔序號：6891191閱讀：224來源：國知局

專利名稱：基板處理裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種對基板進行處理的基板處理裝置。
背景技術：
一直以來，為了對半導體晶片、光掩模用玻璃基板、液晶顯示裝置用玻璃基板、光盤用基板等基板進行各種處理，采用基板處理裝置。
例如，在JP特開2004-146708號公報中，記載了具有使基板的表面和背面翻轉(zhuǎn)的翻轉(zhuǎn)單元的基板處理裝置。在這種基板處理裝置中，在矩形處理部的大致中央處，配置有用以搬運基板的中央機械手(搬運單元)。
在處理部內(nèi)，以包圍中央機械手的方式分別配置有對基板的背面進行清洗處理的多個(例如4個)的背面清洗單元。進而，在處理部內(nèi)，在能夠通過中央機械手來存取的位置上配置有翻轉(zhuǎn)單元。
在處理部的一端部側(cè)設置有具備收容基板的多個收容容器的分度器部。在該分度器部中，設置有從上述收容容器取出處理之前的基板或者將經(jīng)過處理的基板收容于上述收容容器內(nèi)的基板搬運機械手。
在如上述的結(jié)構(gòu)中，基板搬運機械手從任意收容容器取出處理之前的基板后傳遞給中央機械手，并從該中央機械手接收經(jīng)過處理的基板后收容于收容容器中。
中央機械手如果從基板搬運機械手接收處理之前的基板，則將接收的基板傳遞給翻轉(zhuǎn)單元。翻轉(zhuǎn)單元使從中央機械手接收的基板進行翻轉(zhuǎn)，以使表面朝向下方。然后，中央機械手接收通過翻轉(zhuǎn)單元來翻轉(zhuǎn)的基板，并將該基板搬入到任意的背面清洗單元。
接著，如果在上述任意的背面清洗單元中的處理結(jié)束，中央機械手則從背面清洗單元搬出該基板后再次傳遞給翻轉(zhuǎn)單元。翻轉(zhuǎn)單元使在背面清洗單元中進行過處理的基板進行翻轉(zhuǎn)，以使表面朝向上方。
然后，中央機械手接收通過翻轉(zhuǎn)單元來翻轉(zhuǎn)的基板并傳遞給基板搬運機械手?；灏徇\機械手將從中央機械手接收的經(jīng)過處理的基板收容于收容容器中。但是，在上述以往的基板處理裝置中，由于基板的搬運工序數(shù)量較多，所以中央機械手的動作變復雜。另外，近年來，要求對基板的外周端面也進行清洗處理。如果在上述結(jié)構(gòu)的基礎上，還設置用于對基板的外周端面進行清洗處理的端面清洗單元，則中央機械手的動作變得更復雜。在該情況下，很難以高效率搬運多張基板，因此基板處理中的處理能力明顯下降。另外，有一種具備用于對基板表面進行處理的表面處理單元、用于對基板背面進行處理的背面處理單元、以及使基板表面和背面翻轉(zhuǎn)的翻轉(zhuǎn)單元的基板處理裝置。在這種基板處理裝置中，在矩形處理部的大致中央處，配置有搬運基板的中央機械手。在處理部內(nèi)，以包圍中央機械手的方式配置有表面處理單元以及背面處理單元。進而，在處理部內(nèi)，在能夠通過中央機械手來存取的位置上配置有翻轉(zhuǎn)單元。在處理部的一端部側(cè)設置有具備收容基板的多個收容容器的分度器部。在該分度器部中，設置有從上述收容容器取出處理之前的基板或者將經(jīng)過處理的基板收容于上述收容容器內(nèi)的基板搬運機械手。在如上述的結(jié)構(gòu)中，基板搬運機械手從任意的收容容器取出處理之前的基板后傳遞給中央機械手，并從該中央機械手接收經(jīng)過處理的基板后收容于收容容器中。中央機械手如果從基板搬運機械手接收處理之前的基板，則將接收的基板搬入到表面清洗單元中。如果表面清洗單元中的處理結(jié)束，中央機械手則從表面清洗單元搬出基板，接著，傳遞給翻轉(zhuǎn)單元。翻轉(zhuǎn)單元使從中央機械手接收的基板進行翻轉(zhuǎn)，以使表面朝向下方。然后，中央機械手接收通過翻轉(zhuǎn)單元來翻轉(zhuǎn)的基板，并將該基板搬入到背面清洗單元中。如果背面清洗單元中的處理結(jié)束，中央機械手則從背面清洗單元搬出基板并再次傳遞給翻轉(zhuǎn)單元。翻轉(zhuǎn)單元使在背面清洗單元中進行過處理的基板進行翻轉(zhuǎn)，以使表面朝向上方。然后，中央機械手接收通過翻轉(zhuǎn)單元來翻轉(zhuǎn)的基板并傳遞給基板搬運機械手?；灏徇\機械手將從中央機械手接收的經(jīng)過處理的基板收容于收容容器中。如此，在表面處理單元、背面處理單元以及翻轉(zhuǎn)單元之間的基板的搬運，通過一臺中央機械手來進行。由此，基板的搬運工序數(shù)量增加，中央機械手的動作變復雜。所以，很難以高效率搬運多張基板，因此基板處理中的處理能力下降。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于，提供一種能夠提高處理能力的基板處理裝置。本發(fā)明的上述目的可通過以下方式實現(xiàn)。 (1)本發(fā)明提供一種基板處理裝置，其對具有表面以及背面的基板進行處理，該基板處理裝置具有第一以及第二處理區(qū)域，其互相鄰接而配置，并用于對基板進行處理；搬入搬出區(qū)域，其對第一處理區(qū)域搬入以及搬出基板；第一交接區(qū)域，其設置在搬入搬出區(qū)域和第一處理區(qū)域之間；第二交接區(qū)域，其設置在第一處理區(qū)域和第二處理區(qū)域之間，其中，第一處理區(qū)域具有第一處理部；第一搬運裝置，其在第一交接區(qū)域、第一處理部以及第二交接區(qū)域之間搬運基板，第二處理區(qū)域具有第二處理部；第二搬運裝置，其在第二交接區(qū)域以及第二處理部之間搬運基板，搬入搬出區(qū)域具有容器裝載部，其裝載用以收容基板的收容容器；第三搬運裝置，其在裝載于容器裝載部的收容容器和第一交接區(qū)域之間搬運基板，而且，第一以及第二處理部中的任意一方具有用以清洗基板背面的背面清洗處理部，第一交接區(qū)域、第二交接區(qū)域以及在第二搬運裝置中與第二交接區(qū)域相反側(cè)的區(qū)域中的至少一個區(qū)域上具有翻轉(zhuǎn)裝置，該翻轉(zhuǎn)裝置用以使基板的表面和背面進行翻轉(zhuǎn)。在該基板處理裝置中，進行從搬入搬出區(qū)域到第一處理區(qū)域的基板的搬入搬出，在第一處理區(qū)域以及第二處理區(qū)域進行基板的處理。在第一處理區(qū) 域中，通過第一搬運裝置在第一交接區(qū)域、第一處理部以及第二交接區(qū)域之間搬運基板。在第二處理區(qū)域中，通過第二搬運裝置在第二交接區(qū)域以及第二處理部之間搬運基板。另外，在搬入搬出區(qū)域中，通過第三搬運裝置在裝載于容器裝載部的收容容器和第一交接區(qū)域之間搬運基板。第一交接區(qū)域、第二交接區(qū)域以及在第二搬運裝置中與第二交接區(qū)域相反側(cè)的區(qū)域中的至少一個區(qū)域中，通過翻轉(zhuǎn)裝置對基板進行翻轉(zhuǎn)，以使背面朝向上方，而且在第一以及第二處理部中的一方，通過背面清洗處理部對基板的背面進行清洗。通過這樣的結(jié)構(gòu)，在第一處理區(qū)域以及第二處理區(qū)域中，能夠同時進行通過第一搬運裝置進行的基板搬運和通過第二搬運裝置進行的基板搬運。由此，能夠高效率地搬運多張基板。從而能夠縮短第一處理區(qū)域以及第二處理區(qū)域中的基板搬運時間。其結(jié)果，能夠提高基板處理裝置中的處理能力。(2) 也可以是，第一以及第二處理部中的任意一方具有端面清洗處理部，所述端面清洗處理部在保持基板背面的同時對基板的外周端部進行清洗，翻轉(zhuǎn)裝置對通過端面清洗處理部清洗的基板的表面和背面進行翻轉(zhuǎn)，背面清洗處理部對通過翻轉(zhuǎn)裝置翻轉(zhuǎn)的基板的背面進行清洗。在該情況下，第一以及第二處理部的任意一方中，在保持基板的背面的同時通過端面清洗處理部清洗基板的外周端部。通過端面清洗處理部清洗的基板在第一交接區(qū)域、第二交接區(qū)域以及在第二搬運裝置中與第二交接區(qū)域相反側(cè)的區(qū)域中的至少一個區(qū)域中，通過翻轉(zhuǎn)裝置對表面和背面進行翻轉(zhuǎn)。而且在第一以及第二處理部的任意一方中，通過背面清洗處理部對由翻轉(zhuǎn)裝置翻轉(zhuǎn)的基板的背面進行清洗。就這樣，在通過端面清洗處理部清洗基板的外周端部之后，通過背面清洗處理部清洗基板的背面。由此，即使在端面清洗處理部中因基板的背面被保持而基板的背面被污染，該基板背面的污染也可以在背面清洗處理部中被去除。由此，能夠充分干凈地清洗基板。(3) 也可以是，端面清洗處理部具有多層配置的多個端面清洗單元，背面清洗處理部具有多層配置的多個背面清洗單元。在該情況下，通過多層配置多個端面清洗單元以及多個背面清洗單元，能夠減少占用面積，并能夠高效率地進行多張基板的外周端部的清洗和多張基板的背面的清洗。從而，能夠進一步提高基板處理裝置中的處理能力。(4) 也可以是，第一以及第二處理部中的任意一方具有用以清洗基板表面的表面清洗處理部。在該情況下，在第一以及第二處理部中的任意一方處理部中，通過表面清洗處理部清洗基板的表面。(5) 也可以是，表面清洗處理部具有多層配置的多個表面清洗單元。在該情況下，通過多層配置多個表面清洗單元，能夠減少占用面積，并能夠高效率地進行多張基板的表面的清洗。從而，能夠進一步提高基板處理裝置中的處理能力。(6)也可以是，翻轉(zhuǎn)裝置具有第一以及第二翻轉(zhuǎn)裝置，第一交接區(qū)域具有用以裝載基板的第一基板裝載部和第一翻轉(zhuǎn)裝置，第二交接區(qū)域具有用以裝載基板的第二基板裝載部和第二翻轉(zhuǎn)裝置，第一處理部具有背面清洗處理部，第二處理部具有端面清洗處理部以及表面清洗處理部，第一搬運裝置在第一基板裝載部、第二基板裝載部、第一翻轉(zhuǎn)裝置、第二翻轉(zhuǎn)裝置以及背面清洗處理部之間搬運基板，第二搬運裝置在第二基板裝載部、第二翻轉(zhuǎn)裝置、端面清洗處理部以及表面清洗處理部之間搬運基板，第三搬運裝置在收容容器、第一基板裝載部以及第一翻轉(zhuǎn)裝置之間搬運基板。在該情況下，未處理基板通過第三搬運裝置從收容容器取出，并裝載于第一基板裝載部。裝載于第一基板裝載部的基板通過第一搬運裝置裝載于第二基板裝載部。裝載于第二基板裝載部的基板通過第二搬運裝置搬入到端面清洗處理部以及表面清洗處理部中的一方。通過端面清洗處理部以及表面清洗處理部中的一方清洗后的基板，通過第二搬運裝置搬入到端面清洗處理部以及表面清洗處理部中的另一方。由表面清洗處理部以及端面清洗處理部清洗后的基板，通過第二搬運裝置搬入到第二翻轉(zhuǎn)裝置。用第二翻轉(zhuǎn)裝置進行翻轉(zhuǎn)而使背面朝向上方的基板，通過第一搬運裝置搬入到背面清洗處理部。用背面清洗處理部清洗后的基板，通過第一搬運裝置搬入到第一翻轉(zhuǎn)裝置。通過第一翻轉(zhuǎn)裝置進行翻轉(zhuǎn)而使表面朝向上方的基板，由第三搬運裝置返回到收容容器中。通過這樣的結(jié)構(gòu)，能夠同時進行通過第一搬運裝置的基板搬運和通過第二搬運裝置的基板搬運。由此，能夠高效率地搬運多張基板。從而能夠縮短基板處理裝置中基板的搬運時間。其結(jié)果，能夠提高基板處理裝置中的處理能力。另外，在通過端面清洗處理部清洗基板的外周端部之后，用背面清洗處理部清洗基板的背面，由此，即使在端面清洗處理部中基板的背面被污染，該基板的背面污染也可以在背面清洗處理部中被去除。由此，能夠充分干凈地清洗基板。另外，在第二交接區(qū)域中，能夠通過第二翻轉(zhuǎn)裝置使基板進行翻轉(zhuǎn)的同時，從第二搬運裝置向第一搬運裝置傳遞基板。另外，在第一交接區(qū)域中，能夠通過第一翻轉(zhuǎn)裝置使基板進行翻轉(zhuǎn)的同時，從第一搬運裝置向第三搬運裝置傳遞基板。由此，能夠進一步縮短基板的搬運時間，且進一步提高基板處理裝置中的處理能力。(7) 也可以是，第一翻轉(zhuǎn)裝置使基板繞著旋轉(zhuǎn)軸進行翻轉(zhuǎn)，該旋轉(zhuǎn)軸與交接基板時第一搬運裝置的位置和第三搬運裝置的位置的連接線相交叉；而第二翻轉(zhuǎn)裝置使基板繞著旋轉(zhuǎn)軸進行翻轉(zhuǎn)，該旋轉(zhuǎn)軸與交接基板時第一搬運裝置的位置和第二搬運裝置的位置的連接線相交叉。在該情況下，第一翻轉(zhuǎn)裝置在不必轉(zhuǎn)換方向的情況下，能夠在第一以及第三搬運裝置之間交接基板，且第二翻轉(zhuǎn)裝置在不必轉(zhuǎn)換方向的情況下，能夠在第一以及第二搬運裝置之間交接基板。從而，能夠?qū)崿F(xiàn)第一以及第二翻轉(zhuǎn)裝置結(jié)構(gòu)的簡單化，同時，實現(xiàn)低成本化。另外，由于第一以及第二翻轉(zhuǎn) 裝置不必轉(zhuǎn)換方向，所以提高基板處理裝置中的處理能力。(8) 也可以是，第一交接區(qū)域具有用以裝載基板的第一基板裝載部，第二交接區(qū)域具有用以裝載基板的第二基板裝載部和翻轉(zhuǎn)裝置，第一處理部具有表面清洗處理部，第二處理部具有端面清洗處理部以及背面清洗處理部，第一搬運裝置在第一基板裝載部、第二基板裝載部、翻轉(zhuǎn)裝置、以及表面清洗處理部之間搬運基板，第二搬運裝置在第二基板裝載部、翻轉(zhuǎn)裝置、端部清洗處理部以及背面清洗處理部之間搬運基板，第三搬運裝置在收容容器以及第一基板裝載部之間搬運基板。在該情況下，未處理基板通過第三搬運裝置從收容容器取出，并裝載于第一基板裝載部。裝載于第一基板裝載部的基板通過第一搬運裝置裝載于第二基板裝載部。裝載于第二基板裝載部的基板通過第二搬運裝置搬入到端面清洗處理部。用端面清洗處理部清洗后的基板，通過第二搬運裝置搬入到翻轉(zhuǎn)裝置。通過翻轉(zhuǎn)裝置進行翻轉(zhuǎn)而使背面朝向上方的基板，由第二搬運裝置搬入到背面清洗處理部。用背面清洗處理部清洗后的基板，通過第二搬運裝置搬入到翻轉(zhuǎn)裝置。通過翻轉(zhuǎn)裝置進行翻轉(zhuǎn)而使表面朝向上方的基板，由第一搬運裝置搬入到表面清洗處理部。用表面清洗處理部清洗后的基板，通過第一搬運裝置裝載于第一基板裝載部。裝載于第一基板裝載部的基板，通過第三搬運裝置返回到收容容器中。通過這樣的結(jié)構(gòu)，能夠同時進行通過第一搬運裝置的基板搬運和通過第二搬運裝置進行的基板搬運。由此> 能夠高效率地搬運多張基板。從而能夠縮短基板處理裝置中基板的搬運時間。其結(jié)果，能夠提高基板處理裝置中的處理能力。另外，在用端面清洗處理部清洗基板的外周端部之后，通過背面清洗處理部清洗基板的背面。由此，即使在端面清洗處理部中基板的背面被污染，該基板的背面污染也可以在背面清洗處理部中被去除。由此，能夠充分干凈地清洗基板。另外，在第二交接區(qū)域中，能夠通過翻轉(zhuǎn)裝置使基板進行翻轉(zhuǎn)的同時，從第二搬運裝置向第一搬運裝置傳遞基板。由此，能夠進一步縮短基板的搬運時間，且能夠進一步提高基板處理裝置中的處理能力。另外，在上述結(jié)構(gòu)中，也可以用表面清洗處理部清洗基板的表面之后，通過端面清洗處理部以及背面清洗處理部清洗基板的外周端部以及背面。(9) 也可以是，翻轉(zhuǎn)裝置使基板繞著旋轉(zhuǎn)軸進行翻轉(zhuǎn)，該旋轉(zhuǎn)軸與在交接基板時第一搬運裝置的位置和第二搬運裝置的位置的連接線相交叉。在該情況下，翻轉(zhuǎn)裝置在不必轉(zhuǎn)換方向的情況下，能夠在第一以及第二搬運裝置之間交接基板。從而，能夠?qū)崿F(xiàn)翻轉(zhuǎn)裝置結(jié)構(gòu)的簡單化的同時，實現(xiàn)低成本化。另外，由于翻轉(zhuǎn)裝置不必轉(zhuǎn)換方向，所以提高基板處理裝置中的處理能力。(10) 也可以是，第一以及第二處理部中的另一方具有用以清洗基板表面的表面清洗處理部。在該情況下，在第一交接區(qū)域、第二交接區(qū)域以及在第二搬運裝置中與第二交接區(qū)域相反側(cè)的區(qū)域中的至少一個區(qū)域中，通過翻轉(zhuǎn)裝置對基板進行翻轉(zhuǎn)使得其背面朝向上方，并在第一以及第二處理部的一方中，通過背面清洗處理部對基板的背面進行清洗。用背面清洗處理部清洗后的基板，通過翻轉(zhuǎn)裝置再次進行翻轉(zhuǎn)使得其表面朝向上方。在第一以及第二處理部的另一方中，通過表面清洗處理部清洗基板的表面。通過這樣的結(jié)構(gòu)，在第一處理區(qū)域以及第二處理區(qū)域中，能夠同時進行通過第一搬運裝置的基板搬運和通過第二搬運裝置的基板搬運。由此，能夠高效率地搬運多張基板。從而能夠縮短第一處理區(qū)域以及第二處理區(qū)域中的基板搬運時間。其結(jié)果，能夠提高基板處理裝置中的處理能力。(11) 也可以是，背面清洗處理部具有多層配置的多個背面清洗單元，表面清洗處理部具有多層配置的多個表面清洗單元。在該情況下，通過多層配置多個背面清洗單元以及多個表面清洗單元，能夠減少占用面積，并能夠高效率地進行多張基板的背面清洗和多張基板的表面清洗。從而，能夠進一步提高基板處理裝置中的處理能力。(12) 也可以是，翻轉(zhuǎn)裝置具有第一以及第二翻轉(zhuǎn)裝置，第一交接區(qū)域具有用以裝載基板的第一基板裝載部和第一翻轉(zhuǎn)裝置，第二交接區(qū)域具有用以裝載基板的第二基板裝載部和第二翻轉(zhuǎn)裝置，第一處理部具有背面清洗處理部，第二處理部具有表面清洗處理部，第一搬運裝置在第一基板裝載部、第二基板裝載部、第一翻轉(zhuǎn)裝置、第二翻轉(zhuǎn)裝置以及背面清洗處理部之間搬運基板，第二搬運裝置在第二基板裝載部、第二翻轉(zhuǎn)裝置以及表面清洗處理部之間搬運基板，第三搬運裝置在裝載于容器裝載部的收容容器、第一基板裝載部以及第一翻轉(zhuǎn)裝置之間搬運基板。在該情況下，在第一處理區(qū)域中，通過第一搬運裝置在第一基板裝載部、第二基板裝載部、第一翻轉(zhuǎn)裝置、第二翻轉(zhuǎn)裝置以及背面清洗處理部之間搬運基板。在第二處理區(qū)域中，通過第二搬運裝置在第二基板裝載部、第二翻轉(zhuǎn)裝置以及表面清洗處理部之間搬運基板。在搬入搬出區(qū)域中，通過第三搬運裝置在裝載于容器裝載部的收容容器、第一基板裝載部以及第一翻轉(zhuǎn)裝置之間搬運基板。通過這樣的結(jié)構(gòu)，在第一處理區(qū)域以及第二處理區(qū)域中，能夠同時進行通過第一搬運裝置的基板搬運和通過第二搬運裝置的基板搬運。由此，能夠高效率地搬運多張基板。從而能夠縮短第一處理區(qū)域以及第二處理區(qū)域中的基板搬運時間。其結(jié)果，能夠提高基板處理裝置中的處理能力。另外，在第一交接區(qū)域中，能夠通過第一翻轉(zhuǎn)裝置對基板進行翻轉(zhuǎn)的同時，在第一搬運裝置以及第三搬運裝置之間傳遞基板。而且，在第二交接區(qū) 域中，能夠通過第二翻轉(zhuǎn)裝置對基板進行翻轉(zhuǎn)的同時，在第一搬運裝置以及第二搬運裝置之間傳遞基板。由此，能夠進一步縮短基板的搬運時間，且能夠進一步提高基板處理裝置中的處理能力。(13) 也可以是，第一翻轉(zhuǎn)裝置使基板繞著旋轉(zhuǎn)軸進行翻轉(zhuǎn)，該旋轉(zhuǎn)軸與在交接基板時第一搬運裝置的位置和第三搬運裝置的位置的連接線相交叉；第二翻轉(zhuǎn)裝置使基板繞著旋轉(zhuǎn)軸進行翻轉(zhuǎn)，該旋轉(zhuǎn)軸與在交接基板時第一搬運裝置的位置和第二搬運裝置的位置的連接線相交叉。在該情況下，第一翻轉(zhuǎn)裝置在不必轉(zhuǎn)換方向的情況下，能夠在第一以及第三搬運裝置之間交接基板，第二翻轉(zhuǎn)裝置在不必轉(zhuǎn)換方向的情況下，能夠在第一以及第二搬運裝置之間交接基板。從而，能夠?qū)崿F(xiàn)第一以及第二翻轉(zhuǎn) 裝置結(jié)構(gòu)的簡單化的同時，實現(xiàn)低成本化。另外，由于第一以及第二翻轉(zhuǎn)裝置不必轉(zhuǎn)換方向，所以提高基板處理裝置中的處理能力。(14) 也可以是，第一交接區(qū)域具有用以裝載基板的第一基板裝載部，第二交接區(qū)域具有翻轉(zhuǎn)裝置，第一處理部具有表面清洗處理部，第二處理部具有背面清洗處理部，第一搬運裝置在第一基板裝載部、翻轉(zhuǎn)裝置以及表面清洗處理部之間搬運基板，第二搬運裝置在翻轉(zhuǎn)裝置以及背面清洗處理部之間搬運基板，第三搬運裝置在裝載于容器裝載部的收容容器以及第一基板裝載部之間搬運基板。在該情況下，在第一處理區(qū)域中，通過第一搬運裝置在第一基板裝載部、翻轉(zhuǎn)裝置以及表面清洗處理部之間搬運基板。在第二處理區(qū)域中，通過第二搬運裝置在翻轉(zhuǎn)裝置以及背面清洗處理部之間搬運基板。在搬入搬出區(qū)域中，通過第三搬運裝置在裝載于容器裝載部的收容容器、第一基板裝載部之間搬運基板。通過這樣的結(jié)構(gòu)，在第一處理區(qū)域以及第二處理區(qū)域中，能夠同時進行通過第一搬運裝置的基板搬運和通過第二搬運裝置的基板搬運。由此，能夠高效率地搬運多張基板。從而能夠縮短第一處理區(qū)域以及第二處理區(qū)域中的基板搬運時間。其結(jié)果，能夠提高基板處理裝置中的處理能力。另外，在第二交接區(qū)域中，能夠通過翻轉(zhuǎn)裝置對基板進行翻轉(zhuǎn)的同時，在第一搬運裝置以及第二搬運裝置之間傳遞基板。由此，能夠進一步縮短基板的搬運時間，且能夠進一步提高基板處理裝置中的處理能力。(15) 也可以是，翻轉(zhuǎn)裝置使基板繞著旋轉(zhuǎn)軸進行翻轉(zhuǎn)，該旋轉(zhuǎn)軸與在交接基板時第一搬運裝置的位置和第二搬運裝置的位置的連接線相交叉。在該情況下，翻轉(zhuǎn)裝置在不必轉(zhuǎn)換方向的情況下，能夠在第一以及第二搬運裝置之間交接基板。從而，能夠?qū)崿F(xiàn)翻轉(zhuǎn)裝置結(jié)構(gòu)的簡單化的同時，實現(xiàn)低成本化。另外，由于翻轉(zhuǎn)裝置不必轉(zhuǎn)換方向，所以提高基板處理裝置中的處理能力。(16) 也可以是，第一交接區(qū)域具有用以裝載基板的第一基板裝載部，第二交接區(qū)域具有用以裝載基板的第二基板裝載部，與第二交接區(qū)域相反側(cè) 的區(qū)域具有翻轉(zhuǎn)裝置，第一處理部具有表面清洗處理部，第二處理部具有背面清洗處理部，第一搬運裝置在第一基板裝載部、第二基板裝載部以及表面清洗處理部之間搬運基板，第二搬運裝置在第二基板裝載部、翻轉(zhuǎn)裝置以及背面清洗處理部之間搬運基板，第三搬運裝置在裝載于容器裝載部的收容容器以及第一基板裝載部之間搬運基板。在該情況下，在第一處理區(qū)域中，通過第一搬運裝置在第一基板裝載部、第二基板裝載部以及表面清洗處理部之間搬運基板。在第二處理區(qū)域中，通過第二搬運裝置在第二基板裝載部、翻轉(zhuǎn)裝置以及背面清洗處理部之間搬運基板。在搬入搬出區(qū)域中，通過第三搬運裝置在裝載于容器裝載部的收容容器、第一基板裝載部之間搬運基板。通過這樣的結(jié)構(gòu)，在第一處理區(qū)域以及第二處理區(qū)域中，能夠同時進行通過第一搬運裝置的基板搬運和通過第二搬運裝置的基板搬運。由此，能夠高效率地搬運多張基板。從而能夠縮短第一處理區(qū)域以及第二處理區(qū)域中基板的搬運時間。其結(jié)果，能夠提高基板處理裝置中的處理能力。(17) 也可以是，翻轉(zhuǎn)裝置具有上下配置的第一以及第二翻轉(zhuǎn)裝置。在該情況下，用第一翻轉(zhuǎn)裝置使通過背面清洗處理部進行清洗之前的基板進行翻轉(zhuǎn)，并用第二翻轉(zhuǎn)裝置使通過背面清洗處理部清洗后的基板進行翻轉(zhuǎn)。因此，即使通過背面清洗處理部進行清洗之前的基板的背面被污染了，也能夠防止污染物經(jīng)由翻轉(zhuǎn)裝置轉(zhuǎn)移到經(jīng)過背面清洗處理后的基板上。因此，能夠使通過背面清洗處理部清洗后的基板保持干凈的狀態(tài)。(18) 也可以是，第一翻轉(zhuǎn)裝置用于對通過背面清洗處理部清洗之前的基板進行翻轉(zhuǎn)，第二翻轉(zhuǎn)裝置用于對通過背面清洗處理部清洗之后的基板進行翻轉(zhuǎn)。在該情況下，即使通過背面清洗處理部進行清洗之前的基板的背面被污染了，也能夠防止污染物經(jīng)由翻轉(zhuǎn)裝置轉(zhuǎn)移到經(jīng)過背面清洗處理后的基板上。因此，能夠使通過背面清洗處理部清洗后的基板保持干凈的狀態(tài)。(19) 也可以是，翻轉(zhuǎn)裝置具有第一保持機構(gòu)，其將基板以垂直于第一軸的狀態(tài)加以保持；第二保持機構(gòu)，其將基板以垂直于第一軸的狀態(tài)加以保持；支撐構(gòu)件，其將第一以及第二保持機構(gòu)以在第一軸方向相重疊的方式加以支撐；旋轉(zhuǎn)裝置，其使支撐構(gòu)件與第一以及第二保持構(gòu)件一起繞著第二軸一體地旋轉(zhuǎn)，該第二軸大致垂直于第一軸。在該情況下，通過第一以及第二保持機構(gòu)中的至少一方，以垂直于第一軸的狀態(tài)保持基板。在該狀態(tài)下，第一以及第二保持機構(gòu)通過旋轉(zhuǎn)裝置繞著大致垂直于第一軸的第二軸一體地旋轉(zhuǎn)。由此，使由第一保持機構(gòu)或者第二保持機構(gòu)加以保持的基板進行翻轉(zhuǎn)。在此，上述第一第三搬運裝置分別具有兩個搬運保持部，而且，在采用該兩個搬運保持部對于翻轉(zhuǎn)裝置進行基板的搬入搬出時，通過將兩個搬運保持部配置成在與第一軸平行的方向相重疊，由此，能夠通過兩個搬運保持部將兩張基板同時搬入到第一以及第二保持機構(gòu)，并能夠通過兩個搬運保持部將兩張基板同時從第一以及第二保持機構(gòu)搬出。因此，能夠迅速進行對于翻轉(zhuǎn)裝置的基板的搬入搬出的同時，能夠高效率地對多張基板進行翻轉(zhuǎn)。(20) 也可以是，第一以及第二保持機構(gòu)具有共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，該共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件具有垂直于第一軸的一面以及另一面，第一保持機構(gòu)具有多個第一支撐部，其設置在共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的一面，用于支撐基板的外周部；第一翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，其與共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的一面對置而設置；多個第二支撐部，其設置在與共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件對置的第一翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的面，用于支撐基板的外周部；第一驅(qū)動機構(gòu)，其使第一翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共用翻轉(zhuǎn) 保持構(gòu)件中的至少一方移動，使得在以下兩種狀態(tài)之間選擇性地轉(zhuǎn)移，該兩種狀態(tài)是指，第一翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件在第一軸的方向上相互分離開的狀態(tài)、以及第一翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互接近的狀態(tài)，而且第二保持機構(gòu)具有多個第三支撐部，其設置在共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的另一面，用于支撐基板的外周部；第二翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，其與共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的另一面對置而設置；多個第四支撐部，其設置在與共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件對置的第二翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的面上，用于支撐基板的外周部；第二驅(qū)動機構(gòu)，其使第二翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件中的至少一方移動，使得在以下兩種狀態(tài)之間選擇性地轉(zhuǎn)移，該兩種狀態(tài)是指，第二翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和共用翻轉(zhuǎn) 保持構(gòu)件在第一軸的方向上相互分離的狀態(tài)、以及第二翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互接近的狀態(tài)。在該情況下，在第一翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互分離開的狀態(tài)下，基板搬入到多個第一支撐部和多個第二支撐部之間，其中，該多個第一支撐部設置在共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的一面，該多個第二支撐部設置在與共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件對置的第一翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的面。在該狀態(tài)下，通過第一驅(qū)動機構(gòu)使第一翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件中的至少一方移動，使得第一翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互接近。由此，通過多個第一以及第二支撐部保持基板的外周部。在該狀態(tài)下，通過旋轉(zhuǎn)裝置使第一翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件、第二翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件繞著第二軸一體地旋轉(zhuǎn)。由此，使由第一翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件保持的基板進行翻轉(zhuǎn)。另外，在第二翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互分離開的狀態(tài)下，基板搬入到多個第三支撐部和多個第四支撐部之間，其中，該多個第三支撐部設置在共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的另一面，該多個第四支撐部設置在與共用翻轉(zhuǎn) 保持構(gòu)件對置的第二翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的面。在該狀態(tài)下，通過第二驅(qū)動機構(gòu)使第二翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件中的至少一方移動，使得第二翻轉(zhuǎn) 保持構(gòu)件以及共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件相互接近。由此，通過多個第三以及第四支撐部保持基板的外周部。在該狀態(tài)下，通過旋轉(zhuǎn)裝置使第一翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件、第二翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件繞著第二軸一體地旋轉(zhuǎn)。由此，使由第二翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件所保持的基板進行翻轉(zhuǎn)。(21)本發(fā)明提供另一種基板處理裝置，其對具有表面以及背面的基板進行處理，該基板處理裝置具有第一以及第二處理區(qū)域，該第一以及第二處理區(qū)域互相鄰接而配置，用于對基板進行處理；搬入搬出區(qū)域，其對第一處理區(qū)域搬入以及搬出基板；第一交接部，其在搬入搬出區(qū)域和第一處理區(qū) 域之間交接基板，第二交接部，其在第一處理區(qū)域和第二處理區(qū)域之間交接基板，其中，第一處理區(qū)域具有第一處理部；第一搬運裝置，其在第一交接部、第一處理部以及第二交接部之間搬運基板，第二處理區(qū)域具有第二處理部；第二搬運裝置，其在第二交接部以及第二處理部之間搬運基板，搬入搬出區(qū)域具有容器裝載部，其用于裝載收容基板的收容容器；第三搬運裝置，其在裝載于容器裝載部的收容容器和第一交接部之間搬運基板，第一以及第二處理部中的一方具有用于清洗基板背面的背面清洗處理部，第一交接部以及第二交接部中的至少一方具有翻轉(zhuǎn)機構(gòu)，該翻轉(zhuǎn)機構(gòu)在第一搬運裝置以及第三搬運裝置之間，或者在第一搬運裝置以及第二搬運裝置之間進行基板交接的同時，使基板的表面和背面進行翻轉(zhuǎn)。在該基板處理裝置中，進行從搬入搬出區(qū)域到第一處理區(qū)域的基板的搬入搬出，在第一處理區(qū)域以及第二處理區(qū)域進行基板的處理。另外，通過第一交接部在搬入搬出區(qū)域和第一處理區(qū)域之間交接基板，并通過第二交接部在第一處理區(qū)域和第二處理區(qū)域之間交接基板。在第一處理區(qū)域中，通過第一搬運裝置在第一交接部、第一處理部以及第二交接部之間搬運基板。在第二處理區(qū)域中，通過第二搬運裝置在第二交接部、第二處理部之間搬運基板。另外，在搬入搬出區(qū)域中，通過第三搬運裝置在裝載于容器裝載部的收容容器和第一交接部之間搬運基板。在該情況下，在第一處理區(qū)域以及第二處理區(qū)域中，能夠同時進行通過第一搬運裝置的基板搬運和通過第二搬運裝置的基板搬運。由此，能夠高效率地搬運多張基板。從而能夠縮短第一處理區(qū)域以及第二處理區(qū)域中基板的搬運時間。其結(jié)果，能夠提高基板處理裝置中的處理能力。另外，在第一交接部以及第二交接部中的至少一方中，通過翻轉(zhuǎn)機構(gòu)在第一搬運裝置以及第三搬運裝置之間，或者在第一搬運裝置以及第二搬運裝置之間交接基板的同時，使基板的表面和背面進行翻轉(zhuǎn)。翻轉(zhuǎn)后的基板的背面在第一以及第二處理部中的一方通過背面清洗處理部被清洗。在該情況下，在交接基板的同時，使基板進行翻轉(zhuǎn)，由此能夠進一步縮短基板的搬運時間。因此，能夠進一步提高基板處理裝置中的處理能力。(22)也可以是，第一以及第二處理部中的一方或者另一方具有端部清洗處理部，其在保持基板背面的同時清洗基板的外周端部，翻轉(zhuǎn)機構(gòu)對通過端部清洗處理部清洗后的基板的表面和背面進行翻轉(zhuǎn)，背面清洗處理部對通過翻轉(zhuǎn)機構(gòu)翻轉(zhuǎn)的基板的背面進行清洗。在該情況下，在第一以及第二處理部的一方或者另一方，在保持基板的背面的同時，通過端面清洗處理部清洗基板的外周端部。通過端面清洗處理部清洗后的基板，在第一交接部以及第二交接部中的至少一方中，通過翻轉(zhuǎn) 機構(gòu)其表面和背面被翻轉(zhuǎn)。而且，在第一以及第二處理部的一方，通過翻轉(zhuǎn) 機構(gòu)進行翻轉(zhuǎn)的基板的背面通過背面清洗處理部被清洗。就這樣，在通過背面清洗處理部清洗基板的外周端部之后，通過背面清洗處理部清洗基板的背面，由此，即使在端面清洗處理部中因保持基板的背面而基板的背面被污染了，也能夠在背面清洗處理部去除該基板背面的污染。因此，能夠使基板保持干凈的狀態(tài)。(23)也可以是，第一以及第二處理部中的另一方具有用以清洗基板表面的表面清洗處理部。在該情況下，在第一交接部以及第二交接部中的至少一方中，通過翻轉(zhuǎn) 機構(gòu)使基板進行翻轉(zhuǎn)，以使其背面朝向上方，而且在第一以及第二處理部中的一方，翻轉(zhuǎn)后的基板的背面通過背面清洗處理部被清洗。用背面清洗處理部清洗后的基板，通過翻轉(zhuǎn)機構(gòu)再次進行翻轉(zhuǎn)，以使其表面朝向上方。在第一以及第二處理部的另一方，通過表面清洗處理部清洗基板的表面。由此，能夠充分干凈地清洗基板的表面以及背面。

圖1是示出第一實施方式中的基板處理裝置結(jié)構(gòu)的圖。圖2是示出第一實施方式中的基板處理裝置結(jié)構(gòu)的圖。圖3是示出第一實施方式中的基板處理裝置結(jié)構(gòu)的圖。圖4A、圖4B是示出第一主機械手結(jié)構(gòu)的圖。圖5A、圖5B是示出翻轉(zhuǎn)單元結(jié)構(gòu)的圖。圖6是示出翻轉(zhuǎn)單元結(jié)構(gòu)的圖。圖7是示出翻轉(zhuǎn)單元結(jié)構(gòu)的圖。圖8是示出端面清洗單元SSB結(jié)構(gòu)的圖。圖9A、圖9B是示出端面清洗單元SSB的端面清洗裝置結(jié)構(gòu)的圖。圖IO是示出表面清洗單元SS結(jié)構(gòu)的圖。圖ll是示出背面清洗單元SSR結(jié)構(gòu)的圖。圖12是示出第二實施方式中的基板處理裝置結(jié)構(gòu)的圖。圖13A、圖13B是示出第二實施方式中的翻轉(zhuǎn)單元結(jié)構(gòu)的圖。圖14A、圖14B、圖14C、圖14D是示出第二實施方式中的翻轉(zhuǎn)單元動作的圖。圖15E、圖15F、圖15G是示出第二實施方式中的翻轉(zhuǎn)單元動作的圖。圖16是示出第三實施方式中的基板處理裝置結(jié)構(gòu)的圖。圖17是示出第三實施方式中的基板處理裝置結(jié)構(gòu)的圖。圖18是示出第四實施方式中的基板處理裝置結(jié)構(gòu)的圖。圖19是示出第四實施方式中的基板處理裝置結(jié)構(gòu)的圖。圖20是示出第五實施方式中的基板處理裝置結(jié)構(gòu)的圖。圖21A、圖21B、圖21C、圖21D是示出第五實施方式中的翻轉(zhuǎn)單元動作的圖。圖22E、圖22F、圖22G是示出第五實施方式中的翻轉(zhuǎn)單元動作的圖。圖23是示出第六實施方式中的基板處理裝置結(jié)構(gòu)的圖。圖24是示出第六實施方式中的基板處理裝置結(jié)構(gòu)的圖。圖25是示出第七實施方式中的基板處理裝置結(jié)構(gòu)的圖。圖26是示出第七實施方式中的基板處理裝置結(jié)構(gòu)的圖。
具體實施方式
以下，參照

本發(fā)明的實施方式中的基板處理裝置。在以下說明中，所謂基板，是指半導體晶片、液晶顯示裝置用玻璃基板、PDP (等離子體顯示屏)用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、光盤用基板等。另外，在以下說明中，將形成電路圖案等各種圖案的基板的面稱作表面，而將其相反側(cè)的面稱作背面。另外，將朝向下方的基板的面稱作下表面，而將朝向上方的基板的面稱作上表面。(1)第一實施方式(1-1)基板處理裝置的結(jié)構(gòu)圖1 圖3是示出第一實施方式中的基板處理裝置結(jié)構(gòu)的示意圖。圖1 是基板處理裝置的俯視圖，圖2是從箭頭B1方向觀察圖1中的基板處理裝置時的側(cè)視圖。另外，圖3是圖1的A1-A1線剖面圖。如圖1所示，基板處理裝置100由互相并列設置的分度器區(qū)10、第一處理區(qū)11以及第二處理區(qū)12構(gòu)成。在分度器區(qū)10中，設置有多個搬運器裝載臺40、分度器機械手IR以及控制部4。在各搬運器裝載臺40上，裝載有以多層的方式收容多張基板W的搬運器C。分度器機械手IR以可在箭頭U方向移動、可繞著垂直軸旋轉(zhuǎn)且可在上下方向上升降的方式構(gòu)成。在分度器機械手IR上，上下設置有用于交接基板W 的手部IRH1、 IRH2。手部IRH1、 IRH2用以保持基板W的下表面的周邊部以及外周端部?？刂撇?由包括CPU (中央處理器)的計算機構(gòu)成，其控制基板處理裝置100內(nèi)的各結(jié)構(gòu)部。如圖1和圖2所示，在第一處理區(qū)11，設置有多個背面清洗單元SSR(在圖2中是4個)以及第一主機械手MR1。多個背面清洗單元SSR以上下層疊的方式配置于第一處理區(qū)11的一方的側(cè)面?zhèn)?參照圖2)。第一主機械手 MR1設置于處理區(qū)11的大致中央部，其以可繞著垂直軸旋轉(zhuǎn)且可在上下方向上升降的方式構(gòu)成。在第一主機械手MR1上，上下設置有用于交接基板W的手部MRH1、 MRH2。手部MRH1、 MRH2保持基板W的下表面的周邊部以及外周端部。在第二處理區(qū)12中，設置有多個表面清洗單元SS (在圖2中是4個)、多個端面清洗單元SSB (在圖2中是4個)以及第二主機械手MR2。多個表面清洗單元SS以上下層疊的方式配置于第二處理區(qū)12的一方的側(cè)面?zhèn)龋?多個端面清洗單元SSB則以上下層疊的方式配置于第二處理區(qū)12的另一方的側(cè)面?zhèn)?參照圖2)。第二主機械手MR2設置于第二處理區(qū)12的大致中央部，其以可繞著垂直軸可旋轉(zhuǎn)且可在上下方向上升降的方式構(gòu)成。如圖3所示，在分度器區(qū)10和第一處理區(qū)11之間，上下設置有用于對基板W進行翻轉(zhuǎn)的翻轉(zhuǎn)單元RT1、以及用于在分度器機械手IR和第一主機械手MR1之間交接基板W的基板裝載部PASS1。在第一處理區(qū)11和第二處理區(qū)12之間，上下設置有用于對基板W進行翻轉(zhuǎn)的翻轉(zhuǎn)單元RT2、以及在第一主機械手MR1和第二主機械手MR2之間交接基板W的基板裝載部 PASS2。關于翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2的，在后面進行詳細說明。在基板裝載部PASS1、 PASS2設置有用以檢測基板W的存在的光學式傳感器(未圖示)。由此，能夠判斷基板W是否裝載在基板裝載部PASS1、PASS2中。另外，在基板裝載部PASS1、 PASS2，設置有用以支撐基板W的下表面的多個支撐銷51。在分度器機械手IR和第一主機械手MR1之間以及第一主機械手MR1和第二主機械手MR2之間交接基板W時，基板W臨時裝載于基板裝載部PASS1、 PASS2的支撐銷51上。 (1-2)基板處理裝置動作的概要接著，參照附圖1 圖3對基被處理裝置100的動作進行說明。此外，以下說明的基板處理裝置100的各結(jié)構(gòu)要素的動作，由圖1中的控制部4來控制。首先，在分度器區(qū)10中，分度器機械手IR從裝載于搬運器裝載臺40上的一個搬運器C中取出未處理的基板W。分度器機械手IR向箭頭U方向移動的同時，繞著垂直軸旋轉(zhuǎn)，并將該基板W裝載于基板裝載部PASS1上。裝載在基板裝載部PASS1的基板W被第一處理區(qū)11的第一主機械手MR1接收，接著，裝載于基板裝載部PASS2上。裝載在基板裝載部PASS2的基板 W被第二處理區(qū)12的第二主機械手MR2接收，接著，搬入到端面清洗單元 SSB中。在端面清洗單元SSB中，對基板W端面進行清洗處理。以下，將對基板 W端面的清洗處理稱之為端面清洗處理。另外，關于通過端面清洗單元SSB 的端面清洗處理，在后面進行詳細的說明。經(jīng)過端面清洗處理后的基板W被第二主機械MR2從端面清洗單元SSB 搬出，接著，搬入到表面清洗單元SS中。在表面清洗單元SS中，對基板W 的表面進行清洗處理。以下，將對基板W表面的清洗處理稱之為表面清洗處理。另外，關于通過表面清洗單元SS的表面清洗處理，在后面進行詳細的說明。經(jīng)過表面清洗處理之后的基板W被第二主機械手MR2從表面清洗單元 SS搬出，接著搬入到翻轉(zhuǎn)單元RT2中。在翻轉(zhuǎn)單元RT2中，對表面朝向上方的基板W進行翻轉(zhuǎn)以使其背面朝向上方。翻轉(zhuǎn)過的基板W被第一處理區(qū) 11的第一主機械手MR1從翻轉(zhuǎn)單元RT2搬出，接著，搬入到背面清洗單元 SSR中。在背面清洗單元SSR中，對基板W背面進行清洗處理。以下，將對基板 W背面的清洗處理稱之為背面清洗處理。另外，關于通過背面清洗單元SSR的背面清洗處理，在后面進行詳細的說明。經(jīng)過背面清洗處理后的基板W被第一主機械手MR1從背面清洗單元SSR搬出，接著，搬入到翻轉(zhuǎn)單元RT1 中。在翻轉(zhuǎn)單元RT1，對背面朝向上方的基板W進行翻轉(zhuǎn)以使其表面朝向上方。翻轉(zhuǎn)過的基板W被分度器區(qū)10的分度器機械手IR從翻轉(zhuǎn)單元RT1搬出，并收容于搬運器裝載臺40上的搬運器C內(nèi)。 (1-3)主機械手的具體結(jié)構(gòu) (1-3-1)第一主機械手以及第二主機械手的結(jié)構(gòu)接著，說明第一以及第二主機械手MR1、 MR2的詳細結(jié)構(gòu)。在此，針對第一主機械手MR1的詳細結(jié)構(gòu)進行說明。第二主機械手MR2的結(jié)構(gòu)也與以下所示的第一主機械手MR1的結(jié)構(gòu)相同。圖4A是第一主機械手MR1的側(cè) 視圖，圖4B是第一主機械手MR1的俯視圖。如圖4A以及圖4B所示，第一主機械手MR1具備底座部21，并相對于底座部21可升降且可旋轉(zhuǎn)地設置有升降旋轉(zhuǎn)部22。升降旋轉(zhuǎn)部22通過多關節(jié)型臂AMI與手部MRH1相連接，且通過多關節(jié)型臂AM2與手部MRH2 相連接。升降轉(zhuǎn)動部22通過在底座部21內(nèi)設置的升降驅(qū)動機構(gòu)25在上下方向上升降，并通過在底座部21內(nèi)設置的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動結(jié)構(gòu)26繞著垂直軸旋轉(zhuǎn)。多關節(jié)型臂AM1、 AM2分別由未圖示的驅(qū)動機構(gòu)來獨立地驅(qū)動，并使手部MRH1、 MRH2分別保持一定姿勢的同時，在水平方向上進退。手部MRH1、 MRH2分別相對于升降旋轉(zhuǎn)部22以一定的高度設置，手部 MRH1在比MRH2更高的上方設置。手部MRH1和手部MRH2的高度差M1 (圖4A)保持恒定。手部MRH1、 MRH2具有相同的形狀，分別形成為大致的U字形。手部 MRH1具有大致平行地延伸的兩個爪部Hl 1 ，手部MRH2具有大致平行地延伸的兩個爪部H12。另外，在手部MRH1、 MRH2上分別安裝有多個支撐銷23。在本實施方式中，沿著裝載于手部MRH1、 MRH2上面的基板W的外周，大致均勻地分別安裝了四個支撐銷23。由該四個支撐銷23保持基板W的下表面的周邊部以及外周端部。(1-3-2)第一主機械手的動作例接著，參照圖1說明第一主機械手MR1的具體動作例。第一主機械手MR1，首先通過手部MRH2從基板裝載部PASS1接收未處理基板W。接著，第一主機械手MR1通過手部MRH1從翻轉(zhuǎn)單元RT2搬出背面朝向上方的基板W。該基板W是經(jīng)過端面清洗處理以及表面清洗處理的基板W。接著，將保持在手部MRH2的未處理基板W裝載于基板裝載部 PASS2。接著，第一主機械手MR1通過手部MRH2從任意的背面清洗單元SSR 搬出經(jīng)過背面清洗處理后的基板W，并將由手部MRH1保持的基板W搬入到該背面清洗單元SSR中。接著，第一主機械手MR1將由手部MRH2保持的經(jīng)過背面清洗處理后的基板W搬入到翻轉(zhuǎn)單元RT1 。第一主機械手MR1連續(xù)進行這樣的一連串的動作。此外，在上述動作例中，手部MRH1的動作和手部MRH2的動作相反也可。第一主機械手MR1針對一張基板W的搬運工序數(shù)量為如下三個工序從基板裝載部PASS1到基板裝載部PASS2的搬運；從翻轉(zhuǎn)單元RT2到背面清洗單元SSR的搬運；以及從背面清洗單元SSR到翻轉(zhuǎn)單元RT1的搬運。 (1-3-3)第二主機械手的動作接著，參照圖1說明第二主機械手MR2的具體動作例。第二主機械手MR2，首先通過手部MRH4從基板裝載部PASS2接收未處理基板W。接著，第二主機械手MR2通過手部MRH3從任意的端面清洗單元SSB搬出經(jīng)過端面清洗處理后的基板W，并將保持在手部MRH4的基板 W搬入到該端面清洗單元SSB中。接著，第二主機械手MR2通過手部MRH4 從任意的表面清洗單元SS搬出經(jīng)過表面清洗處理后的基板W，并將保持在手部MRH3的基板W搬入到該表面清洗單元SS中。接著，第二主機械手MR2 將保持在手部MRH4的基板W搬入到翻轉(zhuǎn)單元RT2中。第二主機械手MR2連續(xù)進行這樣的一連串的動作。此外，在上述動作例中，手部MRH3的動作和手部MRH4的動作相反也可。第二主機械手MR2針對一張基板W的搬運工序數(shù)量為如下三個工序從基板裝載部PASS2到端面清洗單元SSB的搬運；從端面清洗單元SSB到表面清洗單元SS的搬運；以及從表面清洗單元SS到翻轉(zhuǎn)單元RT2的搬運。這樣的第二主機械手MR2的動作與如上所述的第一主機械手MR1的動作同時進行。
(1-4)翻轉(zhuǎn)單元的結(jié)構(gòu)以及動作
接著，對翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2的結(jié)構(gòu)進行說明。此外，翻轉(zhuǎn)單元RT1和 RT2具有相同的結(jié)構(gòu)。
圖5A、圖5B是圖1的翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2的結(jié)構(gòu)示意圖。圖5A是翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2的側(cè)視圖，圖5B是翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2的俯視圖。另夕卜，圖6是示出翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2的主要部分外觀的立體圖，圖7是示出翻轉(zhuǎn) 單元RT1、 RT2的一部分外觀的立體圖。
如圖5A、圖5B所示，翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2包括第一支撐構(gòu)件41、第二支撐構(gòu)件42、多張基板支撐銷43a和43b、第一活動構(gòu)件44、第二活動構(gòu)件 45、固定板46、聯(lián)桿機構(gòu)47以及旋轉(zhuǎn)機構(gòu)48。
如圖6所示，第一支撐構(gòu)件41由以放射狀延伸的六根棒狀構(gòu)件構(gòu)成。在六根棒狀構(gòu)件的各前端部上分別設置有基板支撐銷43a。同樣，如圖7所示，第二支撐構(gòu)件42也由以放射狀延伸的六根棒狀構(gòu)件構(gòu)成。在該六根棒狀構(gòu)件的各前端部上分別設置有基板支撐銷43b。
另外，在本實施方式中，第一以及第二支撐構(gòu)件41、 42由六根棒狀構(gòu)件構(gòu)成，但并不僅限定于此，第一以及第二支撐構(gòu)件41、 42由其他任意數(shù)量的棒狀構(gòu)件或者其他任意形狀的構(gòu)件構(gòu)成也可，例如具有沿著多個基板支撐銷 43a、 43b的外周的圓盤或者多角形等形狀。
圖6中的第一活動構(gòu)件44以"〕"形狀構(gòu)成，其一端部以及另一端部在垂直方向延伸，其中間部向箭頭U方向延伸。第一支撐構(gòu)件41固定在第一活動構(gòu)件44的一端上。第一活動構(gòu)件44的另一端與聯(lián)桿機構(gòu)47相連接。同樣，圖7中的第二活動構(gòu)件45以"〕"形狀構(gòu)成，第二支撐構(gòu)件42固定在第二活動構(gòu)件45的一端上。第二活動構(gòu)件45的另一端與聯(lián)桿機構(gòu)47相連接。聯(lián) 桿機構(gòu)47安裝在旋轉(zhuǎn)機構(gòu)48的旋轉(zhuǎn)軸上。該聯(lián)桿機構(gòu)47以及旋轉(zhuǎn)機構(gòu)48 安裝在固定板46上。
在圖6中的聯(lián)桿機構(gòu)47中內(nèi)置有氣缸等，從而能夠選擇性地移動第一活動構(gòu)件44和第二活動構(gòu)件45以使其處于相對分開的狀態(tài)或靠近的狀態(tài)。另外，在旋轉(zhuǎn)機構(gòu)48中內(nèi)置有馬達等，從而能夠通過聯(lián)桿機構(gòu)47使第一活動構(gòu)件44以及第二活動構(gòu)件45繞著水平方向的軸旋轉(zhuǎn)，例如旋轉(zhuǎn)180度。
在此，參照附圖對翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2的動作進行說明。首先，通過第一或者第二主機械手MR1 、 MR2 (圖1)將基板W搬入到翻轉(zhuǎn)單元RT1 、 RT2 中。在第一活動構(gòu)件44和第二活動構(gòu)件45在垂直方向上互相分開的狀態(tài)下，通過第一或者第二主機械手MR1、 MR2將基板W移動并裝載在第二支撐構(gòu) 件42的多個基板支撐銷43b上。
接著，如圖5A所示，通過聯(lián)桿機構(gòu)47的動作，使第一活動構(gòu)件44和第二活動構(gòu)件45移動至在垂直方向上互相靠近的狀態(tài)。由此，基板W的雙面分別被多個基板支撐銷43a、 43b支撐。
接著，第一活動構(gòu)件44和第二活動構(gòu)件45通過旋轉(zhuǎn)機構(gòu)48的動作繞著與箭頭U的方向平行的軸旋轉(zhuǎn)180度。由此，基板W與第一活動構(gòu)件44和第二活動構(gòu)件45 —起，保持在設置于第一支撐構(gòu)件41和第二支撐構(gòu)件42上的多個基板支撐銷43a、 43b的同時，旋轉(zhuǎn)180度。由此，基板W進行翻轉(zhuǎn)。
接著，通過聯(lián)桿機構(gòu)47的動作，使第一活動構(gòu)件44和第二活動構(gòu)件45 移動至在垂直方向上互相分開的狀態(tài)。在該狀態(tài)下，通過分度器機械手IR或者第一主機械手MR1將基板W從翻轉(zhuǎn)單元RT1 、 RT2搬出。 (1-5)端面清洗單元的具體結(jié)構(gòu)
圖8是用以說明端面清洗單元SSB的結(jié)構(gòu)的圖。如圖8所示，端面清洗單元SSB具有旋轉(zhuǎn)卡盤201，該旋轉(zhuǎn)卡盤201用以水平保持基板W，并使基板W繞著通過基板W中心的垂直的旋轉(zhuǎn)軸進行旋轉(zhuǎn)。
旋轉(zhuǎn)卡盤201固定于通過卡盤旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)204旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)軸203的上端。另外，在旋轉(zhuǎn)卡盤201上形成有吸氣路徑(未圖示)，通過在將基板W 裝載在旋轉(zhuǎn)卡盤201上的狀態(tài)下排出吸氣路徑內(nèi)的氣體，由此將基板W的背面真空吸附在旋轉(zhuǎn)卡盤201上，因此能夠以水平姿勢保持基板W。
在旋轉(zhuǎn)卡盤201的側(cè)方且端面清洗單元SSB內(nèi)的上部，設置有端面清洗裝置移動機構(gòu)230。在端面清洗裝置移動機構(gòu)230中安裝有向下方延伸的棒狀支撐構(gòu)件220。支撐構(gòu)件220通過端面清洗裝置移動機構(gòu)230在水平方向(參照圖8中箭頭M)移動。
在支撐構(gòu)件220的下端部上，以在水平方向延伸的方式安裝有具有大致的圓筒形狀的端面清洗裝置210。因此，端面清洗裝置210通過端面清洗裝置移動機構(gòu)230與支撐構(gòu)件220 —起移動。
端面清洗裝置210位于與吸附保持在旋轉(zhuǎn)卡盤201上的基板W大致相同的高度上。由此，端面清洗裝置210的一端與基板W的端面R對置。在以下說明中，將與基板W的端面R對置的端面清洗裝置210的一端作為正面。
在開始基板W的端面清洗處理時，端面清洗裝置210通過端面清洗裝置移動機構(gòu)230移動到基板W的端面位置。另外，在結(jié)束基板W的端面清洗處理時，端面清洗裝置210通過端面清洗裝置移動機構(gòu)230移動到離開基板 W的端面R的位置。
端面清洗裝置210與清洗液供給管241以及排氣管244相連接。通過清洗液供給管241向端面清洗裝置210的內(nèi)部空間(后述的清洗室211)供給清洗液。另外，排氣管244與排氣部245相連接。排氣部245吸取端面清洗裝置210內(nèi)部空間的空氣并經(jīng)由排氣管244進行排除。
以下，詳細說明端面清洗裝置210。圖9A、圖9B是用以說明圖8中的端面清洗單元SSB的端面清洗裝置210結(jié)構(gòu)的圖。在圖9A中示出了端面清洗裝置210的縱向剖面圖，在圖9B中示出了端面清洗裝置210的主視圖。
如圖9A所示，在端面清洗裝置210的大致圓筒形狀的外殼210a的內(nèi)部形成有清洗室211。另外，如圖9A以及圖9B所示，在外殼210a的正面?zhèn)刃?成有連通清洗室211和外部的開口 212。開口 212以上下寬度從中央部向兩側(cè) 逐漸擴大的方式具有圓弧狀的上面和下面。在基板W的端面清洗處理時，將吸附保持在旋轉(zhuǎn)卡盤201上的基板W的端面R插入于開口 212中。
在清洗室211內(nèi)，以在垂直方向延伸的方式配置有具有大致的圓筒形狀的刷子213。在刷子213的外周面上，在整個圓周方向形成有V字形的溝槽部213a。刷子213安裝在向垂直方向延伸的旋轉(zhuǎn)軸214上。旋轉(zhuǎn)軸214的上端和下端可旋轉(zhuǎn)地安裝在形成于清洗室211的上部和下部的旋轉(zhuǎn)軸承。由此，刷子213通過清洗室211和旋轉(zhuǎn)軸214可旋轉(zhuǎn)地被支撐。
在進行基板W的端面清晰處理時，形成在刷子213的溝槽部213a與旋轉(zhuǎn)的基板W的端面R相接觸。由此，刷子213清洗基板W的端面R。
端面清洗裝置210的上部與上述清洗液供給管241以及排氣管244相連接。清洗液供給管241與形成在外殼210a內(nèi)的清洗液供給路徑241a、 241b 相連接。如圖9A所示，清洗液供給路徑241a從外殼210a的外部延伸到清洗室211的上部內(nèi)面。另外，清洗液供給路徑241b從外殼210a的外部延伸到清洗室211的下部內(nèi)面。在圖9A中僅示出了清洗液供給路徑241b的一部分。
由此，在基板W的端面清洗處理時，供給到端面清洗裝置210的清洗液從上下方向噴向基板W的端面R，該基板W的端面R則在清洗室211內(nèi)與刷子213相接觸。由此，基板W的端面R高效率地被清洗。
排氣管244通過設置在外殼210a上部的孔部插入到清洗室211內(nèi)。由此，清洗室211內(nèi)的空氣被圖8中的排氣部245吸弓l，并通過排氣管244排出。如此，在清洗室211中，其內(nèi)部空氣通過排氣部245被排出，因此高效率地排出揮發(fā)的清洗液以及清洗液的霧。
(1-6)表面清洗單元以及背面清洗單元的詳細說明
接著，對圖1中的表面清洗單元SS以及背面清洗單元SSR的各結(jié)構(gòu)進行說明。
圖10是示出表面清洗單元SS結(jié)構(gòu)的示意圖，圖11是示出背面清洗單元 SSR結(jié)構(gòu)的示意圖。在如圖IO所示的表面清洗單元SS以及背面清洗單元SSR 中，分別進行采用了刷子的基板W的清洗處理(以下，稱之為擦洗處理)。
如圖10所示，表面清洗單元SS具備旋轉(zhuǎn)卡盤61，該旋轉(zhuǎn)卡盤61用以使基板W保持水平的同時，使基板W繞著通過基板W中心的垂直軸旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)卡盤61固定在通過卡盤旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)62旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)軸63的上端。另外，與上述端面清洗單元SSB的旋轉(zhuǎn)卡盤201同樣，旋轉(zhuǎn)卡盤61通過真空吸附基板W的下表面來保持基板W。另外，表面清洗單元SS也可以采用保持基板 W的外周端部的機械式旋轉(zhuǎn)卡盤(參照后述的圖11)來代替吸附式旋轉(zhuǎn)卡盤 61。
如上所述，表面朝向上方的狀態(tài)的基板w被搬入到表面清洗單元ss中。
如果進行擦洗處理以及漂洗處理，則由旋轉(zhuǎn)卡盤61來吸附保持基板W的背面。
在旋轉(zhuǎn)卡盤61的外側(cè)設置有馬達64。馬達64與旋轉(zhuǎn)軸65相連接。在旋轉(zhuǎn)軸65上，以在水平方向延伸的方式連接有臂66，而在臂66的前端設置有大致圓筒形狀的刷子清洗具70。
另外，在旋轉(zhuǎn)卡盤61的上方設置有液體吐出噴嘴71,該液體吐出噴嘴71 用以向由旋轉(zhuǎn)卡盤61保持的基板W的表面供給清洗液或者漂洗液(純水)。在液體吐出噴嘴71上連接有供給管72，通過該供給管72向液體吐出噴嘴71 選擇性地供給清洗液以及漂洗液。
在擦洗處理時，馬達64使旋轉(zhuǎn)軸65旋轉(zhuǎn)。由此，臂66在水平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)，而且刷子清洗具70以旋轉(zhuǎn)軸65為中心在基板W的外方位置和基板W中心的上方位置之間移動。在馬達64設置有未圖示的升降機構(gòu)。升降機構(gòu)通過使旋轉(zhuǎn)軸65上升以及下降，在基板W的外側(cè)位置以及基板W中心的上方位置使刷子清洗具70下降以及上升。
在開始擦洗處理時，表面朝向上方狀態(tài)的基板W通過旋轉(zhuǎn)卡盤61進行旋轉(zhuǎn)。另外，通過供給管72向液體吐出噴嘴71供給清洗液或者漂洗液。由此，向旋轉(zhuǎn)的基板W表面供給清洗液或者漂洗液。在該狀態(tài)下，刷子清洗具70通過旋轉(zhuǎn)軸65以及臂66進行搖晃以及升降動作。由此，對基板W的表面進行擦洗處理。另外，由于在表面清洗單元SS中，采用了吸附式旋轉(zhuǎn)卡盤61，因此能夠?qū)錡的周邊部以及外周端部同時進行清洗。
接著，利用圖11，說明背面清洗單元SSR與圖IO的表面清洗單元SS不同點進。如圖11所示，背面清洗單元SSR具備保持基板W的外周端部的機械式旋轉(zhuǎn)卡盤81來代替通過真空吸附基板W下表面來保持基板的吸附式旋轉(zhuǎn)卡盤61。在進行擦洗處理以及漂洗處理時，在通過旋轉(zhuǎn)卡盤61上的旋轉(zhuǎn)式支撐銷82保持基板的下表面的周邊部以及外周端部的狀態(tài)下，使基板W保持水平姿勢的同時進行旋轉(zhuǎn)。
背面朝向上方狀態(tài)的基板W被搬入到背面清洗單元SSR中。由此，基板 W以背面朝向上方的狀態(tài)保持在旋轉(zhuǎn)卡盤81中。然后，對于基板W的背面進行如上述同樣的擦洗處理。
但是，在上述端面清洗單元SSB以及表面清洗單元SS中，由吸附式旋轉(zhuǎn)卡盤201、 61來吸附基板W的背面。此時，在基板W的背面有時候形成吸附痕。在背面清洗單元SSR中，通過清洗基板W的背面，能夠消除在端面清洗處理以及表面清洗處理中形成的吸附痕。 (1-7)第一實施方式的效果
在本實施方式中，在第一處理區(qū)11上設置有第一主機械手MR1 ，在第二處理區(qū)12上設置有第二主機械手MR2。此時，能夠同時進行在第一處理區(qū) 11中的基板W的搬運和在第二處理區(qū)12中的基板W的搬運。由此，能夠縮短基板W的搬運時間，所以能夠提高基板處理裝置100的處理能力。
另外，在本實施方式的基板處理裝置ioo中，在對基板w進行端面清洗
處理以及表面清洗處理之后，通過背面清洗單元SSR對基板W進行背面清洗處理。此時，即使在端面清洗單元SSB或者表面清洗單元SS中，由于吸附式旋轉(zhuǎn)卡盤201、 61在基板W的背面形成了吸附痕，也可以通過此后的背面清洗處理消除基板W背面的吸附痕。由此，能夠充分干凈地清洗基板W。
另外，在本實施方式中，翻轉(zhuǎn)單元RT1設置于分度器機械手IR和第一主機械手MR1之間的位置，同時，翻轉(zhuǎn)單元RT2設置于第一主機械手MR1和第二主機械手MR2之間的位置。此時，能夠使基板W翻轉(zhuǎn)的同時，從第二主機械手MR2將基板傳遞給第一主機械手MR1 。同樣，能夠使基板W翻轉(zhuǎn) 的同時，從第一主機械手MR1將基板傳遞給分度器機械手IR。由此，能夠減少第一以及第二主機械手MR1、 MR2的搬運工序，能夠進一步提高基板處理裝置100的處理能力。
.另外，在本實施方式中，由第一主機械手MR1所進行的基板W的搬運工序數(shù)量與由第二主機械手MR2所進行的基板W的搬運工序數(shù)量相同。此時，幾乎不發(fā)生這種情況將第一以及第二主機械手MR1、 MR2中的一個主機械手，為了配合另一個主機械手的動作而使其處于待機狀態(tài)的情況。由此，能夠高效率地搬運基板W，能夠進一步提高基板處理裝置100的處理能力。
另外，在本實施方式的基板處理裝置100中，在第一處理區(qū)11的一方側(cè) 面?zhèn)纫远鄬拥姆绞脚渲糜卸鄠€背面清洗單元SSR。在第二處理區(qū)12的一方側(cè) 面?zhèn)纫约傲硪环絺?cè)面?zhèn)确謩e以多層的方式配置有多個表面清洗單元SS以及端面清洗單元SSB。由此，與多個清洗單元平面配置的情況相比，能夠大幅度地實現(xiàn)基板處理裝置100的小型化以及節(jié)省空間化。
另外，在本實施方式中，背面清洗處理之前的基板W和經(jīng)過背面清洗處理后的基板W通過互相不同的翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2被翻轉(zhuǎn)。此時，即使背面清洗處理之前的基板W的背面被污染了，污染物也不會轉(zhuǎn)移到經(jīng)過背面清洗處理后的基板W上。由此，能夠使經(jīng)過背面清洗處理后的基板W的背面保持干凈的狀態(tài)。
另外，在本實施方式中，通過將多個表面清洗單元SS以及多個背面清洗單元SSR以多層的方式層疊裝載于高度方向而設置，由此能夠?qū)崿F(xiàn)基板處理裝置100的結(jié)構(gòu)(所謂平臺的結(jié)構(gòu))的小型化，并通過將表面清洗單元ss、
背面清洗單元SSR以及端面清洗單元SSB配設于上述高度方向上，能夠容易地設置所需數(shù)量的表面清洗單元SS、所需數(shù)量的背面清洗單元SSR以及所需數(shù)量的端面清洗單元SSB。
(2)第二實施方式接著，針對本發(fā)明的第二實施方式中的基板處理裝置，說明與上述第一實施方式不同點。
圖12是第二實施方式中的基板處理裝置結(jié)構(gòu)的示意圖。如圖12所示，第二實施方式中的基板處理裝置100a具備如下所示的翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a，以代替翻轉(zhuǎn)單元RT1、RT2。另外，分別設置兩個基板裝載部PASS1、PASS2 。 (2-1)翻轉(zhuǎn)單元
圖13A是翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a的側(cè)視圖，圖13B是翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a的立體圖。另外，翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a具有相同的結(jié)構(gòu)。
如圖13A所示，翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a包括支撐板31、固定板32、一對線性導軌33a和33b、一對支撐構(gòu)件35a和35b、一對汽缸37a和37b、第一活動板36a、第二活動板36b以及旋轉(zhuǎn)驅(qū)動器38。
支撐板31以在上下方向延伸的方式被設置，并以從支撐部31的一面的中央部向水平方向延伸的方式安裝有固定板32。在固定板32的一面?zhèn)鹊闹?板31的區(qū)域，設置有在垂直于固定板32的方向上延伸的線性導軌33a。另外，在固定板32的另一面?zhèn)鹊闹伟?1的區(qū)域，設置有在垂直于固定板32的方向上延伸的線性導軌33b。線性導軌33a、 33b以對固定板32相互對稱的方式被設置。
在固定板32的一面?zhèn)?，以在平行于固定?2的方向上延伸的方式設置有支撐構(gòu)件35a。支撐構(gòu)件35a經(jīng)由連結(jié)構(gòu)件34a可滑動地安裝在線性導軌 33a。在支撐構(gòu)件35a連接有汽缸37a，通過該汽缸37a使支撐構(gòu)件35a沿著線性導軌33a進行升降。此時，支撐構(gòu)件35a在維持一定的姿勢的同時在垂直于固定板32的方向上移動。另外，在支撐構(gòu)件35a上以與固定板32的一面對置的方式安裝有第一活動板36a。
在固定板32的另一面?zhèn)龋栽谄叫杏诠潭ò?2的方向上延伸的方式設置有支撐構(gòu)件35b。支撐構(gòu)件35b經(jīng)由連結(jié)構(gòu)件34b可滑動地安裝在線性導軌 33b上。在支撐構(gòu)件35b上連接有汽缸37b，通過該汽缸37b使支撐構(gòu)件35b 沿著線性導軌33b進行升降。此時，支撐構(gòu)件35b在維持一定的姿勢的同時在垂直于固定板32的方向上移動。另外，在支撐構(gòu)件35b上以與固定板32 的另一面對置的方式安裝有第二活動板36b。
在本實施方式中，第一活動板36a以及第二活動板36b離固定板32最遠的狀態(tài)下，將第一活動板36a和固定板32之間的距離M2以及第二活動板36b 和固定板32之間的距離M3設定為與圖4A、圖4B所示的第一主機械手MR1 的手部MRH1和手部MRH2之間的高度差(第二主機械手MR2的手部MRH3 和手部MRH4之間的高度差)Ml大致相等。
旋轉(zhuǎn)驅(qū)動器38使支撐板31繞著平行于箭頭U (圖1)方向的水平軸HA 轉(zhuǎn)動，由此，連接于支撐板31的第一活動板36a、第二活動板36b以及固定板32繞著水平軸HA (向e方向)轉(zhuǎn)動。
如圖13B所示，第一活動板36a、固定板32以及第二活動板36b分別形成為平板狀。
另外，如圖13A所示，在與第一活動板36a對置的固定板32的一面設置有多個支撐銷39a，在其另一面設置有多個支撐銷39b。另外，在與固定板32 對置的第一活動板36a的一面設置有多個支撐銷39c，在與固定板32對置的第二活動板36b的一面設置有多個支撐銷39d。
在本實施方式中，支撐銷39a、 39b、 39c、 39d分別設置有六個。這些支撐銷39a、 39b、 39c、 39d，沿著搬入到翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2的基板W的外周而配置。另外，支撐銷39a、 39b、 39c、 39d具有相同的長度。由此，在第一活動板36a以及第二活動板36b離固定板32最遠的狀態(tài)下，支撐銷39a的前端和支撐銷39d的前端之間的距離以及支撐銷39b的前端和支撐銷39c的前端之間的距離，大致等于圖4A、圖4B所示的第一主機械手MR1的手部MRH1 和手部MRH2之間的高度差(第二主機械手MR2的手部MRH3和手部MRH4 之間的高度差)Ml。
此外，也可以適當改變第一活動板36a和固定板32之間的距離M2以及第二活動板36b和固定板32之間的距離M3。但是，在第一活動板36a以及第二活動板36b離固定板32最遠的狀態(tài)下，將支撐銷39c的前端和支撐銷39d的前端之間的距離，設定為大于手部MRH1和手部MRH2之間的高度差(手部MRH3和手部MRH4之間的高度差)Ml。 (2-2)基板處理裝置動作的概要
接著，參照圖1以及圖12說明基板處理裝置100a動作的概要。
首先，在分度器區(qū)10中，分度器機械手IR用手部IRH1、 IRH2，從裝載在搬運器裝載臺40上的搬運器C中的一個搬運器取出兩張未處理的基板W。接著，分度器機械手IR將保持在手部IRH1、 IRH2的兩張基板W依次傳遞給兩個基板裝載部PASS1。
接著，第一處理區(qū)11的第一主機械手MR1用手部MRH1、 MRH2從兩個基板裝載部PASS1依次接收兩張基板W，并將該兩張基板W依次裝載于兩個基板裝載部PASS2。接著，第二處理區(qū)12的第二主機械手MR2用手部 MRH3、 MRH4從兩個基板裝載部PASS2依次接收兩張基板W，并將該兩張基板W依次搬入到兩個端面清洗單元SSB中。
接著，第二主機械手MR2用手部MRH3、 MRH4從兩個端面清洗單元 SSB依次搬出經(jīng)過端面清洗處理后的兩張基板W，并將該兩張基板W依次搬入到兩個表面清洗單元SS中。接著，第二主機械手MR2用手部MRH3、MRH4 從兩個表面清洗單元SS依次搬出經(jīng)過表面清洗處理后的兩張基板W，并將該兩張基板W同時搬入到翻轉(zhuǎn)單元RT2a中。
在翻轉(zhuǎn)單元RT2a中，對表面朝向上方的兩張基板W進行翻轉(zhuǎn)以使其背面朝向上方。關于翻轉(zhuǎn)單元RT2a的動作，在后面進行說明。
接著，第一處理區(qū)11的第一主機械手MR1用手部MRH1、 MRH2從翻轉(zhuǎn)單元RT2a同時搬出背面朝向上方的兩張基板W，并將該兩張基板W依次搬入到背面清洗單元SSR中。接著第一主機械手MR1從兩個背面清洗單元 SSR依次搬出經(jīng)過背面清洗處理后的兩張基板W，并將該兩張基板W同時搬入到翻轉(zhuǎn)單元RTla中。
在翻轉(zhuǎn)單元RTla中，對背面朝向上方的兩張基板W進行翻轉(zhuǎn)以使其表面朝向上方。關于翻轉(zhuǎn)單元RTla的動作，則在后面進行說明。接著，分度器區(qū)10的分度器機械手IR用手部IRHl、IRH2從翻轉(zhuǎn)單元RTla依次搬出翻轉(zhuǎn) 過的兩張基板W，并將該兩張基板W收容于搬運器裝載臺40上的搬運器C 內(nèi)。由此，完成第二實施方式中的基板處理裝置100a的一連串的動作。另外，通過將分度器機械手IR的手部IRH1和手部IRH2的高度差設定為大致等于手部MRH1和手部MRH2之間的高度差(手部MRH3和手部 MRH4之間的高度差)Ml ，使分度器機械手IR能夠?qū)蓮埢錡同時從翻轉(zhuǎn)單元RTla搬出。
另外，通過將兩個基板裝載部PASS1的間隔以及兩個基板裝載部PASS2 的間隔設定為大致等于如圖4A、圖4B所示的手部MRH1和手部MRH2之間的高度差(手部MRH3和手部MRH4之間的高度差)Ml，使第一主機械手 MR1能夠從兩個基板裝載部PASS1同時接收兩張基板W。另外，使第一主機械手MR1能夠?qū)蓮埢錡同時裝載于兩個基板裝載部PASS2上。進而，使第二主機械手MR2能夠從兩個基板裝載部PASS2同時接收兩張基板W。另夕卜，若將分度器機械手IR的手部IRH1和手部IRH2的高度差設定為大致等于手部MRH1和手部MRH2之間的高度差(手部MRH3和手部MRH4之間的高度差)Ml，則分度器機械手IR能夠?qū)蓮埢錡同時裝載于兩個基板裝載部PASS1上。
(2-3)翻轉(zhuǎn)單元的動作
接著，對翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a的結(jié)構(gòu)進行說明。圖14A、圖14B、圖 14C、圖14D、圖15E、圖15F、圖15G是用于說明翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a的動作的圖。另外，由于翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2b的各工序動作相同，所以，在圖14A、圖14B、圖14C、圖14D以及圖15E、圖15F、圖15G中，以翻轉(zhuǎn) 單元RT2a的動作為例進行說明。
如圖14A所示，在第一活動板36a和固定板32之間以及第二活動板36b 和固定板32之間，保持基板W的第二主機械手MR2的手部MRH3、 MRH4 同時前進。另外，第二主機械手MR2的手部MRH3、 MRH4的進退方向于上述箭頭U (圖13A、圖13B)的方向垂直相交。另外，翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a 的各支撐銷39a、39b、39c、39d設置于在搬入搬出基板W時分別與手部IRH1、 IRH2、手部MRH1MRH2以及手部MRH3、 MRH4不接觸的位置。
然后，如圖14B所示，手部MRH3、 MRH4在同時下降的同時后退。由此，基板W裝載到支撐銷39a、 39d上。此時，在翻轉(zhuǎn)單元RT2a中，上表面朝向上方的基板W被裝載到支撐銷39a、 39d上。
接著，如圖14C所示，汽缸37a (圖13A)使支撐構(gòu)件35a下降，同時，汽缸37b (圖13A)使支撐構(gòu)件35b上升。由此，一方的基板W被第一活動板36a的支撐銷39c和固定板32的支撐銷39a加以保持，而另一方的基板W 被第二活動板36b的支撐銷39d和固定板32的支撐銷3%加以保持。在該狀態(tài)下，如圖14D所示，第一活動板36a、固定板32以及第二活動板36b受到旋轉(zhuǎn)驅(qū)動器38的驅(qū)動而一體地在e方向(繞著水平軸HA)旋轉(zhuǎn) 180度。由此，由支撐銷39a、 39c所保持的基板W以及支撐銷39b、 39d所保持的基板W被翻轉(zhuǎn)。在該情況下，在翻轉(zhuǎn)單元RT2a中，基板W的背面朝向上方。接著，如圖15E所示，汽缸37a使支撐構(gòu)件35a下降，同時，汽缸37b 使支撐構(gòu)件35b上升。由此，第一活動板36a下降的同時，第二活動板36b 上升。因此，一方的基板W處于被第一活動板36a的支撐銷39c支撐的狀態(tài)，而另一方的基板W則處于被固定板32的支撐銷3%支撐的狀態(tài)。在該狀態(tài)下，如圖15F所示，第一主機械手MR1 (圖10)的手部MRH1、 MRH2向由支撐銷3%所支撐的基板W的下方以及由支撐銷39c所支撐的基板W的下方前進的同時上升。由此，通過手部MRH1接收由支撐銷39b所支撐的基板W，并通過手部MRH2接收由支撐銷39c所支撐的基板W。另外，第一主機械手MR1的手部MRH1、 MRH2的進退方向與上述箭頭U (圖1) 方向垂直相交。然后，如圖15G所示，通過手部MRH1、 MRH2同時后退，從翻轉(zhuǎn)單元 RT2a搬出兩張基板W。(2-4)第二實施方式的效果在本實施方式中，第一以及第二主機械手MR1、 MR2對翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a同時進行兩張基板W的搬出搬入翻轉(zhuǎn)。進而，翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a 對兩張基板W同時進行翻轉(zhuǎn)。由此，能夠高效率地進行多張基板翻轉(zhuǎn)。其結(jié) 果，能夠提高基板處理裝置100a中的處理能力。另外，通過分度器機械手IR、第一主機械手MR1以及第二主機械手MR2 同時搬運兩張基板，能夠進一步提高基板處理裝置100a的處理能力。另外，與第一實施方式同樣地，在對基板W進行端面清洗處理以及表面清洗處理之后，對基板W進行背面清洗處理。因此，即使因吸附式旋轉(zhuǎn)卡盤 201、 61在基板W的背面形成吸附痕，也可以通過背面清洗處理消除該吸附痕。因此，能夠充分干凈地清洗基板W。(3)第三實施方式接著，對本發(fā)明的第三實施方式中的基板處理裝置，說明不同于上述第一實施方式的不同點。(3-1)基板處理裝置的結(jié)構(gòu)圖16以及17是示出第三實施方式中的基板處理裝置結(jié)構(gòu)的示意圖。圖 16是基板處理裝置的俯視圖，圖17是圖16的A2-A2線剖面圖。如圖16所示，在第三實施方式的基板處理裝置100b中，在第一處理區(qū) 11的一方側(cè)面?zhèn)仍O置有多個(例如為4個)表面清洗單元SS。另外，在第二處理區(qū)12的一方側(cè)面?zhèn)仍O置有多個(例如為4個)背面清洗單元SSR，在第二處理區(qū)12的另一方側(cè)面?zhèn)仍O置有多個(例如為4個)端面清洗單元SSB。另外，如圖17所示，在分度器區(qū)10和第一處理區(qū)11之間上下設置有基板裝載部PASS1、 PASS2，而在第一處理區(qū)11和第二處理區(qū)12之間上下設置有翻轉(zhuǎn)單元RT1 、 RT2以及基板裝載部PASS3 。另外，在基板處理裝置100b的表面清洗單元SS中，采用保持基板W的外周端部的機械式旋轉(zhuǎn)卡盤(參照圖ll)。 (3-2)基板處理裝置動作的概要接著，參照圖16以及圖17說明基板處理裝置100b動作的概要。首先，在分度器區(qū)10中，分度器機械手IR從裝載于搬運器裝載臺40上的一個搬運器C取出未處理的基板W。分度器機械手IR向箭頭U方向移動的同時，繞著垂直軸旋轉(zhuǎn)，從而將該基板W裝載于基板裝載部PASS1。裝載在基板裝載部PASS1的基板W被第一處理區(qū)11的第一主機械手 MR1接收，接著，被裝載于基板裝載部PASS3上。裝載在基板裝載部PASS3 上的基板W被第二處理區(qū)12的第二主機械手MR2接收，接著，被搬入到端面清洗單元SSB中。然后，經(jīng)過端面清洗處理后的基板W被第二主機械手 MR2從端面清洗單元SSB搬出，接著被搬入到翻轉(zhuǎn)單元RT1中。翻轉(zhuǎn)單元RT1中，對表面朝向上方的基板W進行翻轉(zhuǎn)，以使基板的背面朝向上方。翻轉(zhuǎn)過的基板W被第二主機械手MR2從翻轉(zhuǎn)單元RT1搬出，接著搬入到背面清洗單元SSR。然后，經(jīng)過背面清洗處理后的基板W被第二主機械手MR2從背面清洗單元SSR搬出，接著被搬入到翻轉(zhuǎn)單元RT2中。翻轉(zhuǎn)單元RT2中，對背面朝向上方的基板W進行翻轉(zhuǎn)，以使基板的表面朝向上方。翻轉(zhuǎn)過的基板W被第一處理區(qū)11的第一主機械手MR1從翻轉(zhuǎn)單元RT2搬出，接著搬入到表面清洗單元SS。經(jīng)過表面清洗處理的基板W被第一主機械手MR1從表面清洗單元SS搬出，接著被裝載于基板裝載部PASS2 上。裝載于基板裝載部PASS2的基板W被分度器區(qū)10的分度器機械手IR 接收，并收容于搬運器C內(nèi)。在基板處理裝置100b中，第一主機械手MR1針對一張基板W的搬運工序數(shù)量為如下三個工序從基板裝載部PASS1到基板裝載部PASS3的搬運；從翻轉(zhuǎn)單元RT2到表面清洗單元SS的搬運；以及從表面清洗單元SS到基板裝載部PASS2的搬運。另外，第二主機械手MR2針對一張基板W的搬運工序數(shù)量為如下四個工序從基板裝載部PASS3到端面清洗單元SSB的搬運；從端面清洗單元 SSB到翻轉(zhuǎn)單元RT1的搬運；從翻轉(zhuǎn)單元RT1到背面清洗單元SSR的搬運；以及從背面清洗單元SSR到翻轉(zhuǎn)單元RT2的搬運。此時，第二主機械手MR2的搬運工序數(shù)量比第一主機械手MR1的搬運工序數(shù)量多。因此，整個基板處理裝置100b的處理能力依賴于第二主機械手 MR2對基板W的搬運速度。(3-3)第三實施方式的效果與第一實施方式同樣地，在本實施方式中，通過同時進行第一處理區(qū)11 中的基板W的搬運和第二處理區(qū)12中的基板W的搬運，能夠縮短基板W的搬運時間。由此，能夠提高基板處理裝置100b中的處理能力。另外，在本實施方式中，在對基板W進行端面清洗處理之后，對基板W 進行背面清洗處理。由此，即使在端面處理時在基板W的背面形成吸附痕，也可以通過此后的背面清洗處理消除該吸附痕。另外，由于在表面清洗單元 SS中采用機械式旋轉(zhuǎn)卡盤，所以，即使在背面清洗處理之后進行表面清洗處理，在基板W的背面也不會再次形成吸附痕。 (3-4)第三實施方式的變形例在第三實施方式的基板處理裝置100b中，采用在上述第二實施方式中表示的翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a來代替翻轉(zhuǎn)單元RTl、 RT2也可。此時，由于能夠使多張基板W高效率地進行翻轉(zhuǎn)，因此能夠力求提高基板處理裝置100b 中的處理能力。另外，通過將基板裝載部PASS1、 PASS2、 PASS3分別各設置兩個，并與上述第二實施方式同樣地同時搬運兩張基板W，能夠進一步提高基板處理裝置100b中的處理能力。(4)第四實施方式接著，對本發(fā)明的第四實施方式中的基板處理裝置，說明不同于上述第一實施方式的不同點。(4-1)基板處理裝置的結(jié)構(gòu)圖18以及圖19是示出第四實施方式中的基板處理裝置結(jié)構(gòu)的示意圖。圖18是基板處理裝置的俯視圖。圖19是從箭頭B2方向觀察圖18中的基板處理裝置時的側(cè)視圖。如圖18以及圖19所示，在第四實施方式中的基板處理裝置100c中，在第一處理區(qū)11設置有多個(在圖19中為8個)背面清洗單元SSR。多個背面清洗單元SSR在第一處理區(qū)11的一方側(cè)面?zhèn)纫约傲硪环絺?cè)面?zhèn)确謩e以上下層疊四個的方式而配置。在第二處理區(qū)12設置有多個(在圖19中為8個)表面清洗單元SS。多個表面清洗單元SS在第二處理區(qū)12的一方側(cè)面?zhèn)纫约傲硪环絺?cè)面?zhèn)确謩e以上下層疊四個的方式而配置。(4-2)基板處理裝置動作的概要接著，參照圖18以及圖19說明基板處理裝置100c的動作。首先，在分度器區(qū)10中，分度器機械手IR從裝載于搬運器裝載臺40上的一個搬運器C取出未處理的基板W。分度器機械手IR向箭頭U方向移動的同時，繞著垂直軸旋轉(zhuǎn)，并將該基板W傳遞給翻轉(zhuǎn)單元RT1 。此刻，基板 W的表面朝向上方。在翻轉(zhuǎn)單元RT1中，對基板W進行翻轉(zhuǎn)，以使其背面朝向上方。翻轉(zhuǎn)過的基板W被第一處理區(qū)11的第一主機械手MR1從翻轉(zhuǎn)單元RT1搬出，接著搬入到背面清洗單元SSR。然后，在背面清洗單元SSR中對基板W進行背面清洗處理。經(jīng)過背面清洗處理后的基板W被第一主機械手MR1從背面清洗單元SSR搬出，接著搬入到翻轉(zhuǎn)單元RT2。在翻轉(zhuǎn)單元RT2中，對背面朝向上方的基板W進行翻轉(zhuǎn)，以使其表面朝向上方。翻轉(zhuǎn)過的基板W被第二處理區(qū)12的第二主機械手MR2從翻轉(zhuǎn)單元 RT2搬出，接著搬入到表面清洗單元SS。然后，在表面清洗單元SS中對基板W進行表面清洗處理。另外，在表面清洗單元SS中，采用吸附式旋轉(zhuǎn)卡盤61 (圖10)以及機械式旋轉(zhuǎn)卡盤81 (圖11)中的任意一個也可。但是，通過采用吸附式旋轉(zhuǎn)卡盤61，能夠在表面清洗單元SS中同時對基板W的周邊部以及外周端部進行清洗。經(jīng)過表面清洗處理后的基板W被第二主機械手MR2從表面清洗單元SS 搬出，接著裝載于基板裝載部PASS2。裝載于基板裝載部PASS2的基板W 被第一處理區(qū)的主機械手MR1接收，接著裝載于基板裝載部PASS1。裝載于基板裝載部PASS1的基板W被分度器區(qū)10的分度器機械手IR接收，并收容于搬運器C內(nèi)。(4-3)主機械手的動作 (4-3-1)第一主機械手的動作例接著，參照圖18說明第一主機械手MR1的具體動作例。第一主機械手MR1，首先通過手部MRH2從翻轉(zhuǎn)單元RT1搬出背面朝向上方的未處理基板W。接著，第一主機械手MR1通過手部MRH1從背面清洗單元SSR的任意一個中搬出經(jīng)過背面清洗處理后的基板W，并將保持在手部MRH2的上述未處理基板W搬入到該背面清洗單元SSR。接著，第一主機械手MR1用手部MRH2從基板裝載部PASS2搬出表面朝向上方的基板W。該基板W是經(jīng)過背面清洗處理以及表面清洗處理后的基板W。接著，第一主機械手MR1將保持在手部MRH1的經(jīng)過上述背面清洗處理后的基板W搬入到翻轉(zhuǎn)單元RT2。接著，第一主機械手MR1將保持在手部MRH2的經(jīng)過背面清洗處理以及表面清洗處理的基板W裝載于基板裝載部 PASS1上。第一主機械手MR1連續(xù)進行這樣的一連串的動作。此外，在上述動作例中，手部MRH1的動作和手部MRH2的動作相反也可。第一主機械手MR1針對一張基板W的搬運工序數(shù)量為如下三個工序從翻轉(zhuǎn)單元RT1到背面清洗單元SSR的搬運；從背面清洗單元SSR到翻轉(zhuǎn)單元RT2搬運；以及從基板裝載部PASS2到基板裝載部PASS1的搬運。 (4-3-2)第二主機械手的動作接著，參照圖18說明第二主機械手MR2的具體動作例。第二主機械手MR2，首先通過手部MRH4從翻轉(zhuǎn)單元RT2搬出表面朝向上方的經(jīng)過背面清洗處理后的基板W。接著，第二主機械手MR2通過手部 MRH3從表面清洗單元SS中的任意一個搬出經(jīng)過表面清洗處理后的基板W，并將保持在手部MRH4的基板W搬入到該表面清洗單元SS。接著，第二主機械手MR2將保持在手部MRH3的經(jīng)過表面清洗處理后的基板W裝載于基板裝載部PASS2。第二主機械手MR2連續(xù)進行這樣的一連串的動作。此外，在上述動作例中，手部MRH3的動作和手部MRH4的動作相反也可。第二主機械手MR2針對一張基板W的搬運工序數(shù)量為如下兩個工序從翻轉(zhuǎn)單元RT2到表面清洗單元SS的搬運；以及從表面清洗單元SS到基板裝載部PASS2的搬運。如此的第二主機械手MR2的動作，與如上所述的第一主機械手MR1的動作同時進行。在本實施方式中，第二主機械手MR2對基板W的搬運工序數(shù)量少于第一主機械手MR1對基板W的搬運工序數(shù)量。因此，整個基板處理裝置100c的處理能力依賴于第一主機械手MR1對基板W的搬運速度。 (4-4)第四實施方式的效果在本實施方式中，在第一處理區(qū)11設置有第一主機械手MR1 ，在第二處理區(qū)12設置有第二主機械手MR2。此時，能夠同時進行第一處理區(qū)ll中的基板W的搬運和第二處理區(qū)12中的基板W的搬運。由此，能夠縮短基板W 的搬運時間，因此能夠提高基板處理裝置100c的處理能力。另外，翻轉(zhuǎn)單元RT1設置于分度器機械手IR和第一主機械手MR1之間的位置，同時翻轉(zhuǎn)單元RT2設置于第一主機械手MR1和第二主機械手MR2 之間的位置。此時，能夠使基板W翻轉(zhuǎn)的同時，從分度器機械手IR將基板 W傳遞給第一主機械手MR1。同樣，能夠使基板W翻轉(zhuǎn)的同時，從第一主機械手MR1將基板W傳遞給第二主機械手MR2。由此，與第一以及第二主機械手MR1、 MR2分別將基板搬入搬出到翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2的情況相比，能夠減少第一以及第二主機械手MR1、 MR2的搬運工序。從而，能夠進一步提高基板處理裝置100c的處理能力。另外，在本實施方式的基板處理裝置100c中，在第一處理區(qū)11的一方側(cè)面?zhèn)纫约傲硪环絺?cè)面?zhèn)纫远鄬臃绞脚渲糜卸鄠€背面清洗單元SSR，在第二處理區(qū)12的一方側(cè)面?zhèn)纫约傲硪环絺?cè)面?zhèn)纫远鄬臃绞脚渲糜卸鄠€表面清洗單元SS。由此，與以平面方式配置多個清洗單元的情況相比，能夠?qū)崿F(xiàn)基板處理裝置100c的進一步的小型化以及節(jié)省空間化。另外，在本實施方式中，由相互不同的翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2來對背面清洗處理之前的基板W和經(jīng)過背面清洗處理后的基板W進行翻轉(zhuǎn)。此時，即使背面清洗處理之前的基板W的背面被污染，污染物也不會轉(zhuǎn)移到經(jīng)過背面清洗處理后的基板W上。由此，能夠?qū)⒔?jīng)過背面清洗處理后的基板W的背面維持在干凈的狀態(tài)下。另外，在本實施方式中，通過將多個表面清洗單元SS以及多個背面清洗單元SSR以多層層疊的方式設置在高度方向上，由此，能夠?qū)崿F(xiàn)基板處理裝置100c的結(jié)構(gòu)(所謂的平臺結(jié)構(gòu))的小型化，同時，由于將表面清洗單元SS 和背面清洗單元SSR設置在上述高度方向上，由此可容易地設置所需數(shù)量的表面清洗單元SS以及所需數(shù)量的背面清洗單元SSR。(5)第五實施方式接著，對本發(fā)明的第五實施方式中的基板處理裝置，說明不同于上述第四實施方式的不同點。圖20是第五實施方式中的基板處理裝置的剖面示意圖。如圖20所示，第五實施方式中的基板處理裝置100d，具備圖13A、圖13B中所示的翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a，以代替翻轉(zhuǎn)單元RT1 、 RT2。另夕卜，基板裝載部PASS1 、 PASS2 分別各設置兩個。(5-1)基板處理裝置動作的概要接著，參照圖20說明基板處理裝置100d動作的概要。首先，在分度器區(qū)中，分度器機械手IR用手部IRH1、 IRH2，從裝載在搬運器裝載臺40上的搬運器C中的一個搬運器取出兩張未處理的基板W。接著，分度器機械式IR將保持在手部IRH1、 IRH2的兩張基板W依次傳遞給翻轉(zhuǎn)單元RTla。在翻轉(zhuǎn)單元RTla中，對表面朝向上方的兩張未處理基板W進行翻轉(zhuǎn)，以使其背面朝向上方。關于翻轉(zhuǎn)單元RTla的動作，在后面進行說明。接著，第一處理區(qū)11的第一主機械手MR1用手部MRH1、 MRH2從翻轉(zhuǎn)單元RTla同時搬出背面朝向上方的兩張基板W。接著，第一主機械手MR1 將保持在手部MRH1、 MRH2的兩張基板W依次搬入到兩個背面清洗單元 SSR (圖18)。接著，第一主機械手MR1用手部MRH1、 MRH2從兩個背面清洗單元SSR依次搬出經(jīng)過背面清洗處理后的兩張基板W。接著，第一主機械手MR1將保持在手部MRH1、 MRH2的經(jīng)過背面清洗處理后的兩張基板W同時搬入到翻轉(zhuǎn)單元RT2a中。在翻轉(zhuǎn)單元RT2a中對背面朝向上方的兩張基板W進行翻轉(zhuǎn)，以使其表面朝向上方。關于翻轉(zhuǎn)單元 RT2a的動作，在后面進行說明。接著，第二處理區(qū)12的第二主機械手MR2用手部MRH3、 MRH4從翻轉(zhuǎn)單元RT2a同時搬出表面朝向上方的兩張基板W。接著，第二主機械手MR2 將保持在手部MRH3、MRH4的兩張基板W依次搬入到兩個表面清洗單元SS (圖18)。接著，第二主機械手MR2用手部MRH3、 MRH4從兩個表面清洗單元SS依次搬出經(jīng)過表面清洗處理后的兩張基板W。接著，第二主機械手MR2將保持在手部MRH3、 MRH4的兩張基板W 依次裝載于兩個基板裝載部PASS2。接著，第一處理區(qū)11的第一主機械手 MR1用手部MRH1、MRH2依次接收裝載于兩個基板裝載部PASS2的兩張基板W。接著，第一主機械手MR1將兩張基板W依次裝載于兩個基板裝載部 PASS1 。接著，分度器區(qū)10的分度器機械手IR接收裝載于兩個基板裝載部 PASS1的兩張基板W，并收容于搬運器C內(nèi)。由此，完成第五實施方式中基板處理裝置100d的一連串動作。 (5-2)翻轉(zhuǎn)單元的動作接著，說明翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a的動作。圖21A、圖21B、圖21C、圖 21D以及圖22E、圖22F、圖22G是用于說明翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a動作的圖。另外，由于翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a的各工序的動作相同，因此，在圖21A、圖21B、圖21C、圖21D以及圖22E、圖22F、圖22G中，以翻轉(zhuǎn)單元RT2a 的動作為一個例子進行說明。如圖21A所示，保持基板W的第一主機械手MR1的手部MRH1、 MRH2同時在第一活動板36a和固定板32之間以及第二活動板36b和固定板32之間前進。另夕卜，第一主機械手MR1的手部MRH1、 MRH2的進退方向與上述箭頭U(圖18)方向垂直相交。另外，翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a的各支撐銷39a、 3%、 39c、 39d設置于在搬入搬出基板W時分別與手部IRH1、 IRH2，手部 MRH1、 MRH2以及手部MRH3、 MRH4不接觸的位置。然后，如圖21B所示，手部MRH1、 MRH2在同時下降的同時后退。由此，基板W裝載到支撐銷39a、 39d上。此時，在翻轉(zhuǎn)單元RT2a中，背面朝向上方的基板W被裝載到支撐銷39a、 39d上。接著，如圖21C所示，汽缸37a (圖13A)使支撐構(gòu)件35a下降，同時，汽缸37b (圖13A)使支撐構(gòu)件35b上升。由此，一方的基板W被第一活動板36a的支撐銷39c和固定板32的支撐銷39a保持，而另一方的基板W被第二活動板36b的支撐銷39d和固定板32的支撐銷39b保持。在該狀態(tài)下，如圖21D所示，第一活動板36a、固定板32以及第二活動板36b受到旋轉(zhuǎn)驅(qū)動器38的驅(qū)動而一體地向e方向(繞著水平軸HA)旋轉(zhuǎn) 180度。由此，由支撐銷39a、 39c所保持的基板W以及由支撐銷39b、 39d 所保持的基板W被翻轉(zhuǎn)。在該情況下，在翻轉(zhuǎn)單元RT2a中，基板W的表面朝向上方。接著，如圖22E所示，汽缸37a使支撐構(gòu)件35a下降，同時，汽缸37b 使支撐構(gòu)件35b上升。由此，第一活動板36a下降的同時，第二活動板36b 上升。因此，一方的基板W處于被第一活動板36a的支撐銷39c支撐的狀態(tài)，另一方的基板W處于被固定板32的支撐銷3%支撐的狀態(tài)。在該狀態(tài)下，如圖22F所示，第二主機械手MR2的手部MRH3、 MRH4 向由支撐銷39b所支撐的基板W的下方以及由支撐銷39c所支撐的基板W的下方前進的同時上升。由此，通過手部MRH3接收由支撐銷39b所支撐的基板W，并通過手部MRH4接收由支撐銷39c所支撐的基板W。另外，第二主機械手MR2的手部MRH3、 MRH4的進退方向與上述箭頭U (圖18)方向垂直相交。然后，如圖22G所示，通過使手部MRH3、 MRH4同時后退，從翻轉(zhuǎn)單元RT2a搬出兩張基板W。(5-3)第五實施方式的效果在本實施方式中，第一以及第二主機械手MR1、 MR2同時將兩張基板W 搬入搬出到翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a。進而，翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a同時對兩張基板W進行翻轉(zhuǎn)。由此，能夠高效率地對多張基板進行翻轉(zhuǎn)。其結(jié)果，能夠提高基板處理裝置100d中的處理能力。另外，通過分度器機械手IR、第一主機械手MR1以及第二主機械手MR2 同時搬運兩張基板W，能夠進一步提高基板處理裝置100d中的處理能力。(6)第六實施方式接著，對本發(fā)明的第六實施方式中的基板處理裝置，說明不同于上述第四實施方式的不同點。(6-1)基板處理裝置的結(jié)構(gòu)圖23以及24是示出第六實施方式中的基板處理裝置結(jié)構(gòu)的示意圖。圖 23是基板處理裝置的俯視圖，圖24是圖23的A3-A3線剖面圖。如圖23所示，在第六實施方式的基板處理裝置100e中，在第一處理區(qū) 11設置有多個(例如為8個)表面清洗單元SS。另外，在第二處理區(qū)12設置有多個(例如為8個)背面清洗單元SSR。另外，如圖24所示，在分度器區(qū)IO和第一處理區(qū)11之間上下設置有基板裝載部PASS1、 PASS2，而在第一處理區(qū)11和第二處理區(qū)12之間上下設置有翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2。 (6-2)基板處理裝置動作的概要接著，參照圖23以及圖24說明基板處理裝置100e動作的概要。首先，在分度器區(qū)10中，分度器機械手IR從裝載于搬運器裝載臺40上的一個搬運器C取出未處理的基板W。分度器機械手IR向箭頭U方向移動的同時，繞著垂直軸旋轉(zhuǎn)，從而將該基板W裝載于基板裝載部PASS1。裝載在基板裝載部PASS1的基板W被第一處理區(qū)11的第一主機械手 MR1接收，接著搬入到表面清洗單元SS。然后，經(jīng)過表面清洗處理后的基板 W被第一主機械手MR1從表面清洗單元SS搬出，接著搬入到翻轉(zhuǎn)單元RT1 中。在翻轉(zhuǎn)單元RT1中，對表面朝向上方的基板W進行翻轉(zhuǎn)，以使基板的背面朝向上方。翻轉(zhuǎn)過的基板W被第二處理區(qū)12的第二主機械手MR2從翻轉(zhuǎn) 單元RT1搬出，接著搬入到背面清洗單元SSR。然后，經(jīng)過背面清洗處理后的基板W被第二主機械手MR2從背面清洗單元SSR搬出，接著搬入到翻轉(zhuǎn) 單元RT2中。在翻轉(zhuǎn)單元RT2中，對背面朝向上方的基板W進行翻轉(zhuǎn)，以使基板的表面朝向上方。翻轉(zhuǎn)過的基板W被第r處理區(qū)11的第一主機械手MR1從翻轉(zhuǎn) 單元RT2搬出，接著裝載于基板裝載部PASS2。裝載于基板裝載部PASS2 的基板W被分度器區(qū)10的分度器機械手IR接收，并收容于搬運器C內(nèi)。在基板處理裝置100e中，第一主機械手MR1針對一張基板W的搬運工序數(shù)量為如下三個工序從基板裝載部PASS1到表面清洗單元SS的搬運；從表面清洗單元SS到翻轉(zhuǎn)單元RT1的搬運；以及從翻轉(zhuǎn)單元RT2到基板裝載部PASS2的搬運。另外，第二主機械手MR2針對一張基板W的搬運工序數(shù)量為如下兩個工序從翻轉(zhuǎn)單元RT1到背面清洗單元SSR的搬運；以及從背面清洗單元 SSR到翻轉(zhuǎn)單元RT2的搬運。與上述第四實施方式同樣，第二主機械手MR2對基板W的搬運工序數(shù) 量少于第一主機械手MR1對基板W的搬運工序數(shù)量。因此，整個基板處理裝置100e的處理能力依賴于第一主機械手MR1對基板W的搬運速度。 (6-3)第六實施方式的效果在本實施方式中，能夠同時進行第一處理區(qū)11中的基板W的搬運和第二處理區(qū)12中的基板W的搬運，由此能夠縮短基板W的搬運時間，從而提高基板處理裝置100e的處理能力。另外，通過將翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2設置于第一主機械手MR1和第二主機械手MR2之間的位置，能夠?qū)錡進行翻轉(zhuǎn)的同時，在第一主機械手MR1 和第二主機械手MR2之間交接基板W。由此，與第一以及第二主機械手MR1 、 MR2分別向翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2搬入搬出基板W的情況相比，能夠進一步減少第一以及第二主機械手MR1、 MR2的搬運工序數(shù)量。從而，能夠進一步提高基板處理裝置100e的處理能力。 (6-4)第六實施方式的變形例在第六實施方式的基板處理裝置100e中，采用在上述第二實施方式中表示的翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a來代替翻轉(zhuǎn)單元RTl、 RT2也可。此時，由于能夠?qū)Χ鄰埢錡高效率地進行翻轉(zhuǎn)，因此能夠提高基板處理裝置100e的處理能力。另外，通過將基板裝載部PASS1、 PASS2分別各設置兩個，并與上述第二實施方式同樣，同時搬運兩張基板W，能夠進一步提高基板處理裝置100e 的處理能力。(7)第七實施方式接著，針對本發(fā)明的第七實施方式中的基板處理裝置，說明不同于上述第四實施方式的不同點。(7-1)基板處理裝置的結(jié)構(gòu)圖25以及26是示出第七實施方式中的基板處理裝置結(jié)構(gòu)的示意圖。圖 25是基板處理裝置的俯視圖，圖26是圖25的A4-A4線剖面圖。如圖25以及圖26所示，在第七實施方式的基板處理裝置100f中，在分度器區(qū)10和第一處理區(qū)11之間上下設置有基板裝載部PASS1、 PASS2，在第一處理區(qū)11 和第二處理區(qū)12之間，上下設置有具有與基板裝載部PASS1、 PASS2相同結(jié) 構(gòu)的基板裝載部PASS3、 PASS4。另外，在第一處理區(qū)11和第二處理區(qū)12 的一方側(cè)面上下設置有翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2。 (7-2)基板處理裝置動作的概要接著，參照圖25以及圖26說明基板處理裝置100f的動作的概要。首先，在分度器區(qū)10中，分度器機械手IR從裝載于搬運器裝載臺40上的一個搬運器C取出未處理的基板W。分度器機械手IR向箭頭U方向移動的同時，繞著垂直軸旋轉(zhuǎn)，從而將該基板W裝載于基板裝載部PASS1 。裝載于基板裝載部PASS1的基板W被第一處理區(qū)11的第一主機械手 MR1接收，接著，被裝載于基板裝載部PASS3。裝載于基板裝載部PASS3 的基板W被第二處理區(qū)12的第二主機械手MR2接收，接著搬入到翻轉(zhuǎn)單元 RT1。在翻轉(zhuǎn)單元RT1中，對表面朝向上方的基板W進行翻轉(zhuǎn)，以使基板的背面朝向上方。翻轉(zhuǎn)過的基板W被第二主機械手MR2從翻轉(zhuǎn)單元RT1搬出，接著搬入到背面清洗單元SSR。然后，經(jīng)過背面清洗處理后的基板W被第二主機械手MR2從背面清洗單元SSR搬出，接著搬入到翻轉(zhuǎn)單元RT2中。在翻轉(zhuǎn)單元RT2中，對背面朝向上方的基板W進行翻轉(zhuǎn)，以使基板的表面朝向上方。翻轉(zhuǎn)過的基板W被第二主機械手MR2從翻轉(zhuǎn)單元RT2搬出，接著裝載于基板裝載部PASS4。裝載于基板裝載部PASS4的基板W被第一處理區(qū)11的第一主機械手MR1接收，接著搬入到表面清洗單元SS。然后，經(jīng)過表面清洗處理后的基板W被第一主機械手MR1從表面清洗單元SS搬出，接著裝載于基板裝載部PASS2。裝載于基板裝載部PASS2的基板W被分度器區(qū)10的分度器機械手IR接收，并收容于搬運器C內(nèi)。 (7-3)第七實施方式的效果在本實施方式中，能夠同時進行第一處理區(qū)11中的基板W的搬運和第二處理區(qū)12中的基板W的搬運。由此，能夠縮短基板W的搬運時間，因此能夠提高基板處理裝置100f的處理能力。 (7-4)第七實施方式的變形例在第七實施方式的基板處理裝置100f中，采用在上述第二實施方式中表示的翻轉(zhuǎn)單元RTla、 RT2a來代替翻轉(zhuǎn)單元RTl、 RT2也可。此時，由于能夠?qū)Χ鄰埢錡高效率地進行翻轉(zhuǎn)，因此能夠提高基板處理裝置100f中的處理能力。另外，通過將基板裝載部PASS1、 PASS2、 PASS3、 PASS4分別各設置兩個，并與上述第二實施方式同樣地同時搬運兩張基板W，能夠進一步提高基板處理裝置100f的處理能力。(8)其他實施方式在上述第一上述實施方式中，未處理的基板W經(jīng)由基板裝載部PASS1 、 PASS2從分度器區(qū)10搬運到第二處理區(qū)12，但并不僅限定于此，可以經(jīng)由翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2從分度器區(qū)IO搬運到第二處理區(qū)12。另外，在上述第三實施方式中，在進行基板W的端面清洗處理以及背面清洗處理之后進行基板W的表面清洗處理，但并不僅限定于此，在對基板W 進行表面處理之后進行基板W的端面清洗處理以及基板W的背面清洗處理也可。另外，在上述第三、第六以及第七實施方式中，通過翻轉(zhuǎn)單元RT1對背面清洗處理之前的基板W進行翻轉(zhuǎn)，并通過翻轉(zhuǎn)單元RT2對經(jīng)過背面清洗處理后的基板W進行翻轉(zhuǎn)，但并不僅限定于此，通過共用的翻轉(zhuǎn)單元對背面清洗處理之前的基板W以及經(jīng)過背面清洗處理后的基板W進行翻轉(zhuǎn)也可。另外，在上述第一第三實施方式中，表面清洗單元ss、背面清洗單元SSR以及端面清洗單元SSB的配置可以根據(jù)其處理速度適當變更。例如，將端面清洗單元SSB設置于第一處理區(qū)11也可，或者將表面清洗單元SS以及背面清洗單元SSR可以設置在共同的處理區(qū)。另外，在上述第四實施方式中，經(jīng)過表面清洗處理后的基板W經(jīng)由基板裝載部PASS1、 PASS2從第二處理區(qū)12搬運到分度器區(qū)10，但并不僅限定于此，可以經(jīng)由翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2從第二處理區(qū)12搬運到分度器區(qū)10。另外，在上述第四第七實施方式中，使表面清洗處理和背面清洗處理的順序相反也可。另外，在上述第四第七實施方式中，分度器機械手IR以及主機械手 MR1、 MR2的動作順序可以根據(jù)翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2、表面清洗單元SS、背面清洗單元SSR以及端面清洗單元SSB處理速度而適當變更。另外，翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2、 RTla、 RT2a、表面清洗單元SS、背面清洗單元SSR以及端面清洗單元SSB的各數(shù)量可以根據(jù)其處理速度適當變更。另外，在上述第一第七實施方式中，作為分度器機械手IR以及主機械手MR1、 MR2，采用了通過移動關節(jié)來使手部沿著直線進行進退動作的多關節(jié)型搬運機械手，但并不僅限定于此，可以采用相對于基板W使手部沿著直線滑動而進行進退動作的直動型搬運機械手。(9)本發(fā)明的各結(jié)構(gòu)要素和實施方式的各要素的對應以下，針對本發(fā)明的各構(gòu)成要素和實施方式的各要素之間的對應例進行說明，但本發(fā)明并不僅限定于此。在上述實施方式中，示出了第一處理區(qū)ll是第一處理區(qū)域的例子，第二處理區(qū)12是第二處理區(qū)域的例子，分度器區(qū)10是搬入搬出區(qū)域的例子，分度器IO和第一處理區(qū)11之間的區(qū)域是第一交接區(qū)域或者第一交接部的例子，第一處理區(qū)11和第二處理區(qū)12之間的區(qū)域是第二交接區(qū)域或者第二交接部的例子。另外，示出了表面清洗單元SS、背面清洗單元SSR以及端面清洗單元 SSB中的至少一個單元是第一或者第二處理部的例子，第一主機械手MR1是第一搬運裝置的例子，第二主機械手MR2是第二搬運裝置的例子，搬運器C 是收容容器的例子，搬運器裝載臺40是容器裝載部的例子，分度器機械手IR 是第三搬運裝置的例子。另外，示出了端面清洗單元SSB是端面清洗處理部的例子，背面清洗單元SSR是背面清洗處理部的例子，表面清洗單元SS是表面清洗處理部的例子，翻轉(zhuǎn)單元RT1、 RT2、 RTla、 RTlb是(第一或者第二)翻轉(zhuǎn)裝置或者翻轉(zhuǎn)機構(gòu)的例子，基板裝載部PASS1、 PASS2、 PASS3、 PASS4 (第一或者第二) 是基板裝載部的例子。另外，示出了固定板32、第一活動板36a、支撐銷39a、 39c以及汽缸37a 是第一保持機構(gòu)的例子，固定板32、第二活動板36b、支撐銷39b、 39d以及汽缸37b是第二保持機構(gòu)的例子，支撐板31是支撐構(gòu)件的例子，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動器 38是旋轉(zhuǎn)裝置的例子，固定板32是共用的翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的例子，支撐銷39a 是第一支撐部的例子，第一可動板36a是第一翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的例子，支撐銷 39c是第二支撐部的例子，汽缸37a是第一驅(qū)動機構(gòu)的例子，支撐銷3%是第三支撐部的例子，第二活動板36b是第二翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的例子，支撐銷39d 是第四支撐部的例子，汽缸37b是第二驅(qū)動機構(gòu)的例子。另外，作為本發(fā)明的各結(jié)構(gòu)要素，也可以采用具有在本發(fā)明中所記載的結(jié)構(gòu)或者性能的其他各種要素。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，其對具有表面以及背面的基板進行處理，其特征在于，具有第一以及第二處理區(qū)域，所述第一以及第二處理區(qū)域互相鄰接而配置，并用以對基板進行處理；搬入搬出區(qū)域，所述搬入搬出區(qū)域?qū)ι鲜龅谝惶幚韰^(qū)域搬入以及搬出基板；第一交接區(qū)域，所述第一交接區(qū)域設置在上述搬入搬出區(qū)域和上述第一處理區(qū)域之間，第二交接區(qū)域，所述第二交接區(qū)域設置在上述第一處理區(qū)域和上述第二處理區(qū)域之間，其中，上述第一處理區(qū)域具有第一處理部；第一搬運裝置，所述第一搬運裝置在上述第一交接區(qū)域、上述第一處理部以及上述第二交接區(qū)域之間搬運基板，上述第二處理區(qū)域具有第二處理部；第二搬運裝置，所述第二搬運裝置在上述第二交接區(qū)域以及上述第二處理部之間搬運基板，上述搬入搬出區(qū)域具有容器裝載部，所述容器裝載部用以裝載收容基板的收容容器；第三搬運裝置，所述第三搬運裝置在裝載于上述容器裝載部的收容容器和上述第一交接區(qū)域之間搬運基板，而且，上述第一以及第二處理部中的任意一方具有用以清洗基板背面的背面清洗處理部，上述第一交接區(qū)域、第二交接區(qū)域以及在上述第二搬運裝置中與上述第二交接區(qū)域相反側(cè)的區(qū)域中的至少一個區(qū)域上具有翻轉(zhuǎn)裝置，所述翻轉(zhuǎn)裝置用以對基板的表面和背面進行翻轉(zhuǎn)。
2.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述第一以及第二處理部中的任意一方處理部具有端面清洗處理部，所述端面清洗處理部在保持基板背面的同時對基板的外周端部進行清洗，上述翻轉(zhuǎn)裝置對通過上述端面清洗處理部清洗的基板的表面和背面進行翻轉(zhuǎn)，上述背面清洗處理部對通過上述翻轉(zhuǎn)裝置翻轉(zhuǎn)的基板的背面進行清洗。
3. 如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，上述端面清洗處理部具有以多層形式配置的多個端面清洗單元，上述背面清洗處理部具有以多層形式配置的多個背面清洗單元。
4. 如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，上述第一以及第二處理部中的任意一方處理部具有表面清洗處理部，所述表面清洗處理部用以清洗基板表面。
5. 如權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，上述表面清洗處理部具有以多層形式配置的多個表面清洗單元。
6. 如權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，上述翻轉(zhuǎn)裝置具有第一以及第二翻轉(zhuǎn)裝置，上述第一交接區(qū)域具有裝載基板的第一基板裝載部和上述第一翻轉(zhuǎn)裝置，上述第二交接區(qū)域具有裝載基板的第二基板裝載部和上述第二翻轉(zhuǎn)裝置，上述第一處理部具有上述背面清洗處理部，上述第二處理部具有上述端面清洗處理部以及上述表面清洗處理部，上述第一搬運裝置在上述第一基板裝載部、上述第二基板裝載部、上述第一翻轉(zhuǎn)裝置、上述第二翻轉(zhuǎn)裝置以及上述背面清洗處理部之間搬運基板，上述第二搬運裝置在上述第二基板裝載部、上述第二翻轉(zhuǎn)裝置、上述端面清洗處理部以及上述表面清洗處理部之間搬運基板，上述第三搬運裝置在上述收容容器、上述第一基板裝載部以及上述第一翻轉(zhuǎn)裝置之間搬運基板。
7. 如權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于，上述第一翻轉(zhuǎn)裝置使基板繞著旋轉(zhuǎn)軸進行翻轉(zhuǎn)，該旋轉(zhuǎn)軸與在交接基板時的上述第一搬運裝置的位置和上述第三搬運裝置的位置的連接線相交叉；上述第二翻轉(zhuǎn)裝置使基板繞著旋轉(zhuǎn)軸進行翻轉(zhuǎn)，該旋轉(zhuǎn)軸與在交接基板時的上述第一搬運裝置的位置和上述第二搬運裝置的位置的連接線相交叉。
8. 如權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，上述第一交接區(qū)域具有用以裝載基板的第一基板裝載部，上述第二交接區(qū)域具有用以裝載基板的第二基板裝載部和上述翻轉(zhuǎn)裝置， '上述第一處理部具有上述表面清洗處理部，上述第二處理部具有上述端面清洗處理部以及上述背面清洗處理部，上述第一搬運裝置在上述第一基板裝載部、上述第二基板裝載部、上述翻轉(zhuǎn)裝置、以及上述表面清洗處理部之間搬運基板，上述第二搬運裝置在上述第二基板裝載部、上述翻轉(zhuǎn)裝置、上述端面清洗處理部以及上述背面清洗處理部之間搬運基板，上述第三搬運裝置在上述收容容器以及上述第一基板裝載部之間搬運基板。
9. 如權(quán)利要求8所述的基板處理裝置，其特征在于，上述翻轉(zhuǎn)裝置使基板繞著旋轉(zhuǎn)軸進行翻轉(zhuǎn)，該旋轉(zhuǎn)軸與在交接基板時的上述第一搬運裝置的位置和上述第二搬運裝置的位置的連接線相交叉。
10. 如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述第一以及第二處理部的另一方具有表面清洗處理部，所述表面清洗處理部用以清洗基板表面。
11. 如權(quán)利要求10所述的基板處理裝置，其特征在于，上述背面清洗處理部具有以多層形式配置的多個背面清洗單元，上述表面清洗處理部具有以多層形式配置的多個表面清洗單元。
12. 如權(quán)利要求10所述的基板處理裝置，其特征在于，上述翻轉(zhuǎn)裝置具有第一以及第二翻轉(zhuǎn)裝置，上述第一交接區(qū)域具有用以裝載基板的第一基板裝載部和上述第一翻轉(zhuǎn) 裝置，上述第二交接區(qū)域具有用以裝載基板的第二基板裝載部和上述第二翻轉(zhuǎn) 裝置，上述第一處理部具有上述背面清洗處理部，上述第二處理部具有上述表面清洗處理部，上述第一搬運裝置在上述第一基板裝載部、上述第二基板裝載部、上述第一翻轉(zhuǎn)裝置、上述第二翻轉(zhuǎn)裝置以及上述背面清洗處理部之間搬運基板，上述第二搬運裝置在上述第二基板裝載部、上述第二翻轉(zhuǎn)裝置以及上述表面清洗處理部之間搬運基板，上述第三搬運裝置在裝載于上述容器裝載部的收容容器、上述第一基板裝載部以及上述第一翻轉(zhuǎn)裝置之間搬運基板。
13. 如權(quán)利要求12所述的基板處理裝置，其特征在于，上述第一翻轉(zhuǎn)裝置使基板繞著旋轉(zhuǎn)軸進行翻轉(zhuǎn)，該旋轉(zhuǎn)軸與在交接基板時的上述第一搬運裝置的位置和上述第三搬運裝置的位置的連接線相交叉，上述第二翻轉(zhuǎn)裝置使基板繞著旋轉(zhuǎn)軸進行翻轉(zhuǎn)，該旋轉(zhuǎn)軸與在交接基板時的上述第一搬運裝置的位置和上述第二搬運裝置的位置的連接線相交叉。
14. 如權(quán)利要求10所述的基板處理裝置，其特征在于，上述第一交接區(qū)域具有用以裝載基板的第一基板裝載部上述第二交接區(qū)域具有上述翻轉(zhuǎn)裝置，上述第一處理部具有上述表面清洗處理部，上述第二處理部具有上述背面清洗處理部，上述第一搬運裝置在上述第一基板裝載部、上述翻轉(zhuǎn)裝置以及上述表面清洗處理部之間搬運基板，上述第二搬運裝置在上述翻轉(zhuǎn)裝置以及上述背面清洗處理部之間搬運基板，上述第三搬運裝置在裝載于上述容器裝載部的收容容器以及上述第一基板裝載部之間搬運基板。
15. 如權(quán)利要求14所述的基板處理裝置，其特征在于，上述翻轉(zhuǎn)裝置使基板繞著旋轉(zhuǎn)軸進行翻轉(zhuǎn)，該旋轉(zhuǎn)軸與在交接基板時的上述第一搬運裝置的位置和上述第二搬運裝置的位置的連接線相交叉。
16. 如權(quán)利要求10所述的基板處理裝置，其特征在于，上述第一交接區(qū)域具有用以裝載基板的第一基板裝載部，上述第二交接區(qū)域具有用以裝載基板的第二基板裝載部，與上述第二交接區(qū)域相反側(cè)的區(qū)域具有上述翻轉(zhuǎn)裝置，上述第一處理部具有上述表面清洗處理部，上述第二處理部具有上述背面清洗處理部，上述第一搬運裝置在上述第一基板裝載部、上述第二基板裝載部以及上述表面清洗處理部之間搬運基板，上述第二搬運裝置在上述第二基板裝載部、上述翻轉(zhuǎn)裝置以及上述背面清洗處理部之間搬運基板， '上述第三搬運裝置在裝載于上述容器裝載部的收容容器以及上述第一基板裝載部之間搬運基板。
17. 如權(quán)利要求14或者16所述的基板處理裝置，其特征在于，上述翻轉(zhuǎn)裝置具有上下配置的第一以及第二翻轉(zhuǎn)裝置。
18. 如權(quán)利要求17所述的基板處理裝置，其特征在于，上述第一翻轉(zhuǎn)裝置用以對通過上述背面清洗處理部實施清洗之前的基板進行翻轉(zhuǎn)，上述第二翻轉(zhuǎn)裝置用以對通過上述背面清洗處理部實施清洗之后的基板進行翻轉(zhuǎn)。
19. 如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述翻轉(zhuǎn)裝置具有第一保持機構(gòu)，所述第一保持機構(gòu)用以將基板以垂直于第一軸的狀態(tài)加以保持；第二保持機構(gòu)，所述第二保持機構(gòu)用以將基板以垂直于上述第一軸的狀態(tài)加以保持；支撐構(gòu)件，所述支撐構(gòu)件用以將上述第一以及第二保持機構(gòu)以在上述第一軸的方向相重疊的方式加以支撐；旋轉(zhuǎn)裝置，所述旋轉(zhuǎn)裝置使上述支撐構(gòu)件與上述第一以及第二保持構(gòu)件一起繞著第二軸一體地旋轉(zhuǎn)，其中，該第二軸大致垂直于上述第一軸。
20. 如權(quán)利要求19所述的基板處理裝置，其特征在于，上述第一以及第二保持機構(gòu)具有共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，該共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件具有垂直于上述第一軸的一面以及另一面，上述第一保持機構(gòu)具有多個第一支撐部，所述多個第一支撐部設置在上述共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的上述一面，并用以支撐基板的外周部；第一翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，所述第一翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件與上述共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的上述一面對置而設置；多個第二支撐部，所述多個第二支撐部設置在與上述共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件對置的上述第一翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的面，并用以支撐基板的外周部；第一驅(qū)動機構(gòu)，所述第一驅(qū)動機構(gòu)使上述第一翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及上述共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件中的至少一方移動，使得在以下兩種狀態(tài)之間選擇性地轉(zhuǎn)移，該兩種狀態(tài)是指，上述第一翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和上述共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件在上述第一軸的方向上相互分離的狀態(tài)、以及上述第一翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和上述共用翻轉(zhuǎn) 保持構(gòu)件相互接近的狀態(tài)，而且上述第二保持機構(gòu)具有多個第三支撐部，所述多個第三支撐部設置在上述共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的上述另一面，并用以支撐基板的外周部；第二翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件，所述第二翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件與上述共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的上述另一面對置而設置；多個第四支撐部，所述多個第四支撐部設置在與上述共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件對置的上述第二翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件的面，并用以支撐基板的外周部；第二驅(qū)動機構(gòu)，所述第二驅(qū)動機構(gòu)使上述第二翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件以及上述共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件中的至少一方移動，使得在以下兩種狀態(tài)之間選擇性地轉(zhuǎn)移，該兩種狀態(tài)是指，上述第二翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和上述共用翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件在上述第一軸的方向上相互分離的狀態(tài)、以及上述第二翻轉(zhuǎn)保持構(gòu)件和上述共用翻轉(zhuǎn) 保持構(gòu)件相互接近的狀態(tài)。
21. —種基板處理裝置，其對具有表面以及背面的基板進行處理，其特征在于，具有第一以及第二處理區(qū)域，所述第一以及第二處理區(qū)域互相鄰接而配置，并用以對基板進行處理；搬入搬出區(qū)域，所述搬入搬出區(qū)域?qū)ι鲜龅谝惶幚韰^(qū)域搬入以及搬出基板；第一交接部，所述第一交接部在上述搬入搬出區(qū)域和上述第一處理區(qū)域之間交接基板，第二交接部，所述第二交接部在上述第一處理區(qū)域和上述第二處理區(qū)域之間交接基板，其中，上述第一處理區(qū)域具有第一處理部；第一搬運裝置，所述第一搬運裝置在上述第一交接部、上述第一處理部以及上述第二交接部之間搬運基板，上述第二處理區(qū)域具有第二處理部；第二搬運裝置，所述第二搬運裝置在上述第二交接部以及上述第二處理部之間搬運基板，上述搬入搬出區(qū)域具有容器裝載部，所述容器裝載部用以裝載收容基板的收容容器；第三搬運裝置，所述第三搬運裝置在裝載于上述容器裝載部的收容容器和上述第一交接部之間搬運基板，而且，上述第一以及第二處理部中的一方具有用以清洗基板背面的背面清洗處理部，上述第一交接部以及第二交接部中的至少一方具有翻轉(zhuǎn)機構(gòu)，所述翻轉(zhuǎn) 機構(gòu)在第一搬運裝置以及第三搬運裝置之間，或者在第一搬運裝置以及第二搬運裝置之間交接基板的同時，使基板的表面和背面進行翻轉(zhuǎn)。
22. 如權(quán)利要求21所述的基板處理裝置，其特征在于，上述第一以及第二處理部中的一方或者另一方具有端面清洗處理部，所述端面清洗處理部在保持基板背面的同時對基板的外周端部進行清洗，上述翻轉(zhuǎn)機構(gòu)對通過上述端面清洗處理部清洗的基板的表面和背面進行翻轉(zhuǎn)，上述背面清洗處理部對通過上述翻轉(zhuǎn)機構(gòu)翻轉(zhuǎn)的基板的背面進行清洗。
23. 如權(quán)利要求21所述的基板處理裝置，其特征在于，上述第一以及第二處理部中的另一方具有表面清洗處理部，所述表面清洗處理部用以對基板的表面進行清洗。
全文摘要
本發(fā)明提供一種對基板進行處理的基板處理裝置。該基板處理裝置由互相并列而設置的分度器區(qū)、第一處理區(qū)以及第二處理區(qū)構(gòu)成。在分度器區(qū)設置有分度器機械手。在第一處理區(qū)設置有多個背面清洗單元以及第一主機械手。在第二處理區(qū)設置有多個端面清洗單元、多個表面清洗單元以及第二主機械手。
文檔編號H01L21/027GK101246812SQ20081000567
公開日2008年8月20日申請日期2008年2月15日優(yōu)先權(quán)日2007年2月15日
發(fā)明者光吉一郎, 榑林知啟, 澀川潤, 清川信治申請人:大日本網(wǎng)目版制造株式會社

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