加工后的低粗糙度的技術(shù)，而如果低負(fù)荷下的第二階段的加工時(shí)間不足，則有時(shí)無法在 第二階段完全降低在第一階段中變粗的粗糙度。此外，還有殘留劃痕的可能。這些情況都 可以通過后續(xù)的研磨工序的加工余量增加等消除，然而會(huì)成為制造成本上升的原因之一。
[0069] 此外，優(yōu)選PlXtl(面積）<P2Xt2(面積）。這樣就能夠充分降低磨削處理后的 表面粗糙度。
[0070] 此外，在本發(fā)明中，磨削加工處理整體的加工速度在2. 0 μ m/分鐘以上，更優(yōu)選在 3.0 μπ?/分鐘以上。如果是該范圍，則能夠在不必減慢加工速度的情況下進(jìn)行磨削加工。 另外，上述磨削加工處理整體的加工速度指的是用全部加工時(shí)間（包括第一階段和第二階 段）除以全部磨削厚度得到的值。
[0071] 此外，在本發(fā)明中，上述金剛石固定磨粒的平均粒徑優(yōu)選為20~40 μ m。進(jìn)而，金 剛石固定磨粒的各自的粒徑優(yōu)選為10~50 μπ?。上述金剛石磨粒的平均粒徑或各自的粒徑 如果低于上述范圍，則在鏡面狀玻璃基板上的切入會(huì)較淺，不會(huì)實(shí)現(xiàn)在玻璃基板上的刻入。 另一方面，如果上述金剛石磨粒的平均粒徑或各自的粒徑高于上述范圍，則精加工的粗糙 度變粗，因而后續(xù)工序的加工余量負(fù)荷會(huì)變大。
[0072] 另外，如上所述，這里的金剛石固定磨粒表示所述凝聚體。此外，凝聚體中包含的 各個(gè)金剛石粒子的大小優(yōu)選平均粒徑為1~5 μ m。
[0073] 另外，在本發(fā)明中，上述平均粒徑（D50)指的是以通過激光衍射法測(cè)定的粒度分 布中粉體的集團(tuán)的整體體積作為100%而求出累積曲線時(shí)，該累積曲線為50%的點(diǎn)的粒徑 (以下，稱之為"累積平均粒子徑（50%徑）"）。在本發(fā)明中，累積平均粒子徑（50%徑）具 體而言是使用粒子徑/粒度分布測(cè)定裝置測(cè)定得到的值。
[0074] 如上所述，在本發(fā)明中，磨削處理同樣使用固定磨粒磨石（金剛石磨墊），通過一 次工藝來連續(xù)執(zhí)行"高于通常磨削的負(fù)荷+通常負(fù)荷"。而且，為了提升生產(chǎn)性，更換基板， 并重復(fù)執(zhí)行同樣的工藝。此時(shí)，由于投入基板的主表面為鏡面，因而解決了泥渣易于蓄積于 固定磨粒磨石的表面的問題。如以往那樣加工拋光后的玻璃基板的情況下，投入基板的表 面粗糙度較大，因而由于磨削加工而蓄積于磨石表面的泥渣會(huì)被接連投入的新玻璃基板表 面去除，而在直接磨削加工本發(fā)明的鏡面玻璃基板的情況下無法獲得這種效果。
[0075] 即，可以確認(rèn)到，為了提升生產(chǎn)性而同樣使用固定磨粒磨石進(jìn)行多次處理的情況， 需要精密控制磨削磨粒的突出量。
[0076] 在本發(fā)明的磨削處理中，優(yōu)選使用將磨削磨粒（即金剛石固定磨粒）的突出量被 良好調(diào)整后的磨削磨石，進(jìn)行玻璃基板主表面的磨削。
[0077] 例如如果使用上述磨削磨粒的突出量較低的磨削磨石，則泥渣會(huì)蓄積于磨削磨石 的表面上，從而妨礙磨粒接觸玻璃表面，會(huì)存在較多無法充分作用于玻璃表面上（在玻璃 表面上的作用較弱）的磨粒，因而會(huì)產(chǎn)生上述部分的磨削不良，其結(jié)果導(dǎo)致加工后的平坦 度不良的發(fā)生率變高。
[0078] 與此相對(duì)，如果使用將磨削磨粒的突出量良好調(diào)整后的磨削磨石，則即使泥渣蓄 積于磨石的表面上，也能夠抑制妨礙磨粒接觸玻璃表面的情況，磨削磨粒可穩(wěn)定作用于玻 璃表面上，能夠進(jìn)行不存在磨削不均的穩(wěn)定的磨削加工。
[0079] 上述的磨削磨石的磨削磨粒的突出量可如下測(cè)定。
[0080] 對(duì)于磨削加工實(shí)施前的上下模座的磨削磨石（通常，形成為圓盤狀），在設(shè)從內(nèi)周 到外周的距離為100%時(shí)，在從內(nèi)周起的10%、50%、90%的位置分別切取2. 5mmX2. 5mm的 大小的合計(jì)6個(gè)樣本（墊片）。關(guān)于該6樣本，分別從例如使用激光顯微鏡得到的觀察圖像 中選擇任意的、例如5個(gè)磨削磨粒，測(cè)定磨粒與磨粒周邊的樹脂部的高低差，根據(jù)所有磨粒 的高低差的平均值定義該磨削磨石的磨削磨粒的突出量。
[0081] 關(guān)于調(diào)整磨削磨粒的突出量，例如可以通過修整處理來進(jìn)行。具體而言，例如將用 于磨削加工的兩面磨削裝置也用于修整處理，使被管理為適當(dāng)?shù)暮穸绕畹哪ナ佑|配備 于上下模座上的金剛石磨墊等磨削磨石表面，在使兩面磨削裝置的上下模座旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下 能夠進(jìn)行修整處理。關(guān)于用于修整處理的磨石的材質(zhì)不做特別限定，例如優(yōu)選氧化鋁磨石 等。此外，這種情況下，還可以使用厚度偏差不同的多個(gè)磨石，階段性地進(jìn)行修整處理。
[0082] 在本發(fā)明中，在磨削加工處理中投入的玻璃基板的主表面為鏡面，表面粗糙度Ra 通常在0. 05 μ m，更優(yōu)選為0. 001~0. 01 μ m。本發(fā)明尤其可以采用在磨削處理中投入的玻 璃基板的表面粗糙度以Ra計(jì)為0. 001~0. 01 y m的粗糙度極低的板玻璃，因而能夠?qū)⒑罄m(xù) 工序的加工余量抑制在最小限度，因此能夠制造低成本的磁盤玻璃基板。
[0083] 此外，在本發(fā)明中，上述第一階段結(jié)束后的玻璃基板的表面粗糙度Ra大致屬于 0. 100~0. 150 μ m的范圍。通過粗面化為該范圍內(nèi)，從而能夠良好地進(jìn)行后續(xù)第二階段的 磨削加工。
[0084] 此外，在本發(fā)明中，精加工為上述第二階段結(jié)束后的玻璃基板的表面粗糙度Ra屬 于0. 080~0. 130 μ m的范圍。這樣就能夠?qū)⒕庸さ拇植诙纫种频幂^低，因此能夠減輕后 續(xù)工序的加工負(fù)荷。
[0085] 如上所述，在本發(fā)明的磨削加工處理中，能夠改善使用以往的固定磨粒的磨削加 工中的無法進(jìn)行磨削加工的時(shí)間的產(chǎn)生導(dǎo)致的生產(chǎn)性的降低，此外，具有第一階段和第二 階段的磨削加工處理可使用同一個(gè)裝置連續(xù)進(jìn)行，因此能夠提升生產(chǎn)性。此外，根據(jù)本發(fā)明 的磨削加工處理，不會(huì)使加工速度變慢，而且能夠?qū)⒓庸っ娴谋砻娲植诙纫种频幂^低，還能 減輕后續(xù)工序的加工負(fù)荷。
[0086] 在本發(fā)明中，構(gòu)成玻璃基板的玻璃（的硝種）優(yōu)選為非結(jié)晶形的硅酸鋁玻璃。對(duì) 這種玻璃基板的表面進(jìn)行鏡面研磨，從而能夠精加工為平滑的鏡面，而且加工后的強(qiáng)度也 良好。作為這種硅酸鋁玻璃，例如優(yōu)選為以SiO2作為主成分且含有20重量％以下的Al 203 的玻璃。進(jìn)而，更優(yōu)選為以SiO2作為主成分且含有15重量％以下的Al2O3的玻璃。具體而 言，可以使用不含磷氧化物的非結(jié)晶形的硅酸鋁玻璃，其作為主成分含有62重量％以上75 重量％以下的SiO 2、5重量％以上15重量％以下的Al2O3、4重量％以上10重量％以下的 Li20、4重量％以上12重量％以下的Na2O以及5. 5重量％以上15重量％以下的ZrO2，并且 Na2CVZrO2的重量比在0. 5以上2. 0以下，Al 203/Zr02的重量比在0. 4以上2. 5以下。
[0087] 此外，作為該硅酸鋁玻璃，以重量％表示時(shí)，可以使用如下的化學(xué)強(qiáng)化用玻璃，其 含有
[0088] 58 ~66% 的 Si02、13 ~19% 的 Al203、3 ~4. 5% 的 Li20、6 ~13% 的 Na20、0 ~5% 的 K20、10 ~18%的 R20、（其中，R2O = Li2(HNa2CHK2O)
[0089] 0 ~3. 5%的 Mg0、l ~7%的 Ca0、0 ~2 的％ Sr0、0 ~2%的 Ba0、2 ~10%的 R0、 (其中，RO = MgO+CaO+SrO+BaO)
[0090] 0 ~2 % 的 Ti02、0 ~2 % 的 Ce02、0 ~2 % 的 Fe203、0 ~1 % 的 Μη0(其中， Ti02+Ce02+Fe203+Mn0 = 0· 01 ~3% )的組成。
[0091] 此外，作為耐熱性玻璃，例如優(yōu)選使用如下的玻璃，其組成通過摩爾％可表示為， 50 ~75% 的 Si02、0 ~5% 的 A1203、0 ~2% 的 Ba0、0 ~3% 的 Li20、0 ~5% 的 ZnCKNa2O 和 1(20合計(jì)為3~15%、]\%0、〇30、51〇和830合計(jì)為14~35%、21〇2、110 2、1^203、￥203、￥13 203、 Ta205、Nb205和 HfO2合計(jì)為 2 ~9 %，并且摩爾比[(MgO+CaO) AMgO+CaO+SrO+BaO)]在 0· 85 ~ 1的范圍內(nèi)，且摩爾比[Al2CV(MgCHCaO)]在0~0· 30的范圍內(nèi)。
[0092] 此外，還可以使用如下的玻璃，其成分為56~75摩爾％的Si02、1~9摩爾％的 A1203、從由Li20、Na2O^PK 2O組成的組中選擇的堿金屬氧化物合計(jì)為6~15摩爾％、從由 MgO、CaO和SrO組成的組中選擇的堿土類金屬氧化物合計(jì)為10~30摩爾％、從由Zr02、 Ti02、Y203、La203、Gd 203、Nb2O5和Ta2O 5組成的組中選擇的氧化物合計(jì)為超過0%且在10摩 爾％以下。
[0093] 在本發(fā)明中，玻璃組成中