專利名稱：物鏡驅(qū)動(dòng)裝置以及光拾取裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及驅(qū)動(dòng)物鏡的驅(qū)動(dòng)裝置以及光拾取裝置。
背景技術(shù)：
圖5A 圖5C是表示第1已有技術(shù)的致動(dòng)器40的結(jié)構(gòu)圖，圖5A是俯視 圖、圖5B是側(cè)面圖、圖5C是從圖5A中所示的剖面線D—D看的剖視圖。將 光盤作為存儲(chǔ)介質(zhì)使用的光拾取裝置使用的致動(dòng)器40具有為了在光盤11上 存儲(chǔ)或重放信息而將利用物鏡401聚光的光束12控制于光盤11上的最合適的 焦點(diǎn)位置上的聚焦方向驅(qū)動(dòng)部、跟蹤特定軌跡的跟蹤方向驅(qū)動(dòng)部、根據(jù)情況對(duì) 應(yīng)于光頭11的傾斜使物鏡401傾斜的傾斜方向驅(qū)動(dòng)部。
聚焦方向驅(qū)動(dòng)部通過使用了聚焦線圈408及磁體405的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使保持物 鏡401的透鏡架402向光軸方向移動(dòng)，使其跟蹤以使光盤11上的光束光點(diǎn)與 焦點(diǎn)一致。跟蹤方向驅(qū)動(dòng)部通過使用了跟蹤線圈407及磁體404的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使 保持物鏡401的透鏡架402向與光軸垂直相交的光盤11的半徑方向移動(dòng)，使 光束的光點(diǎn)跟蹤光盤11上的特定軌跡。
又，傾斜方向驅(qū)動(dòng)部通過使用了傾斜線圈406及磁體410的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，使 保持物鏡401的透鏡架402對(duì)應(yīng)于光盤11的傾斜使物鏡401傾斜。透鏡架402 與物鏡401 —起一體地保持聚焦線圈408、跟蹤線圈407及傾斜線圈406。
固定于底座403的支持構(gòu)件413利用例如相互平行配置的、設(shè)置在上中下 和左右的6根彈性支持構(gòu)件409支持透鏡架402。利用由聚焦線圈408、跟蹤 線圈407和傾斜線圈406、以及磁體404、磁體405和磁體410產(chǎn)生的驅(qū)動(dòng)力， 使彈性支持構(gòu)件409發(fā)生彎曲變形，使其能夠向聚焦方向、跟蹤方向以及傾斜 方向移動(dòng)。
作為第2已有技術(shù)的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置在透鏡架的向跟蹤方向的兩可動(dòng)側(cè)配置 傾斜線圈，在與該傾斜線圈相對(duì)的位置配置在上下方向極化的傾斜用磁體(參照例如日本專利特開2003 — 115124號(hào)公報(bào))。
作為第3已有技術(shù)的光拾取裝置，不需要驅(qū)動(dòng)傾斜線圈專用的磁體，但在 聚焦線圈的跟蹤可動(dòng)方向的兩外側(cè)配置跟蹤線圈。又在聚焦線圈下側(cè)，在跟蹤 方向上配置2個(gè)傾斜線圈，利用左右各傾斜線圈產(chǎn)生的力矩進(jìn)行向傾斜方向的 驅(qū)動(dòng)(例如參照日本專利特開2003 — 173556號(hào)公報(bào))。
作為第4已有技術(shù)的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，聚焦線圈和磁體分為左右兩個(gè)地進(jìn)行 配置(例如參照日本專利特開平11—312327號(hào)公報(bào))。
但是，第1以及第2已有技術(shù)是在傾斜線圈中使用專用的磁體的結(jié)構(gòu)，但 是由于需要地點(diǎn)配置這些磁體，而產(chǎn)生致動(dòng)器尺寸變大的問題，包括不使其極 化的提高成本的情況。又，第2已有技術(shù)中的驅(qū)動(dòng)力因跟蹤方向的可動(dòng)位置的 不同而不穩(wěn)定。
第3已有技術(shù)，在聚焦線圈的跟蹤可動(dòng)方向的兩外側(cè)配置跟蹤線圈，但存 在問題是為了確保向跟蹤線圈方向的可動(dòng)量，磁體的寬度必然變大。又，在 聚焦線圈的下側(cè)的跟蹤方向上配置2個(gè)傾斜線圈，該傾斜線圈由左右各傾斜線 圈產(chǎn)生的力矩在傾斜方向上驅(qū)動(dòng)，但是由于偏離透鏡架的重心位置排列，功率 較小時(shí)難以產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力。
第4已有技術(shù)將聚焦線圈和磁體左右2個(gè)分開配置，但是為了容易產(chǎn)生俯 仰方向的驅(qū)動(dòng)力，需要盡可能將2個(gè)磁體分開，同時(shí)確保跟蹤方向的可動(dòng)量。 又，為了用分開的磁體得到聚焦方向的驅(qū)動(dòng)力，需要確保磁體的寬度，會(huì)產(chǎn)生 跟蹤方向尺寸變大的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)形狀小型化的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置以及光拾 取裝置。
本發(fā)明是一種物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其特征是，含有 聚集光束的聚光部；
保持聚光部的、規(guī)定有基準(zhǔn)面的保持部；
被保持部保持的、移動(dòng)保持部使由聚光部聚光的光束的焦點(diǎn)在存儲(chǔ)信息用 的存儲(chǔ)介質(zhì)上一致的第l線圈；被保持部保持的、移動(dòng)保持部使由聚光部聚光的光束的焦點(diǎn)跟蹤形成于存 儲(chǔ)介質(zhì)上的軌跡的2個(gè)第2線圈；
被保持部保持的、傾斜保持部使聚光部根據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)的傾斜而傾斜的2個(gè) 第3線圈；
可動(dòng)地支持保持部的支持部；
能驅(qū)動(dòng)第l線圈、2個(gè)第2線圈及2個(gè)第3線圈的2個(gè)磁體；以及 支持支持部及2個(gè)磁體的基臺(tái)，
配置2個(gè)第2線圈及2個(gè)第3線圈使得形成于各線圈的面中的垂直于各線 圈軸線方向的面相對(duì)于保持部規(guī)定的基準(zhǔn)面平行并且為預(yù)定的基準(zhǔn)值以下的 距離。
而且本發(fā)明中，最好配置所述第1線圈使得形成于該第1線圈的面中垂直 于所述存儲(chǔ)介質(zhì)的存儲(chǔ)面的面與所述基準(zhǔn)面平行并且為預(yù)定的基準(zhǔn)值以下的 距離。
又，本發(fā)明中最好配置所述2個(gè)第2線圈及所述2個(gè)第3線圈使其位于相 對(duì)于使保持所述聚光部、所述第1線圈、所述2個(gè)第2線圈以及所述2個(gè)第3 線圈的所述保持部的重心位置投影于所述基準(zhǔn)面位置的對(duì)稱位置。
又，本發(fā)明中最好配置所述各第2線圈的繞組部分中與所述聚光部的光軸 方向相同方向的繞組部分中的1個(gè)繞組部分的外周面平行并且相鄰。
又，本發(fā)明中最好所述各第2線圈的繞組部分中與所述聚光部的光軸方向 相同方向的繞組部分中的1個(gè)繞組部分配置在與所述聚光部的光軸方向相同方 向的直線上。
又，本發(fā)明中最好將所述磁體中的第1磁體與第1線圈相鄰配置， 所述磁體中的與第1磁體不同的第2磁體與所述2個(gè)第2線圈及所述2個(gè)
第3線圈相鄰配置，
第l磁體與第2磁體的高度、寬度以及厚度中至少一項(xiàng)不同。
又，本發(fā)明中所述支持部最好在所述基準(zhǔn)面與所述第1線圈的面中平行于
所述基準(zhǔn)面并且處于預(yù)定基準(zhǔn)值以下距離的面的中間位置的平面與所述支持
部交叉的位置支持保持部。
又，本發(fā)明中最好還含有與所述2個(gè)第2線圈相同的2個(gè)第2線圈以及與所述2個(gè)第3線圈相同的2個(gè)第3線圈，
含有所述聚光部的光軸，垂直于所述存儲(chǔ)介質(zhì)的存儲(chǔ)面并且相對(duì)于與第2 線圈的軸線正交的平面，將4個(gè)第2線圈中的2個(gè)第2線圈及4個(gè)第3線圈中 的2個(gè)第3線圈與4個(gè)第2線圈中的另外2個(gè)線圈以及4個(gè)第3線圈中的另外 2個(gè)第3線圈對(duì)稱配置。
又，本發(fā)明中最好還含有與所述2個(gè)第2線圈相同的2個(gè)第2線圈以及與 所述2個(gè)第3線圈相同的2個(gè)第3線圈；
相對(duì)于所述聚光部的光軸，將4個(gè)第2線圈中的2個(gè)第2線圈以及4個(gè)第 3線圈中的2個(gè)第3線圈與4個(gè)第2線圈中的另外2個(gè)線圈及4個(gè)第3線圈中 的另外2個(gè)第3線圈對(duì)稱配置。
又，本發(fā)明中最好所述支持部在含有所述聚光部的光軸，垂直于所述存儲(chǔ) 介質(zhì)的存儲(chǔ)面并與第2線圈的軸線正交的平面與所述支持部交叉的位置支持所 述保持部。
又，本發(fā)明是一種光拾取裝置，其特征是，含有
所述物鏡驅(qū)動(dòng)裝置；
射出光束的光源；
使從光源射出的光束形成為平行光的光學(xué)部件；以及 使透過光學(xué)部件的光束反射到所述聚光部的方向的反射部。 若采用本發(fā)明，能夠利用聚光部聚焦光束，利用規(guī)定基準(zhǔn)面的保持部保持 聚光部，利用保持部保持的第1線圈移動(dòng)保持部，使聚光部聚光的光束的焦點(diǎn) 在存儲(chǔ)信息用的存儲(chǔ)介質(zhì)上一致，利用保持部保持的2個(gè)第2線圈移動(dòng)保持部， 使聚光部聚光的光束的焦點(diǎn)跟隨形成于存儲(chǔ)介質(zhì)上的軌跡。
而且，利用保持部保持的2個(gè)第3線圈使保持部?jī)A斜，使聚光部根據(jù)存儲(chǔ) 介質(zhì)的傾斜而傾斜，利用支持部可可動(dòng)地支持保持部，利用2個(gè)磁體能夠驅(qū)動(dòng) 第1線圈、2個(gè)第2線圈及2個(gè)第3線圈，利用基臺(tái)支持支持部及2個(gè)磁體。 又，2個(gè)第2線圈以及2個(gè)第3線圈的各線圈上形成的面中的與各線圈的軸線 方向垂直的面相對(duì)于基準(zhǔn)面平行配置而且配置于預(yù)定的基準(zhǔn)值以下的距離上。 這里的所謂線圈上形成的面是指將線圈看作平行于軸線延伸的假想的內(nèi)周面 及假想的外周面、以及在軸線方向兩端部與該軸線垂直的假想的端面形成的假想的環(huán)狀體時(shí)，形成該環(huán)狀體的面。
也就是說，2個(gè)第2線圈及2個(gè)第3線圈在與軸線方向垂直的方向上并列 配置，因此能夠減小軸線方向的尺寸。從而能夠使物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的形狀變小， 能夠使物鏡驅(qū)動(dòng)裝置小型化。
若采用本發(fā)明，利用所述物鏡驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)聚光部，由光源射出光束，利 用光學(xué)部件使從光源射出的光束成為平行光，利用反射部使透過光學(xué)部件的光 束反射到所述聚光部方向。因此，由于使用所述物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，能夠使所述物 鏡驅(qū)動(dòng)裝置的形狀變小，使得光拾取裝置小型化。


本發(fā)明的目的、特色及優(yōu)點(diǎn)通過下述詳細(xì)說明和附圖會(huì)變得更加明確。 圖1A 圖1C是表示本發(fā)明第1實(shí)施形態(tài)的致動(dòng)器的大概結(jié)構(gòu)的圖。 圖2A 圖2C是表示本發(fā)明第2實(shí)施形態(tài)的致動(dòng)器的大概結(jié)構(gòu)的圖。 圖3A 圖3C是表示本發(fā)明第3實(shí)施形態(tài)的致動(dòng)器的大概結(jié)構(gòu)的圖。 圖4A及圖4B是表示本發(fā)明一實(shí)施形態(tài)的光拾取裝置的大概結(jié)構(gòu)的圖。 圖5A 圖5C是表示第1已有技術(shù)的致動(dòng)器的結(jié)構(gòu)的圖。
具體實(shí)施例方式
以下參照附圖對(duì)本發(fā)明的合適的實(shí)施形態(tài)進(jìn)行詳細(xì)說明。
圖1A 圖1C是表示本發(fā)明第1實(shí)施形態(tài)的致動(dòng)器的大概結(jié)構(gòu)的圖。圖
1A是俯視圖，圖1B的是側(cè)面圖，圖1C是從圖1A所示的剖面線A—A看到
的剖視圖。
作為物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的致動(dòng)器2，由物鏡21、透鏡架22、底座23、磁體24、 25、傾斜線圈26、跟蹤線圈27、聚焦線圈28、彈性支持構(gòu)件29及支持構(gòu)件 33構(gòu)成。作為聚光部的物鏡21將光束聚光于存儲(chǔ)信息用的存儲(chǔ)介質(zhì)、例如光 盤11的存儲(chǔ)面上，使在存儲(chǔ)面反射的反射光為平行光。物鏡21配置于透鏡架 22的端部。
作為保持部的透鏡架22由絕緣性與高比強(qiáng)度、即具有高強(qiáng)度和低比重的 特性的高強(qiáng)度工程塑料、例如PPS (聚亞苯基硫醚)或LCP (液晶聚合物)等構(gòu)成，可以跟蹤光盤11的移動(dòng)穩(wěn)定地進(jìn)行信號(hào)讀取。透鏡架22被6個(gè)彈性支 持構(gòu)件29支持，保持物鏡21、 2個(gè)傾斜線圈26、 2個(gè)跟蹤線圈27及1個(gè)聚焦 線圈28。又，透鏡架22形成大致長(zhǎng)方體狀。在透鏡架22上規(guī)定基準(zhǔn)面30。 基準(zhǔn)面30是與透鏡架22的長(zhǎng)邊方向垂直的假想平面。
底座23需要很強(qiáng)的強(qiáng)度對(duì)抗在磁體上施加的反作用力、即電磁力，所以 由例如鐵合金等板材構(gòu)成，對(duì)支持構(gòu)件33以及磁體24、 25進(jìn)行支持。支持構(gòu) 件33固定于底座23上，支持6個(gè)彈性支持構(gòu)件29。支持構(gòu)件33使各彈性支 持構(gòu)件29獨(dú)立并導(dǎo)電，由于注入阻尼劑(夕'> t' >久'剤)使彈性支持構(gòu)件29 的共振衰減，除重量以外要求與透鏡架22相同的條件，例如，利用與透鏡架 22相同的工程塑料構(gòu)成。底座23以及支持構(gòu)件33是基臺(tái)。
磁體24是可驅(qū)動(dòng)傾斜線圈26以及跟蹤線圈27的磁體，固定于底座23。 磁體25是可驅(qū)動(dòng)聚焦線圈的磁體，固定于底座23。磁體24、 25夾著傾斜線圈 26、跟蹤線圈27以及聚焦線圈28的繞組的一部分而配置。磁體24、 25是磁 石。
作為第3線圈的傾斜線圈26使透鏡架22傾斜，使物鏡21根據(jù)光盤11的 傾斜而傾斜。具體地說，在圖1C所示的剖視圖的剖面上，在以位置32為中心 的旋轉(zhuǎn)方向上進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。以下將該旋轉(zhuǎn)方向稱為傾斜方向。
作為第2線圈的跟蹤線圈27使透鏡架22移動(dòng)，以使利用物鏡21聚光的 光束12的焦點(diǎn)跟蹤形成于光盤11上的軌跡。具體地說，在垂直于物鏡21的 光軸的平面與垂直于跟蹤線圈27的軸線的平面交叉形成的直線方向上移動(dòng)。 也就是使物鏡21在與光盤11的存儲(chǔ)面平行，并且在與彈性支持構(gòu)件29延伸 方向的垂直方向上移動(dòng)。下面將該方向稱為跟蹤方向。
作為第1線圈的聚焦線圈28使透鏡架22移動(dòng)，以使物鏡21聚光的光束 12的焦點(diǎn)在光盤11上一致。具體地說，使物鏡21向接近或遠(yuǎn)離光盤11的存 儲(chǔ)面的方向移動(dòng)。以下將該方向稱為聚焦方向。
傾斜線圈26、跟蹤線圈27以及聚焦線圈28在材料上由在例如銅合金或鋁 合金等導(dǎo)電性材料的表面上附著絕緣膜的線圈構(gòu)成，在形狀上為巻繞成例如方 形的輪狀或方形窗狀。
作為支持部的彈性支持構(gòu)件29在圖1C中，由與光盤11的存儲(chǔ)面平行且在透鏡架22左右分別配置的上中下6個(gè)彈性構(gòu)件構(gòu)成，支持透鏡架22。彈性 構(gòu)件由例如薄金屬板或金屬絲等構(gòu)成。各彈性支持構(gòu)件29的一端由阻尼劑固 定于支持構(gòu)件33。阻尼劑注入設(shè)置于支持構(gòu)件33的彈性支持構(gòu)件29的插入面 的凹部中，具有使可動(dòng)部、即透鏡架22的彈性支持構(gòu)件29引起的共振衰減的 功能。
傾斜線圈26、跟蹤線圈27以及聚焦線圈28各線圈的兩端通過彈性支持構(gòu) 件29電連接，由流向各線圈的電流以及磁體24、 25的磁力產(chǎn)生的電磁力成為 驅(qū)動(dòng)力。磁體24、 25不動(dòng)地固定于底座23，所以支持各線圈的可動(dòng)部即透鏡 架22要運(yùn)動(dòng)。
也就是說，鄰接磁體24、 25配置的傾斜線圈26、跟蹤線圈27或聚焦線圈 28上流過電流時(shí)，彈性構(gòu)件29上發(fā)生彎曲變形， 一端固定的彈性支持構(gòu)件29 的另一端的近旁所支持的透鏡架22相對(duì)于底座23在傾斜方向、跟蹤方向或聚 焦方向上可動(dòng)。
2個(gè)傾斜線圈26以及2個(gè)跟蹤線圈27的各軸線方向的至少一個(gè)的端面配 置于大致同一面上。換句話說，形成于各線圈的面中的垂直于軸線方向的面配 置為相對(duì)于基準(zhǔn)面30平行并且形成在預(yù)定的基準(zhǔn)值以下的距離上、例如O.lmm 以下。而且最好是，相對(duì)于4個(gè)線圈中的任一軸線方向厚度最大的線圈，其余 的線圈配置得不在厚度方向上露出。
利用如上所述的方法，能夠減小彈性支持構(gòu)件29延伸的方向的尺寸，能 夠使致動(dòng)器2小型化。
這樣利用物鏡21聚集光束，利用透鏡架22保持物鏡21，利用以透鏡架 22保持的聚焦線圈28移動(dòng)透鏡架22，使通過物鏡21聚光的光束12的焦點(diǎn)在 存儲(chǔ)信息用的光盤上一致，利用被透鏡架22保持的2個(gè)跟蹤線圈27使通過物 鏡21聚光的光束12的焦點(diǎn)跟隨形成于光盤11的軌跡。
而且，利用被透鏡架22保持的2個(gè)傾斜線圈26使透鏡架22傾斜，使物 鏡21根據(jù)光盤11的傾斜而傾斜，利用彈性支持構(gòu)件29可動(dòng)地支持透鏡架22， 利用2個(gè)磁體24、25能驅(qū)動(dòng)聚焦線圈28、2個(gè)跟蹤線圈27及2個(gè)傾斜線圈26， 利用底座23以及支持構(gòu)件33支持彈性支持構(gòu)件29及2個(gè)磁體24、 25。又，2 個(gè)跟蹤線圈27及2個(gè)傾斜線圈26配置為在各線圈上形成的面中的與各線圈的軸線方向垂直的面相對(duì)于基準(zhǔn)面30平行并且形成預(yù)定的基準(zhǔn)值以下的距離。
即2個(gè)跟蹤線圈27和2個(gè)傾斜線圈26在與軸線方向垂直的方向上并列配 置，因此能夠縮小軸線方向的尺寸。從而能夠使致動(dòng)器2的形狀變小，使得致 動(dòng)器2小型化。
傾斜線圈26以及跟蹤線圈27各軸線方向的端面配置于大致同一面上的該 大致同一面，與聚焦線圈28的相對(duì)于光盤11的旋轉(zhuǎn)方向大致垂直的面配置為 鄰接平行或配置于大致同一面上。換句話說，聚焦線圈28配置為形成于聚 焦線圈28上的面中與光盤11的存儲(chǔ)面垂直的面相對(duì)于2個(gè)傾斜線圈26以及 跟蹤線圈27，與所述基準(zhǔn)面30平行并且形成于預(yù)定的基準(zhǔn)值以下的距離上。
因此，聚焦線圈28相對(duì)于傾斜線圈26以及跟蹤線圈27配置于與跟蹤方 向正交的方向，所以能夠使跟蹤方向的尺寸減小。
這樣，聚焦線圈28配置為形成于聚焦線圈28上的面中垂直于光盤11 的存儲(chǔ)面的面與基準(zhǔn)面30平行并且形成于預(yù)定的基準(zhǔn)值以下的距離上。即聚 焦線圈28相對(duì)于傾斜線圈26以及跟蹤線圈27，配置在與跟蹤方向正交的方向 上，所以能夠減小跟蹤方向的尺寸。
2個(gè)傾斜線圈26及2個(gè)跟蹤線圈27配置于相對(duì)使透鏡架22的重心位置投 影于配置這些線圈的所述大致同一面上的位置32形成對(duì)稱的位置上。透鏡架 22的重心位置是保持物鏡21、 2個(gè)傾斜線圈26、 2個(gè)跟蹤線圈27以及1個(gè)聚 焦線圈28的透鏡架22的重心位置。
換句話說，2個(gè)傾斜線圈26以及2個(gè)跟蹤線圈27配置于相對(duì)于將透鏡架 22的重心位置投影在所述基準(zhǔn)面30上的位置32形成對(duì)稱的位置上。因此，由 于2個(gè)傾斜線圈26配置在離開重心位置的位置上，所以能夠以較小的驅(qū)動(dòng)力 修正傾斜方向，能夠節(jié)省電力。
這樣，2個(gè)跟蹤線圈27以及2個(gè)傾斜線圈26配置在相對(duì)于將保持物鏡21、 聚焦線圈28、 2個(gè)跟蹤線圈27及2個(gè)傾斜線圈26的透鏡架22的重心位置投 影于所述基準(zhǔn)面30的位置32對(duì)稱的位置。因此，由于2個(gè)傾斜線圈配置于離 開重心位置的位置上，所以能夠以較小的驅(qū)動(dòng)力修正傾斜方向，能夠節(jié)省電力。
與通過跟蹤線圈27的物鏡21的光束12成大致相同方向的相互相對(duì)的繞 組部分，與將光束12復(fù)制于所述大致同一面上的直線平行并且相互鄰接，配置在所述大致同一面上。換句話說，各跟蹤線圈27的繞組部分中與物鏡21的
光軸方向相同方向的繞組部分中的1個(gè)繞組部分的外周面平行并且相互鄰接。
因此能夠抑制向跟蹤方向移動(dòng)時(shí)物鏡21的傾斜。
驅(qū)動(dòng)各線圈的電磁力由"磁體的磁通密度"與"流過線圈的電流"以及"磁 場(chǎng)中的線圈長(zhǎng)度"的乘積決定。根據(jù)各個(gè)線圈需要的電磁力將"磁體的磁通密 度"與"流過線圈的電流"以及"磁場(chǎng)中的線圈長(zhǎng)度"設(shè)定為必要的最低限度 的值，但是"磁體的磁通密度"取決于材料以及厚度等，"磁場(chǎng)中的線圈長(zhǎng)度" 取決于磁體的尺寸即高度和寬度，而且取決于線圈巻繞匝數(shù)等。
也有利用調(diào)整線圈的巻繞匝數(shù)調(diào)整電磁力的方法，但是會(huì)出現(xiàn)由于電阻值 減小而導(dǎo)致消耗電流增加、及由于重量變化可動(dòng)部偏離平衡引起重心一致等問 題。又由于通過變更磁體材料調(diào)整磁通密度有困難，因此通常利用調(diào)整磁體尺 寸即高度、寬度以及厚度進(jìn)行電磁力的調(diào)整。
磁體24以及磁體25的高度、寬度及厚度至少一項(xiàng)是不同的。因此，不必 使磁體24和磁體25統(tǒng)一為相同大小，相對(duì)于聚焦線圈28、跟蹤線圈27以及 傾斜線圈26，能夠形成為了對(duì)各線圈賦予必要的驅(qū)動(dòng)力所需要的最低限度的磁 體的尺寸，使得謀求小型化成為可能。
這樣，磁體24、磁體25中的磁體25與聚焦線圈28相鄰配置，磁體24、 25中的與磁體25不同的磁體24與2個(gè)跟蹤線圈27以及2個(gè)傾斜線圈26相鄰 配置，由于與磁體24、 25的高度、寬度、厚度中至少一項(xiàng)不同，所以相對(duì)于 聚焦線圈28、跟蹤線圈27以及傾斜線圈26，能夠形成為了對(duì)各線圈賦予必要 的驅(qū)動(dòng)力所需要的最低限度的磁體的尺寸，使得謀求小型化成為可能。
可驅(qū)動(dòng)地支持透鏡架22的彈性支持構(gòu)件29在從中間位置31投影的位置 上支持透鏡架22，該中間位置31是配置傾斜線圈26以及跟蹤線圈27的所述 大致同一面、以及與聚焦線圈28的與光盤11的旋轉(zhuǎn)方向大致垂直的面相鄰平 行或大致同一面的中間位置。
換句話說，彈性支持構(gòu)件29在所述基準(zhǔn)面30與聚焦線圈28的面中的與 該基準(zhǔn)面30平行并且位于預(yù)定的基準(zhǔn)值以下的距離上的面之間的中間位置上 的平面與彈性支持構(gòu)件29交叉的位置上支持透鏡架22。因此，能夠通過抵消 抑制向跟蹤方向移動(dòng)時(shí)產(chǎn)生的力距。這樣，利用彈性支持構(gòu)件29，在所述基準(zhǔn)面30與聚焦線圈28的面中與基 準(zhǔn)面30平行并且位于預(yù)定的基準(zhǔn)值以下的距離上的面之間的中間位置上的平 面與彈性支持構(gòu)件29交叉的位置上，支持透鏡架22，因此，能夠通過抵消抑 制向跟蹤方向移動(dòng)時(shí)產(chǎn)生的力距。
圖2A 圖2C是表示本發(fā)明第2實(shí)施形態(tài)的致動(dòng)器4的大概結(jié)構(gòu)的圖。圖 2A是俯視圖、圖2B是側(cè)面圖、圖2C是從圖2A所示的剖面線B—B看的剖 視圖。
作為物鏡驅(qū)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置的致動(dòng)器4由物鏡41、透鏡架42、底座43、磁體 44、 45、傾斜線圈46、跟蹤線圈47、聚焦線圈48、彈性支持構(gòu)件49以及支持 構(gòu)件53構(gòu)成。
物鏡41、透鏡架42、底座43、磁體44、 45、聚焦線圈48、彈性支持構(gòu)件 49及支持構(gòu)件53分別與圖1A 圖1C所示的物鏡21、透鏡架22、底座23、 磁體24、 25、聚焦線圈28、彈性支持構(gòu)件29及支持構(gòu)件33相同，為避免重 復(fù)，省略其說明。
除了傾斜線圈46和跟蹤線圈47的位置關(guān)系外，傾斜線圈46以及跟蹤線 圈47與圖1A 圖1C所示的傾斜線圈26和跟蹤線圈27相同，省略重復(fù)部分 的說明。
跟蹤線圈47的與通過物鏡41的光束12大致相同方向的相互相對(duì)的繞組 部分配置于與將光束12投影于所述大致同一面上的直線上的大致同一直線上。 換句話說，各跟蹤線圈47的繞組部分中與物鏡41的光軸方向相同方向的繞組 部分中的1個(gè)繞組部分配置于與物鏡41的光軸方向相同方向的直線上。
即圖1A 圖1C所示的傾斜線圈26以及跟蹤線圈27，各跟蹤線圈27的 繞組部分中與物鏡21的光軸方向相同方向的繞組部分中的1個(gè)繞組部分的外 周面平行并且相鄰配置，但傾斜線圈46以及跟蹤線圈47的各傾斜線圈47的 繞組部分中與物鏡41的光軸方向相同方向的繞組部分中的1個(gè)繞組部分配置 于與物鏡41的光軸方向相同方向的直線上。
因此，能夠在向跟蹤方向移動(dòng)時(shí)抑制物鏡41的傾斜。
這樣，各跟蹤線圈47的繞組部分中與物鏡41的光軸方向相同方向的巻線 部分中的1個(gè)繞組部分配置于與物鏡41的光軸方向相同方向的直線上，因此能夠在向跟蹤方向移動(dòng)時(shí)抑制物鏡41的傾斜。
致動(dòng)器4的其他效果與致動(dòng)器2的效果相同。
圖3A 圖3C是表示本發(fā)明第3實(shí)施形態(tài)的致動(dòng)器6的大概結(jié)構(gòu)的圖。圖 3A為俯視圖，圖3B為側(cè)面圖，圖3C為從圖3A所示的剖面線C一C看的剖 視圖。
作為物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的致動(dòng)器6由物鏡61、透鏡架62、底座63、磁體64、 65、聚焦線圈68、彈性支持構(gòu)件69以及支持構(gòu)件73構(gòu)成。
物鏡61、透鏡架62、底座63、磁體64、傾斜線圈66、跟蹤線圈67、聚 焦線圈68、彈性支持構(gòu)件69及支持構(gòu)件53各構(gòu)成要素分別與圖1A 圖1C 所示的物鏡21、透鏡架22、底座23、磁體24、傾斜線圈26、跟蹤線圈27、 聚焦線圈28、彈性支持構(gòu)件29以及支持構(gòu)件33這些構(gòu)成要素相同，為避免重 復(fù)，省略其說明。又，在透鏡架62規(guī)定2個(gè)基準(zhǔn)面70a、 70b。 2個(gè)基準(zhǔn)面70a、 70b是垂直于透鏡架62的長(zhǎng)邊方向并且在透鏡架62的長(zhǎng)邊方向上相互保持間 隔配置的假想平面。
圖1A 圖1C所示的物鏡21配置于透鏡架22的端部，物鏡61配置于透 鏡架62的中央部，即聚焦線圈68的聚焦方向的位置上。
磁體64、傾斜線圈66以及跟蹤線圈67由2個(gè)磁體64、 4個(gè)傾斜線圈66 以及4個(gè)跟蹤線圈67構(gòu)成。即含有2組圖1A 圖1C所示的1個(gè)磁體24、 2 個(gè)傾斜線圈26及2個(gè)跟蹤線圈27。 2個(gè)磁體64相當(dāng)于圖1A 圖1C所示的磁 體24及磁體25。
2組中的第1組相對(duì)于聚焦線圈68配置于與圖1A 圖1C所示的磁體24、 傾斜線圈26及跟蹤線圈27相同的位置，與第1組不同的第2組包含物鏡61 的光軸，垂直于光盤11的存儲(chǔ)面，并且相對(duì)于跟蹤方向的平面，配置于與第1 組成形成對(duì)稱的位置上。因此在跟蹤方向的驅(qū)動(dòng)力需要變大的情況下，可以不 擴(kuò)大致動(dòng)器厚度方向的尺寸進(jìn)行應(yīng)對(duì)。
這樣，將含有與2個(gè)跟蹤線圈67相同的2個(gè)跟蹤線圈67以及與2個(gè)傾斜 線圈66相同的2個(gè)傾斜線圈66、含有物鏡61的光軸、垂直于光盤11的存儲(chǔ) 面且相對(duì)于與第2線圈的軸線正交的平面的4個(gè)跟蹤線圈67中的2個(gè)跟蹤線 圈67以逸4個(gè)傾斜線圈66中的2個(gè)傾斜線圈66配置為與4個(gè)跟蹤線圈67中的另外2個(gè)跟蹤線圈67以及4個(gè)傾斜線圈66中的另外2個(gè)傾斜線圈66對(duì)稱。 因此在跟蹤方向的驅(qū)動(dòng)力需要變大的情況下，可以不擴(kuò)大致動(dòng)器6的厚度方向 的尺寸進(jìn)行應(yīng)對(duì)。
或者，第2組相對(duì)于物鏡61的光軸，配置于與第1組對(duì)稱的位置上。從 而，在跟蹤方向的驅(qū)動(dòng)力需要加大的情況下，可以不擴(kuò)大致動(dòng)器的厚度方向的 尺寸進(jìn)行應(yīng)對(duì)。
這樣，含有與2個(gè)跟蹤線圈67相同的2個(gè)跟蹤線圈67以及與2個(gè)傾斜線 圈66相同的2個(gè)傾斜線圈66、相對(duì)于物鏡61的光軸，將4個(gè)跟蹤線圈67中 的2個(gè)跟蹤線圈67以及4個(gè)傾斜線圈66中的2個(gè)傾斜線圈66與4個(gè)跟蹤線 圈67中的另外2個(gè)跟蹤線圈67以及4個(gè)傾斜線圈66中的另外2個(gè)傾斜線圈 66對(duì)稱配置。因此在跟蹤方向的驅(qū)動(dòng)力需要加大的情況下，可以不擴(kuò)大厚度方 向的尺寸進(jìn)行應(yīng)對(duì)。
2個(gè)傾斜線圈66以及2個(gè)跟蹤線圈67配置為，相對(duì)于將透鏡架62的重心 位置投影于配置這些線圈的上述大致同一面上的位置72對(duì)稱。透鏡架62的重 心位置是保持物鏡61、 2個(gè)傾斜線圈66、 2個(gè)跟蹤線圈67以及1個(gè)聚焦線圈 68的透鏡架62的重心位置。
換句話說，2個(gè)傾斜線圈66以及2個(gè)跟蹤線圈67配置在相對(duì)于將透鏡架 62的重心位置投影于所示基準(zhǔn)面70a、70b上的位置72成對(duì)稱的位置上。從而， 2個(gè)傾斜線圈66配置于偏離重心位置的位置上，所以能夠以較小驅(qū)動(dòng)力在傾斜 方向進(jìn)行修正，能夠節(jié)省電力。
可驅(qū)動(dòng)地支持透鏡架62的彈性支持構(gòu)件69的支持位置，是將相對(duì)于光盤 11的旋轉(zhuǎn)方向大致垂直的面與物鏡61的光軸交叉的位置71投影于物鏡62的 側(cè)面上的位置。換句話說，彈性支持構(gòu)件69在包含物鏡61的光軸，垂直于光 盤11的存儲(chǔ)面，并且是跟蹤方向的平面與彈性支持構(gòu)件69交叉的位置上支持 透鏡架62。因此，能夠抑制在跟蹤方向移動(dòng)時(shí)產(chǎn)生的力距。
這樣，借助于彈性支持構(gòu)件69，在包含物鏡61的光軸、垂直于光盤11 的存儲(chǔ)面而且與跟蹤線圈67的軸線正交的平面與彈性支持構(gòu)件69交叉的位置 上支持透鏡架62，因此，能夠抑制在跟蹤方向移動(dòng)時(shí)產(chǎn)生的力距。
省略致動(dòng)器6的其他重復(fù)部分的說明。致動(dòng)器6的其他效果與致動(dòng)器2的效果相同。
圖4A以及圖4B是表示本發(fā)明一實(shí)施形態(tài)的光拾取裝置1的大概結(jié)構(gòu)的 圖。圖4A是俯視圖，圖4B是側(cè)面圖。光拾取裝置1由致動(dòng)器2、激光光源 15、準(zhǔn)直透鏡16以及調(diào)試?yán)忡R17構(gòu)成。
致動(dòng)器2是圖1A 圖1C所示的致動(dòng)器，也可以用圖2A 圖2C所示的致 動(dòng)器4或圖3A 圖3C所示的致動(dòng)器6代替致動(dòng)器2。作為光源的激光光源15 射出光束。作為光學(xué)部件的準(zhǔn)直透鏡使從激光光源15射出的光束成為平行光。 作為反射板的調(diào)試?yán)忡R17將透過準(zhǔn)直透鏡的平行光的光束反射到物鏡21的方 向上。
這樣，利用致動(dòng)器2驅(qū)動(dòng)物鏡21，利用激光光源15射出光束，利用準(zhǔn)直 透鏡16使從激光光源15射出的光束成為平行光，利用調(diào)試?yán)忡R17使透過準(zhǔn) 直透鏡16的光束反射到物鏡21的方向。因此，由于使用致動(dòng)器2，能夠縮小 致動(dòng)器2的形狀，能夠使光拾取裝置1小型化。
本發(fā)明在不脫離其精神或主要特征情況下，能夠以其他各種實(shí)施形態(tài)實(shí) 施。因此，上述實(shí)施形態(tài)的所有點(diǎn)不過是示例，本發(fā)明的范圍是權(quán)利要求書所 述的范圍，不受說明書正文的任何約束。屬于權(quán)利要求書的范圍的變形和變更 也全都是本發(fā)明的范圍。
權(quán)利要求
1. 一種物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，含有聚集光束的聚光部；保持聚光部的、規(guī)定有基準(zhǔn)面的保持部；被保持部保持的、移動(dòng)保持部使由聚光部聚光的光束的焦點(diǎn)在存儲(chǔ)信息用的存儲(chǔ)介質(zhì)上一致的第1線圈；被保持部保持的、移動(dòng)保持部使由聚光部聚光的光束的焦點(diǎn)跟蹤形成于存儲(chǔ)介質(zhì)上的軌跡的2個(gè)第2線圈；被保持部保持的、傾斜保持部使聚光部根據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)的傾斜而傾斜的2個(gè)第3線圈；可動(dòng)地支持保持部的支持部；能驅(qū)動(dòng)第1線圈、2個(gè)第2線圈及2個(gè)第3線圈的2個(gè)磁體；以及支持支持部及2個(gè)磁體的基臺(tái)，配置2個(gè)第2線圈及2個(gè)第3線圈使得形成于各線圈的面中的垂直于各線圈軸線方向的面相對(duì)于保持部規(guī)定的基準(zhǔn)面平行并且為預(yù)定的基準(zhǔn)值以下的距離。
2. 權(quán)利要求1所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，配置所述第1線圈使 得形成于該第1線圈的面中垂直于所述存儲(chǔ)介質(zhì)的存儲(chǔ)面的面與所述基準(zhǔn)面平 行并且為預(yù)定的基準(zhǔn)值以下的距離。
3. 權(quán)利要求2所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，配置所述2個(gè)第2線 圈及所述2個(gè)第3線圈使其位于相對(duì)于使保持所述聚光部、所述第1線圈、所 述2個(gè)第2線圈以及所述2個(gè)第3線圈的所述保持部的重心位置投影于所述基 準(zhǔn)面位置的對(duì)稱位置。
4. 權(quán)利要求1所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，所述各第2線圈的繞 組部分中與所述聚光部的光軸方向相同方向的繞組部分中的l個(gè)繞組部分的外 周面平行并且相鄰。
5. 權(quán)利要求1所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，所述各第2線圈的繞 組部分中與所述聚光部的光軸方向相同方向的繞組部分中的l個(gè)繞組部分配置在與所述聚光部的光軸方向相同方向的直線上。
6. 權(quán)利要求l所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于， 所述磁體中的第1磁體與第1線圈相鄰配置，與所述磁體中的第1磁體不同的第2磁體與所述2個(gè)第2線圈及所述2個(gè) 第3線圈相鄰配置，第1磁體與第2磁體的在高度、寬度以及厚度中至少一項(xiàng)不同。
7. 權(quán)利要求2所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，所述支持部在所述基 準(zhǔn)面與所述第1線圈的面中平行于所述基準(zhǔn)面并且處于預(yù)定基準(zhǔn)值以下距離的 面的中間位置的平面與所述支持部交叉的位置支持保持部。
8. 權(quán)利要求1所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，還含有與所述2個(gè)第2線圈相同的2個(gè)第2線圈以及與所述2個(gè)第3線圈 相同的2個(gè)第3線圈，含有所述聚光部的光軸，垂直于所述存儲(chǔ)介質(zhì)的存儲(chǔ)面，并且相對(duì)于與第 2線圈的軸線正交的平面，將4個(gè)第2線圈中的2個(gè)第2線圈及4個(gè)第3線圈 中的2個(gè)第3線圈與4個(gè)第2線圈中的另外2個(gè)線圈以及4個(gè)第3線圈中的另 外2個(gè)第3線圈對(duì)稱配置。
9. 權(quán)利要求l所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，還含有與所述2個(gè)第2線圈相同的2個(gè)第2線圈以及與所述2個(gè)第3線圈 相同的2個(gè)第3線圈；相對(duì)于所述聚光部的光軸，將4個(gè)第2線圈中的2個(gè)第2線圈以及4個(gè)第 3線圈中的2個(gè)第3線圈與4個(gè)第2線圈中的另外2個(gè)第2線圈及4個(gè)第3線 圈中的另外2個(gè)第3線圈對(duì)稱配置。
10. 權(quán)利要求8所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，所述支持部在含有所 述聚光部的光軸，垂直于所述存儲(chǔ)介質(zhì)的存儲(chǔ)面并與第2線圈的軸線正交的平 面與所述支持部交叉的位置支持所述保持部。
11. 一種光拾取裝置，其特征在于，含有 如權(quán)利要求1所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置； 射出光束的光源；使從光源射出的光束形成為平行光的光學(xué)部件；以及使透過光學(xué)部件的光束反射到所述聚光部的方向的反射部。
全文摘要
本發(fā)明提供能夠縮小形狀的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置及光拾取裝置。2個(gè)傾斜線圈(26)以及2個(gè)跟蹤線圈(27)配置為形成于各線圈的面中與繞組方向垂直的面與在透鏡架(22)規(guī)定的基準(zhǔn)面(30)平行并與其形成預(yù)定的基準(zhǔn)值以下的距離，且位于相對(duì)透鏡架(22)的重心位置對(duì)稱的位置上。聚焦線圈(28)配置為形成于聚焦線圈(28)的面中與光盤(11)的存儲(chǔ)面垂直的面相對(duì)于2個(gè)傾斜線圈(26)及2個(gè)跟蹤線圈(27)，與所述基準(zhǔn)面(30)平行且為預(yù)定的基準(zhǔn)值以下的距離。
文檔編號(hào)G11B7/095GK101425304SQ200810174318
公開日2009年5月6日 申請(qǐng)日期2008年10月29日 優(yōu)先權(quán)日2007年10月31日
發(fā)明者佐古真一 申請(qǐng)人:夏普株式會(huì)社