專利名稱：盤片裝填滾子的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用來將由音響設(shè)備、信息設(shè)備、影像設(shè)備等使用的CD、LD、DVD等光盤或光磁盤等盤片向各設(shè)備內(nèi)進行傳送的盤片裝填滾子，設(shè)法做到不發(fā)生因附著于盤片上的塵埃、特別是砂塵等而不能滑動并裝填、彈出的情況。
背景技術(shù)：
以往以來，為了將CD、LD、DVD等光盤或光磁盤等置于裝置內(nèi)的轉(zhuǎn)盤上，一般使用相對的一對裝填滾子。例如圖25所示，在裝填滾子1的中心上軸2在貫穿狀態(tài)下進行設(shè)置，與之相對設(shè)置同樣的裝填滾子，并且旋轉(zhuǎn)驅(qū)動某一個。另外，裝填滾子1具有從軸方向兩個端部朝向中央其直徑逐漸變小的形狀，要裝填的盤片3只在其邊緣部上被裝填滾子1所支持，并確定中心。
若在這種一對裝填滾子1之間插入了盤片3，則旋轉(zhuǎn)驅(qū)動某一個裝填滾子1，盤片3挾于一對裝填滾子1內(nèi)向裝置內(nèi)部進行傳送。然后，若盤片3的前端碰到了里面的障礙物，則停止盤片3的移動及裝填滾子1的旋轉(zhuǎn)，只有軸2進行空轉(zhuǎn)，盤片3被置于轉(zhuǎn)盤上。
另外，還有一種裝置取代使用一對裝填滾子1，而如圖26所示，在樹脂制板狀材料4和同樣的盤片裝填滾子1之間插入盤片3。
但是，這種裝填滾子存在下述這樣的問題，即附著于盤片3上的塵埃、特別是砂塵轉(zhuǎn)印于滾子表面上，若長期使用下去，則在滾子表面上堆積，傳送盤片時的傳送轉(zhuǎn)矩變得不足。
因此，本發(fā)明人等提出過一種裝填滾子，該裝填滾子的外圓面由采用模具所形成的凹凸面構(gòu)成，并且凹凸面的十點平均粗糙度Rz平均值為0.5～10μm，Sm的平均值小于15μm(參見專利文獻1)。
但是，還有下述這樣的問題，即雖然在粉塵的量比較少時長期發(fā)揮效果，但是在粉塵的量非常多或者使用了很長時間時，效果卻不充分。
專利文獻1專利第3627866號(權(quán)利要求等)發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明鑒于這種情況，其目的是提供一種盤片裝填滾子，該盤片裝填滾予即便在粉塵的量非常多時或使用了很長時間時傳送力也不顯著下降而能夠可靠進行裝填、彈出。
為了實現(xiàn)上述目的的第1方式的盤片裝填滾子，由下述橡膠彈性體構(gòu)成，并搭接于盤片的邊緣部上來裝填該盤片，該橡膠彈性體具有外徑在軸方向的范圍內(nèi)產(chǎn)生變化的外圓面，并且采用模具來形成；其特征在于，上述滾子的外圓面由凹凸面構(gòu)成，在以測量倍率400倍來測量該凹凸面時，每700μm的高峰數(shù)RPc的平均值是2～30，最大低谷深度Rv的平均值是35～80μm，算術(shù)平均粗糙度Ra的平均值是2.5～5.5μm。
本發(fā)明的第2方式是根據(jù)第1方式所述的盤片裝填滾子，其特征在于，以測量倍率400倍來測量上述凹凸面時二次平均平方根高度Rq的平均值是3.5～10.0μm。
本發(fā)明的第3方式是根據(jù)第1或2方式所述的盤片裝填滾子，其特征在于，上述橡膠彈性體的橡膠強度根據(jù)JIS A是20～90°。
發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，得到一種盤片裝填滾子，該盤片裝填滾子即便在粉塵的量非常多時或使用了很長時間時傳送力也不顯著下降，能夠可靠進行裝填、彈出。


圖1是表示本發(fā)明的盤片裝填滾予及以往技術(shù)所涉及的盤片裝填滾子的截面形狀例的模式圖。
圖2是說明高峰數(shù)RPc的附圖。
圖3是表示本發(fā)明的盤片裝填滾子及以往技術(shù)所涉及的盤片裝填滾子盤片傳送狀態(tài)的模式圖。
圖4是表示試驗例1結(jié)果的附圖。
圖5是表示試驗例1結(jié)果的附圖。
圖6是表示試驗例1結(jié)果的附圖。
圖7是表示試驗例1結(jié)果的附圖。
圖8是表示試驗例1結(jié)果的附圖。
圖9是表示試驗例1結(jié)果的附圖。
圖10是表示試驗例1結(jié)果的附圖。
圖11是表示試驗例1結(jié)果的附圖。
圖12是以倍率400倍來觀察實施例1的表面狀態(tài)時的照片。
圖13是以倍率400倍來觀察實施例4的表面狀態(tài)時的照片。
圖14是以倍率400倍來觀察比較例1的表面狀態(tài)時的照片。
圖15是以倍率400倍來觀察比較例2的表面狀態(tài)時的照片。
圖16是以倍率3000倍來觀察實施例1的表面狀態(tài)時的照片。
圖17是以倍率3000倍來觀察實施例4的表面狀態(tài)時的照片。
圖18是以倍率3000倍來觀察比較例1的表面狀態(tài)時的照片。
圖19是以倍率3000倍來觀察比較例2的表面狀態(tài)時的照片。
圖20是表示實施例4的各倍率中最大低谷深度Rv的測量結(jié)果的附圖。
圖21是表示實施例4的各倍率中算術(shù)平均粗糙度Ra的測量結(jié)果的附圖。
圖22是表示實施例4的各倍率中二次平均平方根高度Rq的測量結(jié)果的附圖。
圖23是表示試驗例3結(jié)果的附圖。
圖24是表示試驗例3結(jié)果的附圖。
圖25是表示盤片裝填滾子使用狀態(tài)的附圖。
圖26是表示盤片裝填滾子使用狀態(tài)的附圖。
符號說明10盤片裝填滾子11凹凸面21粉塵30盤片具體實施方式
本發(fā)明的盤片裝填滾子制成外圓面的凹凸比較大的指定凹凸面。通過將外圓面制為比較大的凹凸面，即使因在粉塵的量非常多的環(huán)境下使用或者使用了很長時間而附著大量的粉塵，也由于使之落進比較大的凹部內(nèi)，因而能防止凹凸面上傳送力的下降。也就是說，本發(fā)明的盤片裝填滾子因為與以往的凹凸面相比接受粉塵的凹部較大，所以即便附著了粉塵也在較長期間內(nèi)不出現(xiàn)傳送力下降的情況。
本發(fā)明盤片裝填滾子的凹凸面在測量倍率400倍的測量中，每700μm的高峰數(shù)RPc的平均值是2～30，最大低谷深度Rv的平均值是35～80μm，算術(shù)平均粗糙度Ra的平均值是2.5～5.5μm。還有，不論哪一個例如都可以在表面形狀測量顯微鏡下進行測量。
首先，對于將測量倍率設(shè)為400倍的原因，采用圖1進行說明。圖1是表示本發(fā)明的盤片裝填滾子及以往技術(shù)中所舉出的專利文獻1的盤片裝填滾子(下面，稱為以往的盤片裝填滾子)截面形狀例的模式圖。圖1(a)是本發(fā)明的盤片裝填滾子，圖1(b)是以往的盤片裝填滾子。以往的盤片裝填滾子如圖1(b)所示，凹凸比較小，能夠以倍率3000倍捕捉凹凸整體，與此相對，本發(fā)明的盤片裝填滾子如圖1(a)所示，由于具有比較大的凹凸，因而若以倍率3000倍進行測量，則只能捕捉凹凸的極少一部分。因而，本發(fā)明的盤片裝填滾子不能用在倍率3000倍的測量中所確定的數(shù)值進行規(guī)定，并且和以往按各種各樣的表面粗糙度做出過規(guī)定的盤片裝填滾子完全不同。還有，本發(fā)明的盤片裝填滾子能夠最適宜以測量倍率400倍判斷凹凸面。因此，若以其他的倍率進行觀察，則測量值的岐散值增大。
這里，使用圖2對于高峰數(shù)RPc進行說明。為了將本發(fā)明的盤片裝填滾子和以往的盤片裝填滾子相區(qū)別所采用的高峰數(shù)RPc可以在表面形狀測量顯微鏡(例如，KEYENCE公司制的超深度形狀測量裝置)下進行測量，并且如下進行定義。
如圖2所示，在粗糙度曲線的平均線兩側(cè)設(shè)置相同寬度的不靈敏區(qū)51a及不靈敏區(qū)51b。合并不靈敏區(qū)51a和不靈敏區(qū)51b后的區(qū)域是不靈敏區(qū)寬度51。從該不靈敏區(qū)寬度51下面出來的地方，到在不靈敏區(qū)寬度51之上出來一次之后再次從不靈敏區(qū)寬度51向下出來的地方為止，成為一個高峰。從粗糙度曲線按其平均線的方向只抽取基準長度(L)，該抽取部分上高峰的數(shù)量是高峰數(shù)RPc。還有，本發(fā)明所涉及的高峰數(shù)RPc是將基準長度(L)設(shè)為700μm并將不靈敏區(qū)寬度設(shè)為5％時的值。
本發(fā)明盤片裝填滾子的凹凸面以測量倍率400倍測量時每700μm的高峰數(shù)RPc的平均值是2～30，優(yōu)選的是8～19。因此，和高峰數(shù)RPc的平均值比30大的專利文獻1的盤片裝填滾子相區(qū)別。本發(fā)明的盤片裝填滾子與以往的盤片裝填滾子相比，高峰數(shù)RPc較少。也就是說，凹部或凸部平均線方向的寬度較大。還有，這里所說的平均值是指，測量了凹凸面的數(shù)個部位如5個部位以上時的均值(下面，有關(guān)平均值是相同的)。
另外，本發(fā)明的盤片裝填滾子其凹凸面的最大低谷深度Rv的平均值是35～80μm，并且凹凸面的算術(shù)平均粗糙度Ra的平均值是2.5～5.5μm。還有，最大低谷深度Rv及算術(shù)平均粗糙度Ra是依據(jù)JISB0601-2001求取的。
最大低谷深度Rv從粗糙度曲線按其平均線的方向只抽取基準長度(L)，并且在該抽取部分的粗糙度曲線之中表示最深的低谷深度。還有，低谷指的是，處于平均線之下的部分。本發(fā)明的盤片裝填滾子其最大低谷深度Rv的平均值是35～80μm，優(yōu)選的是39～62μm。如果最大低谷深度Rv的平均值大于35μm，就成為保持落入粉塵所需足夠深度的凹部。另外，只要最大低谷深度Rv的平均值小于200μm，就沒有凹凸的高度或深度變得過大并在裝填特性上出現(xiàn)問題這樣的擔心，并且制造也較為容易，而如果小于80μm則成為最佳的盤片裝填滾子，因此規(guī)定為小于80μm。
另外，算術(shù)平均粗糙度Ra的平均值從粗糙度曲線按其平均線的方向只抽取基準長度(L)，表示該抽取部分粗糙度曲線絕對值的均值。本發(fā)明的盤片裝填滾子其算術(shù)平均粗糙度Ra的平均值是2.5～5.5μm，優(yōu)選的是2.6～5.3μm。因為Ra的平均值大于2.5μm，所以平均上具有粗糙度，成為保持落入粉塵所需足夠大小的凹凸面。另一方面，若Ra的平均值變得比5.5μm大，則在裝填特性的方面成為問題，并且制造變得非常困難。
因為全部滿足上述的值，所以成為與以往的凹凸面相比寬度較寬且有深度的凹凸面，也就是說具有落入大量粉塵所需足夠的體積。本發(fā)明的盤片裝填滾子因為全部滿足上述的值，并且即便在表面上附著大量的粉塵也落入較大的凹部中，所以能防止傳送力的下降。
另外，本發(fā)明的盤片裝填滾子優(yōu)選的是，在以測量倍率400倍來測量凹凸面時，凹凸面的二次平均平方根高度Rq的平均值是3.5～10.0μm，更為優(yōu)選的是4.1～7.7μm。所謂的二次平均平方根高度Rq是指，從粗糙度曲線按其平均線的方向只抽取基準長度(L)，表示該抽取部分上的二次平均平方根。因為二次平均平方根高度Rq的平均值該范圍，所以成為落入粉塵所需足夠大小的凹凸面。而且，二次平均平方高度Rq是依據(jù)JIS B0601-2001標準可求出的。
再者，優(yōu)選的是，此凹凸面的最大高度Rz的平均值是85～220μm，更為優(yōu)選的是100～150μm。最大高度Rz根據(jù)JIS B0601-2001是測量倍率400倍時的值。另外，最大高度Rz是從粗糙度曲線按其平均線的方向只抽取基準長度(L)，并求取該抽取部分上最高的高峰高度和最深的低谷深度之和來表示的。因為最大高度Rz在該范圍內(nèi)，所以成為有高度的凹凸面。
這里，使用圖3來說明本發(fā)明的盤片裝填滾子及以往技術(shù)所涉及的盤片裝填滾子的盤片傳送狀態(tài)。本發(fā)明所涉及的圖3(a)是表示盤片裝填滾子10盤片傳送狀態(tài)的模式圖，另外圖3(b)是表示以往盤片裝填滾子01盤片傳送狀態(tài)的模式圖。如圖3(a)所示，附著于盤片裝填滾子10表面上的粉塵21擦過盤片30并而進入凹凸面11的凹部11A內(nèi)，致使盤片裝填滾子10的表面和盤片30進行直接接觸，總是能得到足夠的傳送力。這一點在圖3(b)的情況下也相同，附著于裝填滾子01表面上的粉塵21擦過盤片30并進入凹凸面12的凹部12A內(nèi)，致使盤片裝填滾予01的表面和盤片30進行直接接觸，得到足夠的傳送力。但是，若存在大量粉塵21，則如同圖3(b)那樣，對于凹凸較小的盤片裝填滾子01來說，由于在凹部12A內(nèi)不完全收進粉塵21，因而妨礙盤片裝填滾子01和盤片30之間的接觸，其結(jié)果為得不到足夠的傳送力，成為裝填不佳。對此，根據(jù)圖3(a)本發(fā)明的盤片裝填滾子10，由于凹凸面11較大，因而大量的粉塵21進入凹部11A內(nèi)，其結(jié)果為，產(chǎn)生不妨礙盤片裝填滾子10和盤片30之間的接觸而確保傳送力這樣的效果。
本發(fā)明的盤片裝填滾子可以使用EPDM、硅、氯丁二烯及NBR等加以成形。
另外，本發(fā)明盤片裝填滾子的橡膠硬度一般情況下根據(jù)JIS A是20～90°，但是特別優(yōu)選的是30～60°。這是為了得到足夠的傳送力。
本發(fā)明的盤片裝填滾子其表面全部為凹凸面。凹凸面的形成方法基本上不做出限定，既可以通過后加工來形成，也可以在成形時來形成。
在采用模具來形成凹凸時，雖然將形成凹凸面的花紋形成于模具內(nèi)面上的方法沒有特別限定，但是除了腐蝕處理等的化學性處理之外，還可以通過噴砂或噴丸處理等的機械加工簡單且以低成本形成指定的凹凸面。
下面，根據(jù)實施例來說明本發(fā)明。還有，本發(fā)明并不限定于此。
(實施例1)
使用經(jīng)腐蝕處理所形成的指定形狀模具，在170°下用電熱壓力機將硅橡膠硫化8分鐘，對形成凹凸后的筒狀體加以成形，以使橡膠硬度根據(jù)JIS A是30°，測量倍率400倍時高峰數(shù)RPc的平均值是2～30，凹凸面的最大低谷深度Rv的平均值是35～80μm，并且凹凸面的算術(shù)平均粗糙度Ra的平均值為2.5～5.5μm。將其切開，得到盤片裝填滾子。
(實施例2)在和實施例1相同的條件下制作別的模具，得到盤片裝填滾子。
(實施例3)在和實施例1相同的條件下制作別的模具，得到盤片裝填滾子。
(實施例4)使用和實施例1不同的模具，在170°下用電熱壓力機將硅橡膠硫化8分鐘，對形成凹凸后的筒狀體加以成形，以使橡膠硬度根據(jù)JIS A是30°，測量倍率400倍時高峰數(shù)RPc的平均值是2～30，凹凸面的最大低谷深度Rv的平均值是35～80μm，并且上述凹凸面的算術(shù)平均粗糙度Ra的平均值為3.0～4.0μm。將其切開，得到盤片裝填滾子。
(實施例5)在和實施例4相同的條件下制作別的模具，得到盤片裝填滾子。
(實施例6)在和實施例4相同的條件下制作別的模具，得到盤片裝填滾子。
(比較例1)使用和實施例1不同的模具，做到筒狀體的凹凸其凹凸面十點平均粗糙度Rz的平均值是0.5～10μm，并且凹凸的平均間隔Sm的平均值小于15μm，除此之外和實施例1相同，得到盤片裝填滾予。還有，這是專利文獻1的盤片裝填滾子。
(比較例2)使用近似鏡面的模具，并使用和實施例1相同的硅椽膠，得到盤片裝填滾子。還有，這是專利文獻1比較例的盤片裝填滾子。
(試驗例1)
下面表示各實施例及各比較例盤片裝填滾予外表面的表面狀態(tài)。按測量條件1測量高峰數(shù)RPc，按測量條件2測量最大低谷深度Rv、算術(shù)平均粗糙度Ra、二次平均平方根高度Rq及最大高度Rz，按測量條件3測量面最大高度Ry、十點平均粗糙度Rz及平均間隔Sm，并求出各自的平均值。還有，在各實施例及各比較例的盤片裝填滾子從大外徑方前端到30mm的之間任意測量5個部位，求出平均值。
還有，測量條件3用來確認在專利文獻1中規(guī)定的盤片裝填滾子表面粗糙度的范圍內(nèi)，本發(fā)明的盤片裝填滾子表示哪種值，但是在測量倍率3000倍下如上所述，因為導(dǎo)致測量凹凸的極少一部分，所以不能認為是正確的值。
作為測量器，使用KEYENCE公司制的超深度形狀測量裝置(控制部“VK-9500”、測量部“VK-9510”、表面粗糙度計量應(yīng)用VK-H1R9(JIS B 0601-2001)·VK-H1A9(JIS B 0601-1994))。將結(jié)果表示于表1～2及圖4～11中。
另外，將實施例1、實施例4、比較例1及比較例2表面狀態(tài)的400倍及3000倍的照片表示于圖12～19中。
<測量條件1>倍率400倍間距0.5μm截止值λS2.5μmλc0.08mm光學變焦1.0倍測量距離700μm不靈敏區(qū)5％校平±2<測量條件2>面·線粗糙度JIS B0601-2001倍率400倍間距0.5μm截止值λS2.5μmλc0.08mm
光學變焦1.0倍測量面積700μm×500μm無校平<測量條件3>面粗糙度JIS B0601-1994倍率3000倍間距0.5μm截止值λS2.5μmλc0.08mm光學變焦1.0倍面粗糙度測量面積700μm×500μm線粗糙度測量面積50μm校平±2
表1

表2

(結(jié)果的總結(jié))在測量倍率400倍下，各實施例的盤片裝填滾子全都在每700μm的高峰數(shù)RPc的平均值為2～30、最大低谷深度Rv的平均值為35～80、算術(shù)平均粗糙度Ra的平均值為2.5～5.5μm的范圍內(nèi)，與此相對，比較例1及比較例2的盤片裝填滾子在上述的范圍外。因此，判明和以往的盤片裝填滾子完全不同。
另外，各實施例的盤片裝填滾子在二次平均平方根高度Rq的平均值為3.5～10.0μm、最大高度Rz的平均值為85～220μm的范圍內(nèi)。
在作為和以往相同的測量條件之測量條件3(測量倍率3000倍)下，比較例1及比較例2其十點平均粗糙度Rz的平均值均為0.5～10μm，并且凹凸的平均間隔Sm的平均值小于15μm。各實施例的盤片裝填滾子雖然如上所述在3000倍下進行測量并判斷是非優(yōu)選的，但是為了比較還是進行了測量。其結(jié)果為，各實施例全都是凹凸的平均間隔Sm的平均值小于15μm，而十點平均粗糙度Rz均比10μm大。
另外，比較作為實施例1表面狀態(tài)照片的圖12與圖16以及作為實施例4表面狀態(tài)照片的圖13與圖17，和作為比較例1表面狀態(tài)照片的圖14與圖18以及作為比較例2表面狀態(tài)照片的圖15與圖19，輕易判明實施例1與實施例4和比較例1與比較列2具有明顯不同的表面狀態(tài)，并且各實施例的表面和各比較例的表面相比凹凸非常大。
(試驗例2)對于實施例4的盤片裝填滾子外表面的表面狀態(tài)，除了將倍率設(shè)為200倍、1000倍之外和試驗例1的測量條件2相同，并測量出最大低谷深度Rv、算術(shù)平均粗糙度Ra及二次平均平方根高度Rq。將結(jié)果表示于表3及圖20～22中。
表3

(結(jié)果的總結(jié))
實施例4的盤片裝填滾子在測量倍率400倍時，最大低谷深度Rv、算術(shù)平均粗糙度Ra及二次平均平方根高度Rq之中的任一個，岐散值都最小。從圖20～22也得以明確。由此，判明測量倍率400倍最適于本發(fā)明盤片裝填滾子凹凸面的測量。
對此，判明在測量倍率200倍及1000倍時岐散值都較大，不是適于本發(fā)明盤片裝填滾子凹凸大小的測量倍率。
(試驗例3)使用裝填滾子設(shè)在盤片單側(cè)的裝置，測量出各實施例及各比較例的盤片裝填滾子的裝填力(傳送力)。首先，在盤片上系上帶子，當在盤片的中央定位了裝填滾子的時候，用轉(zhuǎn)盤張力計測量傳送力。將其設(shè)為第0次。
接著，取下盤片將盤片裝填滾子放入下述粉塵噴射試驗環(huán)境的試驗槽中，在密閉狀態(tài)下開動風扇將8種粉末噴射1分鐘，當停止風扇并經(jīng)過1分鐘的時候?qū)⑵鋸脑囼灢廴〕觥７磸?fù)進行下述操作，當盤片裝填滾子的朝向轉(zhuǎn)動1圈的時候設(shè)為1個周期，上述操作為，使盤片裝填滾子的朝向旋轉(zhuǎn)90°，以便對盤片裝填滾子的粉塵附著變得均勻，并在再次放入試驗槽中同樣將粉末噴射1分鐘之后，放置1分鐘。再采用上述方法來測量1個周期后盤片裝填滾子的傳送力。還有，粉塵每1次旋轉(zhuǎn)添加1g，也就是說1個周期添加4g來進行試驗。將該操作反復(fù)執(zhí)行數(shù)次。將其結(jié)果表示于表4及圖23中。
<粉塵噴射試驗環(huán)境>
粉塵種類JIS Z 8901 8種粉塵噴射量4.0g/CyC試驗溫度20±15℃相對濕度45～85％試驗槽體積27,000cm3攪拌時間1分鐘×4休止時間1分鐘×4還有，JIS Z 8901 8種在關(guān)東土質(zhì)下中間直徑的范圍是6.6～8.6μm。
表4

-無法裝填盤片而不能測量再者，求取在試驗例3中所求出的各實施例及各比較例盤片裝填滾傳送力的下降率。將粉塵附著前的傳送力(N)設(shè)為t0，將n周期后的傳送力(N)設(shè)為tn，并用下面的公式求出傳送力下降率。
傳送力下降率(％)＝(tn-t0)/t0×100將結(jié)果表示于表5及圖24中。
表5

(結(jié)果的總結(jié))雖然比較例1在關(guān)東土質(zhì)的8種噴射第4次之后成為裝填不佳，并且比較例2在第3次之后成為裝填不佳，但是各實施例全都在4次之后也可以裝填。還有，雖然在表4中未記述，但是實施例4～6的盤片裝填滾子在第7次以后也維持足夠的傳送力。
另外，比較傳送力的下降率，判明各實施例的盤片裝填滾子全都是噴射粉塵后第2次之后的傳送力下降率較小。對此，比較例1及比較例2的盤片裝填滾子第2次之后的傳送力下降較為顯著。
由此，判明本發(fā)明的盤片裝填滾子即便在附著大量粉塵的那種環(huán)境下加以使用，也不發(fā)生使傳送力顯著下降的情況。
權(quán)利要求
1.一種盤片裝填滾子，由下述橡膠彈性體構(gòu)成，并搭接于盤片的邊緣部來裝填該盤片，該橡膠彈性體具有外徑在軸方向上產(chǎn)生變化的外圓面，采用模具來形成；其特征為上述滾子的外圓面由凹凸面構(gòu)成，在以測量倍率400倍來測量該凹凸面時，每700μm的高峰數(shù)RPc的平均值是2～30，最大低谷深度Rv的平均值是35～80μm，算術(shù)平均粗糙度Ra的平均值是2.5～5.5μm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤片裝填滾子，其特征為以測量倍率400倍來測量上述凹凸面時二次平均平方根高度Rq的平均值是3.5～10.0μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的盤片裝填滾子，其特征為上述橡膠彈性體的橡膠強度根據(jù)JIS A是20～90°。
全文摘要
本發(fā)明提供一種盤片裝填滾子，該盤片裝填滾子在粉塵的量非常多時或使用了很長時間時也不使傳送力顯著下降，而能夠可靠進行裝填、彈出。該盤片裝填滾子由橡膠彈性體構(gòu)成，并搭接于盤片的邊緣部來裝填該盤片，該橡膠彈性體具有外徑在軸方向的范圍內(nèi)產(chǎn)生變化的外圓面，采用模具來形成；其特征為，上述滾子的外圓面由凹凸面構(gòu)成，在以測量倍率400倍來測量該凹凸面時，每700μm的高峰數(shù)RPc的平均值是2～30，最大低谷深度Rv的平均值是35～80μm，算術(shù)平均粗糙度Ra的平均值是2.5～5.5μm。
文檔編號G11B7/00GK101025968SQ20071008491
公開日2007年8月29日 申請日期2007年2月16日 優(yōu)先權(quán)日2006年2月16日
發(fā)明者小笠原諭子, 塚田雅夫 申請人:北辰工業(yè)株式會社