專利名稱：多層光盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
在下述專利中提出了多層光盤US專利6039898，2000年3月21日，B.Glushko和美國專利(參考IBM多層光盤專利)。限制多層光盤中的層數(shù)的因素是當(dāng)光束穿過多層光盤時(shí)，透鏡拾取的或者入射在被讀取層上的數(shù)據(jù)信號(hào)的損耗。這種情況下，除了可被降至最小的所述損耗之外，例如與自多層光盤各層的光線反射相關(guān)，并且由其不同的反射率導(dǎo)致的過程損耗之外，還存在與數(shù)據(jù)讀取方法相關(guān)的其它損耗。例如，IBM公司專利提出結(jié)合從凹坑接收的數(shù)據(jù)信號(hào)的調(diào)相，使用部分反射層。入射在層N上的IN信號(hào)應(yīng)等于IN＝(1-R)N，這里R是單層上的反射系數(shù)。為了減少當(dāng)光束在多層光盤內(nèi)通過時(shí)產(chǎn)生的損耗，我們提出每層上的下述記錄布局只在道形成數(shù)據(jù)單元，即凹坑(ROM)，或凹槽(WORM)任一中布置反射材料，光線無任何損失地穿透道間空間。這種情況下，在CD格式中，每層中的損失大約降低70％，在DVD格式中，每層的損失大約降低50％。這種方法還允許增大多層光盤中的層數(shù)。
可使用幾種方法在層表面上形成反射凹坑或凹槽的所需系統(tǒng)方法1.利用目前的CD方法，在盤面上形成數(shù)據(jù)凹凸圖案。隨后，用反射系數(shù)為R的反射材料涂覆盤面。當(dāng)被加熱時(shí)，其透射系數(shù)可發(fā)生變化的金屬(ROM)或者金屬合金或它們的氧化物(WORM)，例如ITO可被用作這種反射材料。隨后，通過利用從平直表面除去金屬，同時(shí)保留凹進(jìn)處的金屬的選擇性蝕刻方法，只在凹坑或道中保留反射材料?？刹捎玫倪x擇性蝕刻技術(shù)是成一定角度的表面離子蝕刻。
方法2.首先，形成以凹坑或凹槽(實(shí)際上，它們是在金屬中形成的空腔)形式包含數(shù)據(jù)的掩模。隨后，利用舉離光刻(lift-offphotolithography)技術(shù)，在層表面上形成相應(yīng)凹坑或凹槽的匹配系統(tǒng)。為此，使用在前面的例子中提及的反射材料。
方法3.利用當(dāng)被加熱時(shí)，其透射系數(shù)可發(fā)生變化的金屬合金或其它氧化物，例如ITO涂覆層表面。隨后，通過照亮道和凹坑之間的反射層，利用穩(wěn)態(tài)激光單元形成該層。
利用作者前面提出的方法，可制備多層光盤。
權(quán)利要求
1.一種保存信息的多層光盤，所述光盤包括多個(gè)透明層；多個(gè)透明層中的每層中，保存信息的凹坑或凹槽圖案；和只設(shè)置在凹坑或凹槽圖案中的反射材料。
2.按照權(quán)利要求1所述的光盤，其中所述光盤是ROM光盤。
3.按照權(quán)利要求1所述的光盤，其中所述光盤是WORM光盤。
4.一種制造權(quán)利要求1的光盤的方法，包括對(duì)于多個(gè)透明層中的每一層，在該層上沉積反射材料，并蝕刻該反射材料，從而反射材料只保留在凹坑或凹槽圖案中。
5.一種制造權(quán)利要求1的光盤的方法，其中利用舉離光刻技術(shù)涂覆反射材料。
6.一種制造權(quán)利要求1的光盤的方法，包括對(duì)于多個(gè)透明層中的每一層，涂覆當(dāng)被加熱時(shí)其透射系數(shù)發(fā)生變化的材料，并用激光加熱所述材料，以確定凹坑或凹槽圖案。
全文摘要
為了降低讀取光線的損失，多層光盤(

圖1，光盤)，例如呈CD或DVD格式的光盤具有帶有凹坑或道的多層(圖1，層)，反射材料只存在于凹坑或道中。該光盤可用作ROM或WORM光盤。還公開了制造該光盤的方法。
文檔編號(hào)G11B7/24062GK1602524SQ02817296
公開日2005年3月30日 申請(qǐng)日期2002年7月12日 優(yōu)先權(quán)日2001年7月12日
發(fā)明者洛希弗·迪斯金尼, 米海爾·卡瓦莎, 尤金·列維奇, 阿列克塞·列日涅夫, 雅各布·馬爾金 申請(qǐng)人:特萊第存儲(chǔ)Ip有限責(zé)任公司