Oled顯示面板及觸控面板的制作方法
【技術領域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及顯示觸控領域,尤其涉及一種OLED顯示面板及觸控面板。
【背景技術】
[0002]隨著人機交互技術的發(fā)展,觸控技術越來越多地使用在各種顯示器上。電容性觸控技術由于其耐磨損、壽命長,用戶使用時維護成本低,并且可以支持手勢識別及多點觸控的優(yōu)點而被廣泛地使用。
[0003]現(xiàn)有的觸控顯示面板的部分結構通常如圖1所示。陰極110上設置有圓偏振片120,外界光通過圓偏振片120形成圓偏振光,該圓偏振光在陰極110上的反射形成相反手性的圓偏振光,該相反手性的圓偏振光經(jīng)由圓偏振片120被過濾,以此來減少外界光在陰極110上的反射率。
[0004]同時,在偏振片120上設置有觸控電極層130。觸控電極層130可以單獨或與其他電極配合來進行觸控感測。觸控電極層130包括多個具有網(wǎng)狀結構的金屬網(wǎng)格。然而,為了降低面板的反射率,需對金屬網(wǎng)格進行一些處理。參見圖2及圖3,由于金屬網(wǎng)格131’的金屬材料對光有很高的反射率,因此,為了防止外界光在金屬網(wǎng)格131’上的反射,需要對金屬網(wǎng)格131’進行黑化,并將黑化后的多個金屬網(wǎng)格131作為觸控電極。然而,對金屬網(wǎng)格131’的黑化制程會對金屬網(wǎng)格131’的電性能產(chǎn)生影響,進而降低觸控顯示面板的觸控精度。
[0005]由此可見,現(xiàn)有技術中的觸控顯示面板結構無法同時保證觸控面板的低反射率和觸控精度。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0006]本發(fā)明為了克服上述現(xiàn)有技術存在的缺陷,提供一種OLED顯示面板及觸控面板,其減少面板反射率,同時提升面板觸控精度。
[0007]根據(jù)本發(fā)明的一種方面,提供一種觸控面板,包括:線偏光片;1/2波片層,所述1/2波片層形成于所述線偏光片的一側;1/4波片層,所述1/4波片層形成于所述1/2波片層遠離所述線偏光片的一側;觸控電極層,所述觸控電極層形成于所述1/4波片層遠離所述線偏光片的一側,所述觸控電極層包括多個觸控電極,所述多個觸控電極為具有網(wǎng)狀的金屬網(wǎng)格。
[0008]根據(jù)本發(fā)明的又一個方面,還提供一種OLED顯示面板,包括:顯示面板以及上所述的觸控面板。
[0009]與現(xiàn)有技術相比,本發(fā)明至少具有如下優(yōu)勢中的一種:
[0010]I)通過1/4波片層和1/2波片層來減少由于金屬網(wǎng)格所產(chǎn)生的反射光;
[0011]2)減少金屬網(wǎng)格的黑化制程,進而簡化工藝,節(jié)省成本,同時防止金屬網(wǎng)格的電性能由于黑化制程而被影響,進而提升面板的觸控精度;
[0012]3)通過對1/4波片層和1/2波片層垂直方向相位差的限定,保證面板在傾斜視角下的減反射性能;
[0013]4)設置1/4波片層和1/2波片層來減少顯示面板總的反射率;
[0014]5)通過調(diào)整1/4波片層和1/2波片層的快軸的相對夾角,使得顯示面板具有良好的寬波段反射抑制性。
【附圖說明】
[0015]通過參照附圖詳細描述其示例實施方式,本發(fā)明的上述和其它特征及優(yōu)點將變得更加明顯。
[0016]圖1示出了現(xiàn)有技術的顯示面板的截面圖。
[0017]圖2示出了現(xiàn)有技術的未黑化金屬網(wǎng)格的示意圖。
[0018]圖3示出了現(xiàn)有技術的黑化后金屬網(wǎng)格的示意圖。
[0019]圖4示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的觸控面板的截面圖。
[0020]圖5示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的夾角Al、夾角A2與觸控電極層的反射率之間的關系O
[0021]圖6至圖9分別示出本發(fā)明實施例的四組夾角Al和夾角A2。
[0022]圖10示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的光線通過觸控面板的示意圖。
[0023]圖11示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的對于550nm波長光速,1/2波片層和1/4波片層不同垂直相位差的傾斜角和相位延遲之間的關系。
[0024]圖12示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的又一種觸控面板的示意圖。
[0025]圖13示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的未黑化金屬網(wǎng)格的示意圖。
[0026]圖14示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的OLED顯示面板的截面圖。
【具體實施方式】
[0027]現(xiàn)在將參考附圖更全面地描述示例實施方式。然而,示例實施方式能夠以多種形式實施,且不應被理解為限于在此闡述的實施方式;相反,提供這些實施方式使得本發(fā)明將全面和完整,并將示例實施方式的構思全面地傳達給本領域的技術人員。在圖中相同的附圖標記表示相同或類似的結構,因而將省略對它們的重復描述。
[0028]所描述的特征、結構或特性可以以任何合適的方式結合在一個或更多實施方式中。在下面的描述中,提供許多具體細節(jié)從而給出對本發(fā)明的實施方式的充分理解。然而,本領域技術人員應意識到,沒有特定細節(jié)中的一個或更多,或者采用其它的方法、組元、材料等,也可以實踐本發(fā)明的技術方案。在某些情況下,不詳細示出或描述公知結構、材料或者操作以避免模糊本發(fā)明。
[0029]本發(fā)明的附圖僅用于示意相對位置關系,某些部位的層厚采用了夸示的繪圖方式以便于理解,附圖中的層厚并不代表實際層厚的比例關系。
[0030]為了解決現(xiàn)有技術中問題,本發(fā)明提供一種減少面板反射率,同時提升面板觸控精度的觸控面板。該觸控面板包括:線偏光片;1/2波片層,1/2波片層形成于線偏光片的一側;1/4波片層,1/4波片層形成于1/2波片層遠離線偏光片的一側;觸控電極層,觸控電極層形成于1/4波片層遠離線偏光片的一側,觸控電極層包括多個觸控電極,多個觸控電極為具有網(wǎng)狀的金屬網(wǎng)格。
[0031]下面結合圖4至圖13的具體實施例來對本發(fā)明提供的觸控面板進行描述。
[0032]首先參見圖4,圖4示出了根據(jù)本發(fā)明實施例的觸控面板200的截面圖。觸控面板200包括線偏光片210、1/2波片層220、1/4波片層230。
[0033]1/2波片層220形成于線偏光片210的一側。1/4波片層230形成于1/2波片層220遠離線偏光片210的一側,也即1/2波片層220位于1/4波片層230與線偏光片210之間。通過上述結構,自然光通過線偏光片210變?yōu)榫€偏振光,該線偏振光經(jīng)過1/2波片層220,其偏振方向旋轉,偏振方向旋轉后光線經(jīng)過的1/4波片層230變?yōu)闄E圓偏振光或圓偏振光。當該橢圓偏振光或圓偏振光經(jīng)由觸控面板內(nèi)部金屬觸控電極層或其他會產(chǎn)生反射的金屬層反射后,可以經(jīng)由1/4波片層230、1/2波片層220以及線偏光片210而被部分抵消或完全抵消,進而減少觸控面板的反射率。
[0034]其中,考慮到觸控面板200的整體厚度,同時考慮到1/2波片層220和1/4波片層230的垂直相位差,1/2波片層220和1/4波片層230的厚度范圍1/2波片層220的厚度范圍可以是30μπι至5(^111。1/4波片層230的厚度范圍也可以是30μπι至5(^111。1/2波片層220和1/4波片層230的垂直相位差的計算將在下面結合圖11進行說明。1/2波片層220和1/4波片層230的材料可以是聚碳酸酯或者環(huán)烯烴聚合物。本領域技術人員根據(jù)觸控面板厚度及制程需求可以實現(xiàn)更多的變化例,在此不予一一贅述。
[0035]為了更好地降低觸控面板內(nèi)部金屬觸控電極層或其他會產(chǎn)生反射的金屬層上的反射率,需要對線偏光片210、1/2波片層220以及1/4波片層230進行調(diào)整,使得表示線偏光片210、1/2波片層220以及1/4波片層230光學屬性的軸的相對夾角符合一定的條件。具體而言,1/4波片層230的快軸與1/2波片層220的快軸之間的相對夾角可以通過合理的配置,使得通過1/4波片層230和1/2波片層220的光線具有最小色散,從而進一步提升觸控面板對于寬波段光線的減反射性能。
[0036]具體而言,1/4波片層230的快軸與線偏光片210的透光軸之間的相對夾角Al和1/2波片層220的快軸與線偏光片210的透光軸之間的相對夾角Α2會改變穿過線偏光片210、1/2波片層220及1/4波片層230的光線的偏振方向和相位延遲,進而會對觸控面板內(nèi)部金屬觸控電極層或其他會產(chǎn)生反射的金屬層的反射率產(chǎn)生影響。上述夾角Al和夾角Α2都