本發(fā)明關(guān)于能源勘探技術(shù)領(lǐng)域，特別是關(guān)于油氣勘探的解釋技術(shù)，具體的講是一種繪制等值線圖的方法以及系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

在石油及天然氣工業(yè)中，油氣藏富集于地下某套地層的特定位置之中?，F(xiàn)代石油及天然氣的勘探、開(kāi)發(fā)在很大程度上需要利用地震剖面來(lái)確定目標(biāo)地層的位置、埋深、形態(tài)，并用于井位設(shè)計(jì)與儲(chǔ)量計(jì)算。因而，如何快速準(zhǔn)確地通過(guò)地震剖面確定地下地層構(gòu)造形態(tài)、斷層空間特征具有重要意義。

在地震解釋過(guò)程中，一般等值線根據(jù)散點(diǎn)數(shù)據(jù)生成后，后期修改編輯相對(duì)繁瑣。但地質(zhì)勘探要求對(duì)等值線圖進(jìn)行反復(fù)的編輯及充填顏色，耗時(shí)長(zhǎng)，常常難以滿足工業(yè)化圖件的需求。在工作站中，對(duì)等值線修改一般通過(guò)原始數(shù)據(jù)進(jìn)行重新網(wǎng)格成等值線圖，如果要進(jìn)一步編輯也是要導(dǎo)出數(shù)據(jù)或圖件后，在個(gè)人電腦中重新編輯，這樣就浪費(fèi)了大量的時(shí)間。另一種方式是等值線文件導(dǎo)出到專業(yè)軟件中進(jìn)行作業(yè)，但是由于格式的差異，專業(yè)軟件充填效果并不理想、充填時(shí)間長(zhǎng)且工作量大。

因此，如何研究和開(kāi)發(fā)出一種新的方案，其能夠提高等值線圖修改及充填顏色的效率是本領(lǐng)域亟待解決的技術(shù)難題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供了一種繪制等值線圖的方法以及系統(tǒng)，通過(guò)繪制輔助曲線，充填不同等值線之間的顏色，并通過(guò)修改色棒，將色棒顏色返回到等值線圖中，實(shí)現(xiàn)了等值線圖快速充填顏色，從而提高等值線圖成圖效率。

本發(fā)明的目的是，提供一種繪制等值線圖的方法，所述方法包括：

獲取等值線圖、斷層線數(shù)據(jù)以及邊框線數(shù)據(jù)：

根據(jù)所述斷層線數(shù)據(jù)以及邊框線數(shù)據(jù)對(duì)所述等值線圖進(jìn)行閉合處理，得到包括多個(gè)閉合區(qū)域的等值線圖；

在所述等值線圖中繪制輔助線條，根據(jù)所述輔助線條對(duì)所述等值線圖進(jìn)行充填；

根據(jù)充填后的等值線圖生成所述等值線圖的色棒；

根據(jù)地質(zhì)要求修改所述色棒，得到漸變色棒；

根據(jù)所述漸變色棒充填所述等值線圖，得到漸變色等值線圖。

在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，所述等值線圖中繪制了多條等值線，每條等值線對(duì)應(yīng)一個(gè)數(shù)值。

在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，根據(jù)所述斷層線數(shù)據(jù)以及邊框線數(shù)據(jù)對(duì)所述等值線圖進(jìn)行閉合處理包括：

將所述斷層線數(shù)據(jù)中的斷層線繪制于所述等值線圖中，使得所述等值線圖中的斷層與所述斷層線相交；

將所述邊框線數(shù)據(jù)中的邊框線繪制于所述等值線圖中，使得所述等值線數(shù)據(jù)與所述邊框線相交。

在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，所述輔助線條包括首端點(diǎn)、n個(gè)交點(diǎn)以及末端點(diǎn)，所述交點(diǎn)為所述輔助線條與所述等值線相交形成的，所述n個(gè)交點(diǎn)從所述首端點(diǎn)至所述末端點(diǎn)方向依次為交點(diǎn)1、交點(diǎn)2、……交點(diǎn)n，所述n個(gè)交點(diǎn)對(duì)應(yīng)的等值線的數(shù)值從所述首端點(diǎn)至所述末端點(diǎn)方向呈下降趨勢(shì)。

在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，根據(jù)所述輔助線條對(duì)所述等值線圖進(jìn)行充填包括：

在所述等值線圖中繪制所述交點(diǎn)對(duì)應(yīng)的樣點(diǎn)；

確定所述樣點(diǎn)所在的封閉區(qū)域；

對(duì)所述封閉區(qū)域進(jìn)行單一顏色的充填，所述交點(diǎn)對(duì)應(yīng)的等值線的數(shù)值作為所述封閉區(qū)域的充填值。

在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，當(dāng)所述交點(diǎn)為交點(diǎn)1時(shí)，所述樣點(diǎn)為所述交點(diǎn)1與所述首端點(diǎn)之間的點(diǎn)。

在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，當(dāng)所述交點(diǎn)為交點(diǎn)2、……交點(diǎn)n時(shí)，所述樣點(diǎn)為與所述交點(diǎn)相鄰的兩個(gè)交點(diǎn)之間的點(diǎn)。

在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，根據(jù)充填后的等值線圖生成所述等值線圖的色棒包括：

根據(jù)所述封閉區(qū)域的充填值生成所述等值線圖的色棒，所述色棒為單一顏色。

在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，根據(jù)所述漸變色棒充填所述等值線圖，得到漸變色等值線圖包括：

將所述等值線圖中的封閉區(qū)域按照充填值替換為所述漸變色棒中的對(duì)應(yīng)顏色。

在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，所述方法還包括：

獲取等值線修改信息；

解析所述等值線修改信息，得到等值線修改值；

根據(jù)所述等值線修改值將所述等值線對(duì)應(yīng)的數(shù)值修改為等值線修改值

本發(fā)明的目的是，提供一種繪制等值線圖的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：

數(shù)據(jù)獲取裝置，用于獲取等值線圖、斷層線數(shù)據(jù)以及邊框線數(shù)據(jù)：

閉合處理裝置，用于根據(jù)所述斷層線數(shù)據(jù)以及邊框線數(shù)據(jù)對(duì)所述等值線圖進(jìn)行閉合處理，得到包括多個(gè)閉合區(qū)域的等值線圖；

線條繪制裝置，用于在所述等值線圖中繪制輔助線條，根據(jù)所述輔助線條對(duì)所述等值線圖進(jìn)行充填；

色棒生成裝置，用于根據(jù)充填后的等值線圖生成所述等值線圖的色棒；

色棒修改裝置，用于根據(jù)地質(zhì)要求修改所述色棒，得到漸變色棒；

線圖充填裝置，用于根據(jù)所述漸變色棒充填所述等值線圖，得到漸變色等值線圖。

在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，所述等值線圖中繪制了多條等值線，每條等值線對(duì)應(yīng)一個(gè)數(shù)值。

在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，所述閉合處理裝置包括：

斷層線繪制模塊，用于將所述斷層線數(shù)據(jù)中的斷層線繪制于所述等值線圖中，使得所述等值線圖中的斷層與所述斷層線相交；

邊框線繪制模塊，用于將所述邊框線數(shù)據(jù)中的邊框線繪制于所述等值線圖中，使得所述等值線數(shù)據(jù)與所述邊框線相交。

在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，所述輔助線條包括首端點(diǎn)、n個(gè)交點(diǎn)以及末端點(diǎn)，所述交點(diǎn)為所述輔助線條與所述等值線相交形成的，所述n個(gè)交點(diǎn)從所述首端點(diǎn)至所述末端點(diǎn)方向依次為交點(diǎn)1、交點(diǎn)2、……交點(diǎn)n，所述n個(gè)交點(diǎn)對(duì)應(yīng)的等值線的數(shù)值從所述首端點(diǎn)至所述末端點(diǎn)方向呈下降趨勢(shì)。

在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，所述線條繪制裝置包括：

線條繪制模塊，用于在所述等值線圖中繪制輔助線條；

樣點(diǎn)繪制模塊，用于在所述等值線圖中繪制所述交點(diǎn)對(duì)應(yīng)的樣點(diǎn)；

區(qū)域確定模塊，用于確定所述樣點(diǎn)所在的封閉區(qū)域；

單一色充填模塊，用于對(duì)所述封閉區(qū)域進(jìn)行單一顏色的充填，所述交點(diǎn)對(duì)應(yīng)的等值線的數(shù)值作為所述封閉區(qū)域的充填值。

在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，當(dāng)所述交點(diǎn)為交點(diǎn)1時(shí)，所述線條繪制模塊繪制的樣點(diǎn)為所述交點(diǎn)1與所述首端點(diǎn)之間的點(diǎn)。

在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，當(dāng)所述交點(diǎn)為交點(diǎn)2、……交點(diǎn)n時(shí)，線條繪制模塊繪制的樣點(diǎn)為與所述交點(diǎn)相鄰的兩個(gè)交點(diǎn)之間的點(diǎn)。

在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，所述色棒生成裝置用于根據(jù)所述封閉區(qū)域的充填值生成所述等值線圖的色棒，所述色棒為單一顏色。

在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，所述線圖充填裝置用于將所述等值線圖中的封閉區(qū)域按照充填值替換為所述漸變色棒中的對(duì)應(yīng)顏色。

在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，所述系統(tǒng)還包括等值線修改裝置，包括：

信息獲取模塊，用于獲取等值線修改信息；

信息解析模塊，用于解析所述等值線修改信息，得到等值線修改值；

等值線修改模塊，用于根據(jù)所述等值線修改值將所述等值線對(duì)應(yīng)的數(shù)值修改為等值線修改值。

本發(fā)明的有益效果在于，提供了一種繪制等值線圖的方法以及系統(tǒng)，通過(guò)繪制輔助曲線充填不同等值線之間的顏色，生成色棒，修改色棒，最后將色棒顏色返回到等值線圖中，實(shí)現(xiàn)將等值線圖快速充填顏色，從而提高等值線圖成圖效率。

為讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉較佳實(shí)施例，并配合所附圖式，作詳細(xì)說(shuō)明如下。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種繪制等值線圖的方法的實(shí)施方式一的流程圖；

圖2為圖1中的步驟s102的具體流程圖；

圖3為圖1中的步驟s103的具體流程圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種繪制等值線圖的方法的實(shí)施方式二的流程圖；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種繪制等值線圖的系統(tǒng)的實(shí)施方式一的結(jié)構(gòu)框圖；

圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種繪制等值線圖的系統(tǒng)的中閉合處理裝置的結(jié)構(gòu)框圖；

圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種繪制等值線圖的系統(tǒng)的中線條繪制裝置的結(jié)構(gòu)框圖；

圖8為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種繪制等值線圖的系統(tǒng)的實(shí)施方式二的流程圖；

圖9為本發(fā)明提供的具體實(shí)施例中等值線閉合處理效果示意圖1；

圖10為本發(fā)明提供的具體實(shí)施例中等值線閉合處理效果示意圖2；

圖11為本發(fā)明提供的具體實(shí)施例中輔助線條充填原理示例圖；

圖12為本發(fā)明提供的具體實(shí)施例中繪制輔助線條示意圖；

圖13為本發(fā)明提供的具體實(shí)施例中根據(jù)輔助線條進(jìn)行等值線充填單一顏色示意圖；

圖14為本發(fā)明提供的具體實(shí)施例中通過(guò)等值線圖的充填顏色生成的原始色棒示意圖；

圖15為本發(fā)明提供的具體實(shí)施例中修改原始色棒后的示意圖；

圖16為本發(fā)明提供的具體實(shí)施例中修改原始色棒后生成的漸變色色棒示意圖；

圖17為本發(fā)明提供的具體實(shí)施例中單一顏色充填后的等值線示意圖；

圖18為本發(fā)明提供的具體實(shí)施例中漸變色色棒充填后的等值線示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

本領(lǐng)域技術(shù)技術(shù)人員知道，本發(fā)明的實(shí)施方式可以實(shí)現(xiàn)為一種系統(tǒng)、裝置、設(shè)備、方法或計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品。因此，本公開(kāi)可以具體實(shí)現(xiàn)為以下形式，即：完全的硬件、完全的軟件(包括固件、駐留軟件、微代碼等)，或者硬件和軟件結(jié)合的形式。

本發(fā)明提供了一種繪制等值線圖的方法以及系統(tǒng)。下面參考本發(fā)明的若干代表性實(shí)施方式，詳細(xì)闡釋本發(fā)明的原理和精神。以下所使用的術(shù)語(yǔ)“模塊”和“單元”，可以是實(shí)現(xiàn)預(yù)定功能的軟件和/或硬件。盡管以下實(shí)施例所描述的模塊較佳地以軟件來(lái)實(shí)現(xiàn)，但是硬件，或者軟件和硬件的組合的實(shí)現(xiàn)也是可能并被構(gòu)想的。

為了將地震解釋人員從繁重的工作中解放出來(lái)，提高準(zhǔn)確度和效率，本發(fā)明提供的一種繪制等值線圖的方法，請(qǐng)參閱圖1，所述方法包括：

s101：獲取等值線圖、斷層線數(shù)據(jù)以及邊框線數(shù)據(jù)。在具體的實(shí)施方式中，可從工作站中獲取等值線圖極其相關(guān)地質(zhì)信息。所述等值線圖中繪制了多條等值線，每條等值線對(duì)應(yīng)一個(gè)數(shù)值。如圖9、圖10所示的具體實(shí)施例示出了多條等值線。如圖11所示的等值線的放大圖中可見(jiàn)，每條等值線對(duì)應(yīng)不同的數(shù)值，如圖11中所示的100、90等。

s102：根據(jù)所述斷層線數(shù)據(jù)以及邊框線數(shù)據(jù)對(duì)所述等值線圖進(jìn)行閉合處理，得到包括多個(gè)閉合區(qū)域的等值線圖。

圖2為該步驟的具體流程圖，請(qǐng)參閱圖2，該步驟包括：

s201：將所述斷層線數(shù)據(jù)中的斷層線繪制于所述等值線圖中，使得所述等值線圖中的斷層與所述斷層線相交。

s202：將所述邊框線數(shù)據(jù)中的邊框線繪制于所述等值線圖中，使得所述等值線數(shù)據(jù)與所述邊框線相交。

如圖12所示的具體實(shí)施例中，繪制了邊框線、斷層線后，等值線圖被分為多個(gè)閉合區(qū)域。閉合處理的總體思路是等值線和斷層線及邊框閉合，使得未閉合等值線閉合，與斷層及成圖邊框相交，即等值線的首尾兩頭相交于斷層或邊框線上。

請(qǐng)參閱圖1，該步驟還包括s103：在所述等值線圖中繪制輔助線條，根據(jù)所述輔助線條對(duì)所述等值線圖進(jìn)行充填。所述輔助線條包括首端點(diǎn)、n個(gè)交點(diǎn)以及末端點(diǎn)，所述交點(diǎn)為所述輔助線條與所述等值線相交形成的，所述n個(gè)交點(diǎn)從所述首端點(diǎn)至所述末端點(diǎn)方向依次為交點(diǎn)1、交點(diǎn)2、……交點(diǎn)n，所述n個(gè)交點(diǎn)對(duì)應(yīng)的等值線的數(shù)值從所述首端點(diǎn)至所述末端點(diǎn)方向呈下降趨勢(shì)。

在如圖11所示的具體實(shí)施例中，根據(jù)等值線的數(shù)值的大小順序，創(chuàng)建一條穿過(guò)多條等值線的輔助線條，線條首端點(diǎn)處于數(shù)值較大的等值線，末端處于任意數(shù)值較小的等值線。從線條首端點(diǎn)算起，每個(gè)交點(diǎn)對(duì)應(yīng)一條等值線，每個(gè)交點(diǎn)依次對(duì)應(yīng)的等值線的數(shù)值不斷變小，且不能與同一條等值線相交兩次。在圖11中，該輔助線條包括首端點(diǎn)、交點(diǎn)1、交點(diǎn)2、交點(diǎn)3以及末端點(diǎn)。

根據(jù)等值線圖的不同，可以繪制多條輔助線條，每條輔助線條均滿足上述要求。

圖3為該步驟的具體流程圖，請(qǐng)參閱圖3，根據(jù)所述輔助線條對(duì)所述等值線圖進(jìn)行充填包括：

s301：在所述等值線圖中繪制所述交點(diǎn)對(duì)應(yīng)的樣點(diǎn)。當(dāng)所述交點(diǎn)為交點(diǎn)1時(shí)，所述樣點(diǎn)為所述交點(diǎn)1與所述首端點(diǎn)之間的點(diǎn)，當(dāng)所述交點(diǎn)為交點(diǎn)2、……交點(diǎn)n時(shí)，所述樣點(diǎn)為與所述交點(diǎn)相鄰的兩個(gè)交點(diǎn)之間的點(diǎn)。在圖11所述的實(shí)施例中，交點(diǎn)1對(duì)應(yīng)的樣點(diǎn)為圖11中的a，交點(diǎn)2對(duì)應(yīng)的樣點(diǎn)為圖11中的b，交點(diǎn)3對(duì)應(yīng)的樣點(diǎn)為圖11中的c，首端點(diǎn)為d，末端點(diǎn)為e。

在具體的實(shí)施例中，通過(guò)該輔助線條與不同等值線的交點(diǎn)，通過(guò)該交點(diǎn)沿著線條首端點(diǎn)處，發(fā)現(xiàn)一個(gè)距離近(諸如離交點(diǎn)2mm)的樣點(diǎn)。

s302：確定所述樣點(diǎn)所在的封閉區(qū)域。在圖11所述的實(shí)施例中，樣點(diǎn)a所在的封閉區(qū)域?yàn)閍，樣點(diǎn)b所在的封閉區(qū)域?yàn)閎。

s303：對(duì)所述封閉區(qū)域進(jìn)行單一顏色的充填，所述交點(diǎn)對(duì)應(yīng)的等值線的數(shù)值作為所述封閉區(qū)域的充填值。通過(guò)該樣點(diǎn)對(duì)其所在的封閉區(qū)域進(jìn)行充填，同時(shí)獲得相交等值線的數(shù)值，并作為充填值。在具體的實(shí)施方式中，以此類推，每個(gè)交點(diǎn)都沿著線條首端點(diǎn)處繪制一個(gè)樣點(diǎn)，然后對(duì)該區(qū)域進(jìn)行充填并賦值，可以得到該輔助線條相交的等值線充填效果。以此類推，對(duì)等值線圖的各個(gè)區(qū)域進(jìn)行充填，最終覆蓋整個(gè)等值線圖。這時(shí)所有的充填色均為默認(rèn)的單一顏色，而不是漸變色，但每個(gè)充填色塊的數(shù)值是不同的。

圖13為本發(fā)明提供的具體實(shí)施例中根據(jù)輔助線條進(jìn)行等值線充填單一顏色示意圖。在圖11所示的實(shí)施例中，封閉區(qū)域a的充填值即為100。

請(qǐng)參閱圖1，該步驟還包括s104：根據(jù)充填后的等值線圖生成所述等值線圖的色棒。也即，根據(jù)所述封閉區(qū)域的充填值生成所述等值線圖的色棒，所述色棒為單一顏色。等值線圖中的每個(gè)封閉區(qū)域?qū)?yīng)色棒中的一個(gè)區(qū)域，因步驟s103是通過(guò)單一顏色進(jìn)行填充，因此此處得到的色棒為單一色棒，如圖14所示的原始色棒。

s105：根據(jù)地質(zhì)要求修改所述色棒，得到漸變色棒。可根據(jù)地質(zhì)任務(wù)修改色棒中某些色條的顏色，生成一個(gè)漸變的顏色。如圖15所示，可在圖14中任意修改多個(gè)顏色，然后將相鄰兩個(gè)顏色根據(jù)顏色數(shù)值進(jìn)行內(nèi)插，得到如圖16所示的漸變色棒。

s106：根據(jù)所述漸變色棒充填所述等值線圖，得到漸變色等值線圖。即將所述等值線圖中的封閉區(qū)域按照充填值替換為所述漸變色棒中的對(duì)應(yīng)顏色。因每個(gè)封閉區(qū)域具有一個(gè)充填值，每個(gè)充填值對(duì)應(yīng)色棒中的一個(gè)顏色，因此根據(jù)漸變色棒中的顏色充填該封閉區(qū)域，即可得到漸變色等值線圖，如圖17為單一顏色充填的等值線圖，圖18為漸變色棒充填后的等值線圖。

如上所述，即為本發(fā)明提供的一種繪制等值線圖的方法，本方案將等值線與斷層及邊框閉合后，根據(jù)等值線數(shù)值的大小順序，創(chuàng)建一條穿過(guò)多條等值線的輔助線條，利用該輔助線條與不同等值線的交點(diǎn)，確定不同區(qū)域的等值線充填顏色，并給不同充填顏色也對(duì)應(yīng)充填值；通過(guò)創(chuàng)建多條輔助線條，充填等值線圖的不同區(qū)域；然后生成顏色色棒，修改色棒為漸變色，再將色棒顏色對(duì)應(yīng)地返回到等值線圖中，生成等值線圖充填顏色。這樣利用構(gòu)造起伏的特征，實(shí)現(xiàn)等值線圖快速充填及修改，從而提高等值線圖的直觀性。

圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種繪制等值線圖的方法的實(shí)施方式二的流程圖，請(qǐng)參閱圖4，在該實(shí)施方式中，該方法包括：

s401：獲取等值線圖、斷層線數(shù)據(jù)以及邊框線數(shù)據(jù)；

s402：獲取等值線修改信息；

s403：解析所述等值線修改信息，得到等值線修改值；

s404：根據(jù)所述等值線修改值將所述等值線對(duì)應(yīng)的數(shù)值修改為等值線修改值。

s405：根據(jù)所述斷層線數(shù)據(jù)以及邊框線數(shù)據(jù)對(duì)所述等值線圖進(jìn)行閉合處理，得到包括多個(gè)閉合區(qū)域的等值線圖

s406：在所述等值線圖中繪制輔助線條，根據(jù)所述輔助線條對(duì)所述等值線圖進(jìn)行充填

s407：根據(jù)充填后的等值線圖生成所述等值線圖的色棒

s408：根據(jù)地質(zhì)要求修改所述色棒，得到漸變色棒

s409：根據(jù)所述漸變色棒充填所述等值線圖，得到漸變色等值線圖

也即，如果等值線數(shù)值需要修改，可以選擇通過(guò)上述步驟進(jìn)行修改，再根據(jù)修改后的修改值執(zhí)行步驟s405至s409。

因此，本技術(shù)方案將原始等值線進(jìn)行修改，可以快速修改等值線數(shù)值及充填顏色，從而更方便地解決地質(zhì)勘探中的實(shí)際問(wèn)題。極大地方便了工業(yè)化圖件的制作。

應(yīng)當(dāng)注意，盡管在附圖中以特定順序描述了本發(fā)明方法的操作，但是，這并非要求或者暗示必須按照該特定順序來(lái)執(zhí)行這些操作，或是必須執(zhí)行全部所示的操作才能實(shí)現(xiàn)期望的結(jié)果。附加地或備選地，可以省略某些步驟，將多個(gè)步驟合并為一個(gè)步驟執(zhí)行，和/或?qū)⒁粋€(gè)步驟分解為多個(gè)步驟執(zhí)行。

在介紹了本發(fā)明示例性實(shí)施方式之后，接下來(lái)，參考附圖對(duì)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的系統(tǒng)進(jìn)行介紹。該系統(tǒng)的實(shí)施可以參見(jiàn)上述整體的實(shí)施，重復(fù)之處不再贅述。

為了將地震解釋人員從繁重的工作中解放出來(lái)，提高準(zhǔn)確度和效率，本發(fā)明提供的一種繪制等值線圖的系統(tǒng)，請(qǐng)參閱圖5，所述系統(tǒng)包括：

數(shù)據(jù)獲取裝置101，用于獲取等值線圖、斷層線數(shù)據(jù)以及邊框線數(shù)據(jù)。在具體的實(shí)施方式中，可從工作站中獲取等值線圖極其相關(guān)地質(zhì)信息。所述等值線圖中繪制了多條等值線，每條等值線對(duì)應(yīng)一個(gè)數(shù)值。如圖9、圖10所示的具體實(shí)施例示出了多條等值線。如圖11所示的等值線的放大圖中可見(jiàn)，每條等值線對(duì)應(yīng)不同的數(shù)值，如圖11中所示的100、90等。

閉合處理裝置102，用于根據(jù)所述斷層線數(shù)據(jù)以及邊框線數(shù)據(jù)對(duì)所述等值線圖進(jìn)行閉合處理，得到包括多個(gè)閉合區(qū)域的等值線圖。

圖6為該裝置的具體結(jié)構(gòu)圖，請(qǐng)參閱圖6，該裝置包括：

斷層線繪制模塊201，用于將所述斷層線數(shù)據(jù)中的斷層線繪制于所述等值線圖中，使得所述等值線圖中的斷層與所述斷層線相交。

邊框線繪制模塊202，用于將所述邊框線數(shù)據(jù)中的邊框線繪制于所述等值線圖中，使得所述等值線數(shù)據(jù)與所述邊框線相交。

如圖12所示的具體實(shí)施例中，繪制了邊框線、斷層線后，等值線圖被分為多個(gè)閉合區(qū)域。閉合處理的總體思路是等值線和斷層線及邊框閉合，使得未閉合等值線閉合，與斷層及成圖邊框相交，即等值線的首尾兩頭相交于斷層或邊框線上。

請(qǐng)參閱圖5，該系統(tǒng)還包括線條繪制裝置103，用于在所述等值線圖中繪制輔助線條，根據(jù)所述輔助線條對(duì)所述等值線圖進(jìn)行充填。所述輔助線條包括首端點(diǎn)、n個(gè)交點(diǎn)以及末端點(diǎn)，所述交點(diǎn)為所述輔助線條與所述等值線相交形成的，所述n個(gè)交點(diǎn)從所述首端點(diǎn)至所述末端點(diǎn)方向依次為交點(diǎn)1、交點(diǎn)2、……交點(diǎn)n，所述n個(gè)交點(diǎn)對(duì)應(yīng)的等值線的數(shù)值從所述首端點(diǎn)至所述末端點(diǎn)方向呈下降趨勢(shì)。

在如圖10所示的具體實(shí)施例中，根據(jù)等值線的數(shù)值的大小順序，創(chuàng)建一條穿過(guò)多條等值線的輔助線條，線條首端點(diǎn)處于數(shù)值較大的等值線，末端處于任意數(shù)值較小的等值線。從線條首端點(diǎn)算起，每個(gè)交點(diǎn)對(duì)應(yīng)一條等值線，每個(gè)交點(diǎn)依次對(duì)應(yīng)的等值線的數(shù)值不斷變小，且不能與同一條等值線相交兩次。在圖11中，該輔助線條包括首端點(diǎn)、交點(diǎn)1、交點(diǎn)2、交點(diǎn)3以及末端點(diǎn)。

根據(jù)等值線圖的不同，可以繪制多條輔助線條，每條輔助線條均滿足上述要求。

圖7為該裝置的具體結(jié)構(gòu)框圖，請(qǐng)參閱圖7，該裝置包括：

線條繪制模塊301，用于在所述等值線圖中繪制輔助線條；

樣點(diǎn)繪制模塊302，用于在所述等值線圖中繪制所述交點(diǎn)對(duì)應(yīng)的樣點(diǎn)。當(dāng)所述交點(diǎn)為交點(diǎn)1時(shí)，所述樣點(diǎn)為所述交點(diǎn)1與所述首端點(diǎn)之間的點(diǎn)，當(dāng)所述交點(diǎn)為交點(diǎn)2、……交點(diǎn)n時(shí)，所述樣點(diǎn)為與所述交點(diǎn)相鄰的兩個(gè)交點(diǎn)之間的點(diǎn)。在圖11所述的實(shí)施例中，交點(diǎn)1對(duì)應(yīng)的樣點(diǎn)為圖11中的a，交點(diǎn)2對(duì)應(yīng)的樣點(diǎn)為圖10中的b，交點(diǎn)3對(duì)應(yīng)的樣點(diǎn)為圖10中的c，首端點(diǎn)為d，末端點(diǎn)為e。

在具體的實(shí)施例中，通過(guò)該輔助線條與不同等值線的交點(diǎn)，通過(guò)該交點(diǎn)沿著線條首端點(diǎn)處，發(fā)現(xiàn)一個(gè)距離近(諸如離交點(diǎn)2mm)的樣點(diǎn)。

區(qū)域確定模塊303，用于確定所述樣點(diǎn)所在的封閉區(qū)域。在圖11所述的實(shí)施例中，樣點(diǎn)a所在的封閉區(qū)域?yàn)閍，樣點(diǎn)b所在的封閉區(qū)域?yàn)閎。

單一色充填模塊304，用于對(duì)所述封閉區(qū)域進(jìn)行單一顏色的充填，所述交點(diǎn)對(duì)應(yīng)的等值線的數(shù)值作為所述封閉區(qū)域的充填值。通過(guò)該樣點(diǎn)對(duì)其所在的封閉區(qū)域進(jìn)行充填，同時(shí)獲得相交等值線的數(shù)值，并作為充填值。在具體的實(shí)施方式中，以此類推，每個(gè)交點(diǎn)都沿著線條首端點(diǎn)處繪制一個(gè)樣點(diǎn)，然后對(duì)該區(qū)域進(jìn)行充填并賦值，可以得到該輔助線條相交的等值線充填效果。以此類推，對(duì)等值線圖的各個(gè)區(qū)域進(jìn)行充填，最終覆蓋整個(gè)等值線圖。這時(shí)所有的充填色均為默認(rèn)的單一顏色，而不是漸變色，但每個(gè)充填色塊的數(shù)值是不同的。

圖12為本發(fā)明提供的具體實(shí)施例中根據(jù)輔助線條進(jìn)行等值線充填單一顏色示意圖。在圖11所示的實(shí)施例中，封閉區(qū)域a的充填值即為100。

請(qǐng)參閱圖5，該系統(tǒng)還包括色棒生成裝置104，用于根據(jù)充填后的等值線圖生成所述等值線圖的色棒。也即，根據(jù)所述封閉區(qū)域的充填值生成所述等值線圖的色棒，所述色棒為單一顏色。等值線圖中的每個(gè)封閉區(qū)域?qū)?yīng)色棒中的一個(gè)區(qū)域，因步驟s103是通過(guò)單一顏色進(jìn)行填充，因此此處得到的色棒為單一色棒，如圖14所示的原始色棒。

色棒修改裝置105，用于根據(jù)地質(zhì)要求修改所述色棒，得到漸變色棒?？筛鶕?jù)地質(zhì)任務(wù)修改色棒中某些色條的顏色，生成一個(gè)漸變的顏色。如圖15所示，可在圖14中任意修改多個(gè)顏色，然后將相鄰兩個(gè)顏色根據(jù)顏色數(shù)值進(jìn)行內(nèi)插，得到圖16所示的漸變色棒。

線圖充填裝置106，用于根據(jù)所述漸變色棒充填所述等值線圖，得到漸變色等值線圖。即將所述等值線圖中的封閉區(qū)域按照充填值替換為所述漸變色棒中的對(duì)應(yīng)顏色。因每個(gè)封閉區(qū)域具有一個(gè)充填值，每個(gè)充填值對(duì)應(yīng)色棒中的一個(gè)顏色，因此根據(jù)漸變色棒中的顏色充填該封閉區(qū)域，即可得到漸變色等值線圖，如圖17為單一顏色充填的等值線圖，圖18為漸變色棒充填后的等值線圖。

如上所述，即為本發(fā)明提供的一種繪制等值線圖的系統(tǒng)，本方案將等值線與斷層及邊框閉合后，根據(jù)等值線數(shù)值的大小順序，創(chuàng)建一條穿過(guò)多條等值線的輔助線條，利用該輔助線條與不同等值線的交點(diǎn)，確定不同區(qū)域的等值線充填顏色，并給不同充填顏色也對(duì)應(yīng)充填值；通過(guò)創(chuàng)建多條輔助線條，充填等值線圖的不同區(qū)域；然后生成顏色色棒，修改色棒為漸變色，再將色棒顏色對(duì)應(yīng)地返回到等值線圖中，生成等值線圖充填顏色。這樣利用構(gòu)造起伏的特征，實(shí)現(xiàn)等值線圖快速充填及修改，從而提高等值線圖的直觀性。

圖8為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種繪制等值線圖的系統(tǒng)的實(shí)施方式二的結(jié)構(gòu)框圖，請(qǐng)參閱圖8，在該實(shí)施方式中，該系統(tǒng)還包括：等值線修改裝置107，包括：

信息獲取模塊，用于獲取等值線修改信息；

信息解析模塊，用于解析所述等值線修改信息，得到等值線修改值；

等值線修改模塊，用于根據(jù)所述等值線修改值將所述等值線對(duì)應(yīng)的數(shù)值修改為等值線修改值。

也即，如果等值線數(shù)值需要修改，可以選擇通過(guò)上述裝置進(jìn)行修改，再根據(jù)修改后的修改值執(zhí)行步驟閉合處理裝置等裝置。

因此，本技術(shù)方案將原始等值線進(jìn)行修改，可以快速修改等值線數(shù)值及充填顏色，從而更方便地解決地質(zhì)勘探中的實(shí)際問(wèn)題。極大地方便了工業(yè)化圖件的制作。

此外，盡管在上文詳細(xì)描述中提及了系統(tǒng)的若干單元模塊，但是這種劃分僅僅并非強(qiáng)制性的。實(shí)際上，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，上文描述的兩個(gè)或更多單元的特征和功能可以在一個(gè)單元中具體化。同樣，上文描述的一個(gè)單元的特征和功能也可以進(jìn)一步劃分為由多個(gè)單元來(lái)具體化。以上所使用的術(shù)語(yǔ)“模塊”和“單元”，可以是實(shí)現(xiàn)預(yù)定功能的軟件和/或硬件。盡管以下實(shí)施例所描述的模塊較佳地以軟件來(lái)實(shí)現(xiàn)，但是硬件，或者軟件和硬件的組合的實(shí)現(xiàn)也是可能并被構(gòu)想的。

對(duì)于一個(gè)技術(shù)的改進(jìn)可以很明顯地區(qū)分是硬件上的改進(jìn)(例如，對(duì)二極管、晶體管、開(kāi)關(guān)等電路結(jié)構(gòu)的改進(jìn))還是軟件上的改進(jìn)(對(duì)于方法流程的改進(jìn))。然而，隨著技術(shù)的發(fā)展，當(dāng)今的很多方法流程的改進(jìn)已經(jīng)可以視為硬件電路結(jié)構(gòu)的直接改進(jìn)。設(shè)計(jì)人員幾乎都通過(guò)將改進(jìn)的方法流程編程到硬件電路中來(lái)得到相應(yīng)的硬件電路結(jié)構(gòu)。因此，不能說(shuō)一個(gè)方法流程的改進(jìn)就不能用硬件實(shí)體模塊來(lái)實(shí)現(xiàn)。例如，可編程邏輯器件(programmablelogicdevice,pld)(例如現(xiàn)場(chǎng)可編程門陣列(fieldprogrammablegatearray，fpga))就是這樣一種集成電路，其邏輯功能由用戶對(duì)器件編程來(lái)確定。由設(shè)計(jì)人員自行編程來(lái)把一個(gè)數(shù)字系統(tǒng)“集成”在一片pld上，而不需要請(qǐng)芯片制造廠商來(lái)設(shè)計(jì)和制作專用的集成電路芯片2。而且，如今，取代手工地制作集成電路芯片，這種編程也多半改用“邏輯編譯器(logiccompiler)”軟件來(lái)實(shí)現(xiàn)，它與程序開(kāi)發(fā)撰寫時(shí)所用的軟件編譯器相類似，而要編譯之前的原始代碼也得用特定的編程語(yǔ)言來(lái)撰寫，此稱之為硬件描述語(yǔ)言(hardwaredescriptionlanguage，hdl)，而hdl也并非僅有一種，而是有許多種，如abel(advancedbooleanexpressionlanguage)、ahdl(alterahardwaredescriptionlanguage)、confluence、cupl(cornelluniversityprogramminglanguage)、hdcal、jhdl(javahardwaredescriptionlanguage)、lava、lola、myhdl、palasm、rhdl(rubyhardwaredescriptionlanguage)等，目前最普遍使用的是vhdl(very-high-speedintegratedcircuithardwaredescriptionlanguage)與verilog2。本領(lǐng)域技術(shù)人員也應(yīng)該清楚，只需要將方法流程用上述幾種硬件描述語(yǔ)言稍作邏輯編程并編程到集成電路中，就可以很容易得到實(shí)現(xiàn)該邏輯方法流程的硬件電路。

控制器可以按任何適當(dāng)?shù)姆绞綄?shí)現(xiàn)，例如，控制器可以采取例如微處理器或處理器以及存儲(chǔ)可由該(微)處理器執(zhí)行的計(jì)算機(jī)可讀程序代碼(例如軟件或固件)的計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)、邏輯門、開(kāi)關(guān)、專用集成電路(applicationspecificintegratedcircuit，asic)、可編程邏輯控制器和嵌入微控制器的形式，控制器的例子包括但不限于以下微控制器：arc625d、atmelat91sam、microchippic18f26k20以及siliconelabsc8051f320，存儲(chǔ)器控制器還可以被實(shí)現(xiàn)為存儲(chǔ)器的控制邏輯的一部分。

本領(lǐng)域技術(shù)人員也知道，除了以純計(jì)算機(jī)可讀程序代碼方式實(shí)現(xiàn)控制器以外，完全可以通過(guò)將方法步驟進(jìn)行邏輯編程來(lái)使得控制器以邏輯門、開(kāi)關(guān)、專用集成電路、可編程邏輯控制器和嵌入微控制器等的形式來(lái)實(shí)現(xiàn)相同功能。因此這種控制器可以被認(rèn)為是一種硬件部件，而對(duì)其內(nèi)包括的用于實(shí)現(xiàn)各種功能的裝置也可以視為硬件部件內(nèi)的結(jié)構(gòu)?；蛘呱踔?，可以將用于實(shí)現(xiàn)各種功能的裝置視為既可以是實(shí)現(xiàn)方法的軟件模塊又可以是硬件部件內(nèi)的結(jié)構(gòu)。

上述實(shí)施例闡明的系統(tǒng)、裝置、模塊或單元，具體可以由計(jì)算機(jī)芯片或?qū)嶓w實(shí)現(xiàn)，或者由具有某種功能的產(chǎn)品來(lái)實(shí)現(xiàn)。

為了描述的方便，描述以上裝置時(shí)以功能分為各種單元分別描述。當(dāng)然，在實(shí)施本申請(qǐng)時(shí)可以把各單元的功能在同一個(gè)或多個(gè)軟件和/或硬件中實(shí)現(xiàn)。

通過(guò)以上的實(shí)施方式的描述可知，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以清楚地了解到本申請(qǐng)可借助軟件加必需的通用硬件平臺(tái)的方式來(lái)實(shí)現(xiàn)。基于這樣的理解，本申請(qǐng)的技術(shù)方案本質(zhì)上或者說(shuō)對(duì)現(xiàn)有技術(shù)做出貢獻(xiàn)的部分可以以軟件產(chǎn)品的形式體現(xiàn)出來(lái)，該計(jì)算機(jī)軟件產(chǎn)品可以存儲(chǔ)在存儲(chǔ)介質(zhì)中，如rom/ram、磁碟、光盤等，包括若干指令用以使得一臺(tái)計(jì)算機(jī)設(shè)備(可以是個(gè)人計(jì)算機(jī)，服務(wù)器，或者網(wǎng)絡(luò)設(shè)備等)執(zhí)行本申請(qǐng)各個(gè)實(shí)施例或者實(shí)施例的某些部分所述的方法。

本說(shuō)明書中的各個(gè)實(shí)施例均采用遞進(jìn)的方式描述，各個(gè)實(shí)施例之間相同相似的部分互相參見(jiàn)即可，每個(gè)實(shí)施例重點(diǎn)說(shuō)明的都是與其他實(shí)施例的不同之處。尤其，對(duì)于系統(tǒng)實(shí)施例而言，由于其基本相似于方法實(shí)施例，所以描述的比較簡(jiǎn)單，相關(guān)之處參見(jiàn)方法實(shí)施例的部分說(shuō)明即可。

本申請(qǐng)可用于眾多通用或?qū)Ｓ玫挠?jì)算機(jī)系統(tǒng)環(huán)境或配置中。例如：個(gè)人計(jì)算機(jī)、服務(wù)器計(jì)算機(jī)、手持設(shè)備或便攜式設(shè)備、平板型設(shè)備、多處理器系統(tǒng)、基于微處理器的系統(tǒng)、置頂盒、可編程的消費(fèi)電子設(shè)備、網(wǎng)絡(luò)pc、小型計(jì)算機(jī)、大型計(jì)算機(jī)、包括以上任何系統(tǒng)或設(shè)備的分布式計(jì)算環(huán)境等等。

本申請(qǐng)可以在由計(jì)算機(jī)執(zhí)行的計(jì)算機(jī)可執(zhí)行指令的一般上下文中描述，例如程序模塊。一般地，程序模塊包括執(zhí)行特定任務(wù)或?qū)崿F(xiàn)特定抽象數(shù)據(jù)類型的例程、程序、對(duì)象、組件、數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)等等。也可以在分布式計(jì)算環(huán)境中實(shí)踐本申請(qǐng)，在這些分布式計(jì)算環(huán)境中，由通過(guò)通信網(wǎng)絡(luò)而被連接的遠(yuǎn)程處理設(shè)備來(lái)執(zhí)行任務(wù)。在分布式計(jì)算環(huán)境中，程序模塊可以位于包括存儲(chǔ)設(shè)備在內(nèi)的本地和遠(yuǎn)程計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)介質(zhì)中。

雖然通過(guò)實(shí)施例描繪了本申請(qǐng)，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員知道，本申請(qǐng)有許多變形和變化而不脫離本申請(qǐng)的精神，希望所附的權(quán)利要求包括這些變形和變化而不脫離本申請(qǐng)的精神。