本發(fā)明涉及一種快速分析目標(biāo)單站電磁散射特性的一種方法,尤其涉及一種基于改進(jìn)cbfm算法來進(jìn)一步減少基函數(shù)生成個數(shù)從而達(dá)到快速分析目標(biāo)單站電磁散射特性的方法。
背景技術(shù):
矩量法(methodofmoments,mom)作為分析目標(biāo)電磁散射特性一種有效的方法,一經(jīng)提出便受到國內(nèi)外學(xué)者的廣泛關(guān)注。然而應(yīng)用矩量法直接求解目標(biāo)單站rcs時,復(fù)雜度o(n3)隨著未知量的個數(shù)n急劇增加,相應(yīng)的計(jì)算效率也變得低下。
特征基函數(shù)法(characteristicbasicfunctionmethod,cbfm)基于分塊原理,將目標(biāo)分為m個子域,在每一個子域中定義特征基函數(shù)(cbfs)來進(jìn)行求解。cbfm算法減少了未知量的求解個數(shù),降低了計(jì)算時間與計(jì)算消耗的內(nèi)存。然而,對于單站rcs的分析,特征基函數(shù)法在構(gòu)造基函數(shù)時依賴于大量的入射平面波激勵,隨著目標(biāo)體積增大生成的基函數(shù)個數(shù)較多,奇異值分解時間長,且構(gòu)造的縮減矩陣的儲存與求解也變得困難。
一種解決的方法是基于奇異值分解的改進(jìn)特征基函數(shù)法(svd-cbfm),該方法通過充分考慮子域間的耦合作用來減少入射激勵波的個數(shù),從而減少特征基函數(shù)的個數(shù)與svd計(jì)算的時間,然而該方法忽略了激勵中的冗余信息,且計(jì)算次要特征基函數(shù)使得基函數(shù)的數(shù)目增多。本發(fā)明提出了另一種基于改進(jìn)的特征基函數(shù)法,該方法能夠有效地減少入射平面波激勵與基函數(shù)的數(shù)目,生成的縮減矩陣易于存儲與求解,計(jì)算效率高,且非常適用于求解目標(biāo)單站電磁散射特性的問題。
本發(fā)明公開一種基于改進(jìn)cbfm的快速求解目標(biāo)單站電磁散射特性的方法。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
發(fā)明目的:本發(fā)明解決的是快速分析目標(biāo)單站電磁散射特性的問題,本發(fā)明提出了另一種基于改進(jìn)的特征基函數(shù)法來減少計(jì)算所需要的入射激勵平面波的個數(shù),本發(fā)明首先考慮到了激勵中存在的冗余信息,在利用svd算法去除激勵中的冗余信息后充分考慮子域間對的耦合作用,計(jì)算出每個子域的次要特征基函數(shù)(scbf),最后通過數(shù)學(xué)轉(zhuǎn)換,將每個子域的主要特征基函數(shù)(pcbf)與次要特征基函數(shù)(scbf)進(jìn)行整合,得到一個改進(jìn)的特征基函數(shù)(icbf)。由于icbf包含了pcbf與scbf的信息,因此精確度得到保障,且基函數(shù)的數(shù)目沒有增多。本發(fā)明提出的方法在分析目標(biāo)單站電磁散射特性時能夠有效的減少計(jì)算所需要的入射平面波激勵的個數(shù),同時減少了基函數(shù)的生成個數(shù),間接地也降低了縮減矩陣的維數(shù),節(jié)約計(jì)算時間,大大地提高了計(jì)算效率。
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明的技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的基本步驟如下:
第1步:根據(jù)矩量法(mom)的基本原理,將用基本電磁場理論分析得到的目標(biāo)表面連續(xù)的積分方程離散為矩陣方程。
第2步:依據(jù)特征基函數(shù)法(cbfm)的原理,對整個導(dǎo)體目標(biāo)表面進(jìn)行分塊,每一塊作為一個獨(dú)立的子域進(jìn)行求解,最后將每一個子域求得的表面電流經(jīng)過線性組合得到整個目標(biāo)表面的電流信息。
第3步:由于分析目標(biāo)單站電磁散射特性時,特征基函數(shù)(cbfs)的建立依賴于不同入射角度、不同極化方式的入射平面波激勵。在每一個子域進(jìn)行求解過程中,考慮到入射平面波中存在大量的冗余信息,利用svd算法去除入射平面波中的冗余信息。
第4步:為了提高計(jì)算精度,每一個子域除計(jì)算主要特征基函數(shù)(pcbf)外還需計(jì)算出次要特征基函數(shù)(scbf),并通過數(shù)學(xué)公式轉(zhuǎn)換,得到一個改進(jìn)的特征基函數(shù)(icbf)。由于icbf包含了pcbf與scbf的信息,因此在提高計(jì)算精度的同時沒有增加基函數(shù)的數(shù)目。
第5步:構(gòu)建縮減矩陣,并利用自適應(yīng)壓縮近似來加快矩陣方程的求解。
第6步:根據(jù)第五步得到的結(jié)果,解出單站目標(biāo)rcs的值。
與現(xiàn)有的技術(shù)相比,本發(fā)明的優(yōu)勢在于:通過去除入射激勵中的冗余信息來減少入射平面波的個數(shù),從而也間接減少了基函數(shù)的生成數(shù)目。之后又充分考慮到了子域間的耦合效應(yīng),計(jì)算出了主要特征基函數(shù)(pcbf)后又計(jì)算得到次要特征基函數(shù)(scbf),通過構(gòu)造改進(jìn)特征基函數(shù)(icbf)來進(jìn)一步減少基函數(shù)的數(shù)目。由于icbf包含了pcbf與scbf的信息,因此計(jì)算精度得到有效保障?;瘮?shù)數(shù)量的進(jìn)一步減少,降低了計(jì)算時間與計(jì)算內(nèi)存的需要,有效的提高了單站目標(biāo)電磁散射直接求解的效率。
附圖說明
圖1是本發(fā)明對每一個子域的入射激勵運(yùn)用svd分解前后的對比示意圖。其中圖1(a)表示用svd去冗余之前的激勵
圖2是本發(fā)明每一個子域改進(jìn)特征基函數(shù)(icbf)構(gòu)造示意圖。
圖3是本發(fā)明方法與一般cbfm算法在兩種極化方式下的算例結(jié)果與mom法計(jì)算所得的精確結(jié)果對比示意圖。
其中圖3(a)表示在θθ極化下,圖3(b)表示在φφ極化下。
具體實(shí)施方案
第1步:根據(jù)矩量法(mom)的基本原理,將用基本電磁場理論分析得到的目標(biāo)表面連續(xù)的積分方程離散為矩陣方程。
zj=v(1)
其中z∈cn×n為阻抗矩陣,v∈cn×n為入射的平面波激勵,j表示為相應(yīng)的系數(shù)矩陣,n表示未知量的個數(shù)。
第2步:依據(jù)特征基函數(shù)法(cbfm)的原理,對整個導(dǎo)體目標(biāo)表面進(jìn)行分塊,假設(shè)目標(biāo)被分成m個子域,每一塊作為一個獨(dú)立的子域進(jìn)行求解,最后將每一個子域求得的表面電流經(jīng)過線性組合得到整個目標(biāo)表面的電流信息。
對于每一個子域,特征基函數(shù)(cbfs)通過下式獲得:
其中i=1,2,3…m,
其中
其中
其中h表示的是共軛轉(zhuǎn)置,zij表示子域i與子域j之間的原始阻抗矩陣,vi表示子域i原始的激勵。當(dāng)縮減矩陣zr構(gòu)造成功,則每個子域相應(yīng)的特征基函數(shù)的系數(shù)ai就可由式(4)求出,將解得的系數(shù)ai代入式(3)中,則目標(biāo)表面的電流就可以輕松求得。
第3步:由于分析目標(biāo)單站電磁散射特性時,特征基函數(shù)(cbfs)的建立依賴于不同入射角度、不同極化方式的入射平面波激勵。在每一個子域進(jìn)行求解過程中,考慮到入射平面波中存在大量的冗余信息,冗余的信息會增加方程的個數(shù),從而增加了計(jì)算難度與計(jì)算時間,所以采用svd算法對入射激勵進(jìn)行去冗余:
其中
產(chǎn)生的基函數(shù)的數(shù)目也由原來的npws×m變?yōu)閗×m,因?yàn)閗<<npws所以計(jì)算時間與計(jì)算得到的基函數(shù)的數(shù)目也相應(yīng)的減少,計(jì)算效率得到有效地提升。
第4步:為了提高計(jì)算精度,每一個子域除計(jì)算主要特征基函數(shù)(pcbf)外還需計(jì)算出次要特征基函數(shù)(scbf),并通過數(shù)學(xué)公式轉(zhuǎn)換,得到一個改進(jìn)的特征基函數(shù)(icbf)。由于主要特征基函數(shù)與一階次要特征基函數(shù)幾乎包含了目標(biāo)表面全部的電流信息,因此本發(fā)明專利只計(jì)算到二階次要特征基函數(shù),表達(dá)式如下:
其中
其中vi'與vi”分別表示
第5步:構(gòu)建縮減矩陣,并利用自適應(yīng)壓縮近似來加快矩陣方程的求解速度。用第4步構(gòu)造的特征基函數(shù)替代第2步中的基函數(shù)來構(gòu)造縮減矩陣zr,通過式(4)求解出目標(biāo)表面的電流系數(shù)。在求解的過程中,可以采用aca算法來加快求解速度,對于互阻抗矩陣通常不是滿秩的,因此可以拆分為兩個滿秩矩陣的乘積形式即:
zij≈zvzu(11)
其中
zijjj≈zv(zujj)(12)
這樣,基函數(shù)計(jì)算的復(fù)雜度就由原來的ni×nj變?yōu)閞×(ni+nj),同樣將式(11)與式(12)代入式(5)中則:
縮減矩陣的構(gòu)造復(fù)雜度也由原來的(ni+1)×nj減小到(ni+nj+1)×r,因?yàn)閞≤min(ni,nj),故矩陣方程的求解速度得到明顯的提升。
第6步:根據(jù)第五步求得的電流系數(shù)a,解出單站目標(biāo)rcs的值,表達(dá)式為:
其中es為散射場,ei為入射場。
下面就具體算例對本發(fā)明方法做進(jìn)一步的說明:
本發(fā)明以一個杏仁體的散射問題為研究對象加以詳細(xì)論述,杏仁體長度為252.374mm。入射頻率為7ghz,入射平面波激勵的數(shù)目為nφ=nθ=20,nθ與nφ分別表示平面波在θ與φ兩種極化方式下的入射波的數(shù)目。所有計(jì)算均在cpu型號inter(r)core(tm)i5-6500,運(yùn)行內(nèi)存為3.2ghz(只有一個內(nèi)核被使用)以及配有16gb的ram的pc機(jī)上進(jìn)行。為了論證算法的有效性,先對相對誤差進(jìn)行說明:
err=(||i-imom||2/||imom||2)×100%(15)
其中i為改進(jìn)的cbfm或一般cbfm計(jì)算得到的表面電流系數(shù),imom為feko軟件得到的目標(biāo)表面精確的電流系數(shù)。
下面按照技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)目標(biāo)單站rcs的快速求解。
首先根據(jù)第1~3步,對目標(biāo)表面用三角單元進(jìn)行剖分得到11564個三角單元,共27579個未知量,整個目標(biāo)被分為8個子域。
然后根據(jù)第4~6步,運(yùn)用改進(jìn)的特征基函數(shù)法,求得目標(biāo)表面感應(yīng)的電流系數(shù),最終求解出導(dǎo)體目標(biāo)的rcs。
最終解出杏仁體目標(biāo)的雷達(dá)散射截面如附圖3所示。從附圖3中可以看出本發(fā)明提出的方法(i-cbfm)對杏仁體在兩種極化方式下的計(jì)算結(jié)果與mom和一般的cbfm解析得到的結(jié)果均有較好的吻合度。本發(fā)明與一般的cbfm方法相比較,在相同的情況下,基函數(shù)的數(shù)量與縮減矩陣的維數(shù)均有明顯的減少(見附表1),且本發(fā)明方法在計(jì)算時間上優(yōu)勢也很很明顯,本發(fā)明方法計(jì)算杏仁體算例用時3155.86s,而用一般的cbfm算法耗時為4533.61s。附表2中還具體說明了在svd取不同的門限下,本發(fā)明與一般cbfm的相對誤差比較。可以看出本發(fā)明提出的快速算法效率明顯比一般的cbfm高,用來分析目標(biāo)單站的電磁散射特性非常適合。
附表1兩種方法每個子域生成的基函數(shù)數(shù)目以及縮減矩陣維數(shù)對比
附表2兩種方法在svd不同門限值下目標(biāo)總體的基函數(shù)數(shù)目與相對誤差對比