一種彩色觸摸屏面板的制備方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種彩色觸摸屏面板的制備方法，包括以下步驟：提供基板；在所述基板上涂布正性光刻膠層；對所述正性光刻膠層進(jìn)行曝光、顯影、固化，曝光的部分被顯影掉，未曝光的部分被保留；在正性光刻膠層的保留部分上和基板上相應(yīng)于正性光刻膠層的顯影掉部分區(qū)域形成光學(xué)膜層；對正性光刻膠層的保留部分進(jìn)行脫膜，以致覆蓋在正性光刻膠層的保留部分上的光學(xué)膜層的部分被去除，覆蓋在基板上相應(yīng)于正性光刻膠的顯影掉部分區(qū)域的光學(xué)膜層的部分被保留；在光學(xué)膜層的保留部分上形成不透明絕緣層。本發(fā)明避免了氫氟化物對環(huán)境造成污染以及對玻璃材質(zhì)的基板產(chǎn)生腐蝕的問題，從而提高了良品率，并且制造過程更易控制、適宜大批量生產(chǎn)。
【專利說明】一種彩色觸摸屏面板的制備方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及觸摸屏【技術(shù)領(lǐng)域】，具體地說涉及一種彩色觸摸屏面板的制備方法。

【背景技術(shù)】
[0002]觸摸屏制造技術(shù)越來越成熟，采用將觸控單元做在觸摸屏面蓋上的0GS(oneglass solut1n)方式是實(shí)現(xiàn)觸摸屏超薄化的主流方式,而隨著觸摸屏技術(shù)的發(fā)展,外觀彩色化、個(gè)性化成為發(fā)展的趨勢。
[0003]現(xiàn)有的一種彩色觸摸屏面板包括基板、覆蓋在基板上的光學(xué)膜層和覆蓋在光學(xué)膜層上的不透明絕緣層，光學(xué)膜層和不透明絕緣層的圖案相同且對應(yīng)，當(dāng)有光線經(jīng)過所述基板照射到所述光學(xué)膜時(shí)，一部分光線會被光學(xué)膜與基板的接觸界面反射，再次經(jīng)過基板后出射，另一部分光線會入射到光學(xué)膜內(nèi)，經(jīng)過光學(xué)膜與不透明絕緣層的接觸面反射，再經(jīng)過光學(xué)膜以及基板出射，這樣，兩部分出射光線之間就會具有光程差，進(jìn)而形成干涉，使得所述基板的相應(yīng)區(qū)域顯示出紅色、藍(lán)色、銀色等具有金屬光澤的彩色。這種結(jié)構(gòu)的彩色觸摸屏面板能夠滿足市場對超薄化和外觀彩色化的要求。
[0004]目前制備上述彩色觸摸屏面板的方法是先在基板上鍍制一層光學(xué)膜，然后絲印或旋涂上黑、白色油墨，最后采用氫氟化物將光學(xué)膜蝕刻出所需要的圖案。這種制備方法雖然能夠得到以上結(jié)構(gòu)的彩色觸摸屏面板，但是其仍然存在以下問題:由于制備過程中需要使用氫氟化物，而氫氟化物的增溫潛勢是二氧化碳的23000倍，其對氣候變化有非常大的影響，因此氫氟化物對環(huán)境污染很大，必須嚴(yán)格控制，而且氫氟化物能夠腐蝕玻璃材質(zhì)的基板，一旦玻璃材質(zhì)的基板受到損傷則產(chǎn)品報(bào)廢，因而這種制備方法的廢品率比較高。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種良品率高且環(huán)保的彩色觸摸屏面板的制備方法。
[0006]為解決以上技術(shù)問題，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:一種彩色觸摸屏面板的制備方法，包括以下步驟:
[0007]提供基板；
[0008]在所述基板上涂布正性光刻膠層；
[0009]對所述正性光刻膠層進(jìn)行曝光、顯影、固化，曝光的部分被顯影掉，未曝光的部分被保留；
[0010]在正性光刻膠層的保留部分上和基板上相應(yīng)于正性光刻膠層的顯影掉部分區(qū)域形成光學(xué)膜層；
[0011]對正性光刻膠層的保留部分進(jìn)行脫膜，以致覆蓋在正性光刻膠層的保留部分上的光學(xué)膜層的部分被去除，覆蓋在基板上相應(yīng)于正性光刻膠的顯影掉部分區(qū)域的光學(xué)膜層的部分被保留；
[0012]在光學(xué)膜層的保留部分上形成不透明絕緣層。
[0013]本發(fā)明提供的彩色觸摸屏面板的制備方法通過正性光刻膠的曝光、顯影、固化和脫膜將覆蓋在正性光刻膠層的保留部分上的光學(xué)膜層的部分被去除，從而將光學(xué)膜層蝕刻出所需要的圖案，這樣就不需要采用氫氟化物來對光學(xué)膜進(jìn)行蝕刻以制出所需圖案，避免了氫氟化物對環(huán)境造成污染以及對玻璃材質(zhì)的基板產(chǎn)生腐蝕的問題，從而提高了良品率，并且制造過程更易控制、適宜大批量生產(chǎn)。
[0014]優(yōu)選的，所述形成光學(xué)膜層的過程在低于100°C的條件下進(jìn)行。正性光刻膠在高溫下會完全固化，而完全固化的正性光刻膠不易被脫膜，因此采用以上條件可以避免正性光刻膠在形成光學(xué)膜層的過程中完全固化，這樣有利于后續(xù)的脫膜步驟，保證正性光刻膠在脫膜后無殘留。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]圖1是現(xiàn)有制備方法和本發(fā)明一種彩色觸摸屏面板的制備方法制得的彩色觸摸屏面板的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]圖2至圖7是采用本發(fā)明一種彩色觸摸屏面板的制備方法制得的彩色觸摸屏面板的各個(gè)階段的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0017]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步描述:
[0018]本部分對本發(fā)明實(shí)驗(yàn)中所使用到的材料以及試驗(yàn)方法進(jìn)行一般性的描述。雖然為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的所使用的許多材料和操作方法是本領(lǐng)域公知的，但是本發(fā)明在此作盡可能詳細(xì)描述。本領(lǐng)域技術(shù)人員清楚，在下文中，如果未特別說明，本發(fā)明所用材料、設(shè)備和操作方法是本領(lǐng)域公知的。
[0019]參見圖1，現(xiàn)有制備方法和本發(fā)明彩色觸摸屏面板的制備方法制得的彩色觸摸屏面板包括基板1、覆蓋在基板I上的光學(xué)膜層2和覆蓋在光學(xué)膜層2上的不透明絕緣層3。
[0020]參見圖2至圖7，本發(fā)明提供的一種彩色觸摸屏面板的制備方法，包括以下步驟:
[0021]提供基板1，基板I通常要具有較高的透明度、較低的反射率、較好的熱穩(wěn)定性和抗腐蝕性、較高的機(jī)械強(qiáng)度和較好的機(jī)械加工特性，可以選用玻璃基板、透明亞克力基材和其它透明改版基材等，在涂布正性光刻膠層4之前先采用滾刷或盤刷、洗劑噴淋、純水噴淋等方式對基板I表面的顆粒或油污進(jìn)行清潔，以保證正性光刻膠的附著力；
[0022]在所述基板2上涂布正性光刻膠層4，本發(fā)明采用輥涂的方式將正性光刻膠均勻的涂布在基板I的表面；
[0023]對所述正性光刻膠層4進(jìn)行曝光、顯影、固化，曝光的部分被顯影掉，未曝光的部分被保留，正性光刻膠在曝光后變?yōu)榭扇埽@影時(shí)曝光的部分溶解于顯影液，曝光的鉻版圖案與油墨鉻版圖案相同，固化溫度在110°c以下；
[0024]在正性光刻膠層4的保留部分上和基板I上相應(yīng)于正性光刻膠層4的顯影掉部分區(qū)域形成光學(xué)膜層2，本發(fā)明采用磁控濺射的鍍膜方法來形成光學(xué)膜層2，鍍膜溫度低于100°C，靶材采用SI靶、NB靶或S102靶材、NB20X靶材，電源采用對應(yīng)的直流或中頻、射頻電源，該光學(xué)膜層2的厚度在幾十到幾百納米，呈透明或半透明狀，膜層為一層或多層疊加；
[0025]對正性光刻膠層4的保留部分進(jìn)行脫膜，以致覆蓋在正性光刻膠層4的保留部分上的光學(xué)膜層2的部分被去除，覆蓋在基板I上相應(yīng)于正性光刻膠4的顯影掉部分區(qū)域的光學(xué)膜層2的部分被保留，脫膜采用脫膜液，脫膜液是一種堿液，與正性光刻膠對應(yīng)，由于光學(xué)膜層2很薄，脫膜液可以透過光學(xué)膜層2腐蝕到下面的正性光刻膠，從而將正性光刻膠層4的保留部分去除，最終在正性光刻膠層4的保留部分上的光學(xué)膜層2的部分會非常完整的隨著正性光刻膠層4的保留部分而脫掉，而覆蓋在基板I上相應(yīng)于正性光刻膠4的顯影掉部分區(qū)域的光學(xué)膜層2的部分不受影響而被保留；
[0026]在光學(xué)膜層2的保留部分上形成不透明絕緣層3，本發(fā)明采用旋涂或噴涂方式制作不透明絕緣層3，不透明絕緣層3的材料采用抗腐蝕、耐高溫的黑色或白色油墨，該不透明絕緣層3與光學(xué)膜層2的圖案相同且對應(yīng)。
[0027]在最終所得的彩色觸摸屏面板上可繼續(xù)制作觸控單元等其它結(jié)構(gòu)。
[0028]應(yīng)當(dāng)理解本文所述的例子和實(shí)施方式僅為了說明，本領(lǐng)域技術(shù)人員可根據(jù)它做出各種修改或變化，都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種彩色觸摸屏面板的制備方法，包括以下步驟: 提供基板； 在所述基板上涂布正性光刻膠層； 對所述正性光刻膠層進(jìn)行曝光、顯影、固化，曝光的部分被顯影掉，未曝光的部分被保留; 在正性光刻膠層的保留部分上和基板上相應(yīng)于正性光刻膠層的顯影掉部分區(qū)域形成光學(xué)膜層； 對正性光刻膠層的保留部分進(jìn)行脫膜，以致覆蓋在正性光刻膠層的保留部分上的光學(xué)膜層的部分被去除，覆蓋在基板上相應(yīng)于正性光刻膠的顯影掉部分區(qū)域的光學(xué)膜層的部分被保留； 在光學(xué)膜層的保留部分上形成不透明絕緣層。
2.如權(quán)利要求1所述的一種彩色觸摸屏面板的制備方法，其特征在于:所述形成光學(xué)膜層的過程在低于100°C的條件下進(jìn)行。
【文檔編號】G06F3/041GK104182085SQ201410418961
【公開日】2014年12月3日 申請日期:2014年8月22日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月22日
【發(fā)明者】茆令文, 樊黎虎, 曹緒文, 張少波, 喬輝 申請人:安徽方興科技股份有限公司