觸摸屏用透明導(dǎo)電體及其制備方法和應(yīng)用的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種觸摸屏用透明導(dǎo)電體及其制備方法和應(yīng)用。該觸摸屏用透明導(dǎo)電體的制備方法，包括以下步驟：在透明基材的一個(gè)表面涂上光刻膠；對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光、顯影、以在透明基材的表面上形成圖案區(qū)；在透明基材的表面沿圖案區(qū)蝕刻出凹槽；去除剩余的光刻膠；將含有導(dǎo)電材料的漿料填充在凹槽中，并進(jìn)行烘干，形成導(dǎo)電圖案，得到具有導(dǎo)電圖案的透明基材；在具有導(dǎo)電圖案的透明基材的表面形成絕緣保護(hù)層，得到觸摸屏用透明導(dǎo)電體。上述觸摸屏用透明導(dǎo)電體的制備方法，制作工藝簡(jiǎn)便，能夠提高生產(chǎn)效率；同時(shí)，由于采用“加法”生產(chǎn)工藝，將導(dǎo)電材料嵌入透明基材中，減少了導(dǎo)電材料的使用量。
【專利說(shuō)明】觸摸屏用透明導(dǎo)電體及其制備方法和應(yīng)用
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及觸摸屏領(lǐng)域，特別是涉及一種觸摸屏用透明導(dǎo)電體及其制備方法和應(yīng)用。
【背景技術(shù)】
[0002]觸摸屏設(shè)備由于其堅(jiān)固耐用、反應(yīng)速度快、節(jié)省空間、易于交流等諸多優(yōu)點(diǎn)得到大眾的認(rèn)同，可以說(shuō)它是目前最簡(jiǎn)單、方便、自然的一種人機(jī)交互方式。觸控屏設(shè)備在手機(jī)、電腦、公共基礎(chǔ)設(shè)備等電子產(chǎn)品中日益普及。
[0003]而目前用于電容觸摸屏的透明導(dǎo)電體主要采用在PET(聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)或玻璃基材上鍍上一層Ι--，再通過(guò)蝕刻除去不需要的部分，最終得到所需的ITO圖案。這種生產(chǎn)方法需要昂貴的蒸鍍/濺鍍?cè)O(shè)備，生產(chǎn)時(shí)間較長(zhǎng)，效率較低，并且“減法”生產(chǎn)極大的造成原材料的浪費(fèi)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]基于此，有必要提供一種制作簡(jiǎn)便、提高生產(chǎn)效率的觸摸屏用透明導(dǎo)電體的制備方法。
[0005]一種觸摸屏用透明導(dǎo)電體，包括透明基材、導(dǎo)電圖案及絕緣保護(hù)層，其中，所述透明基材的一個(gè)表面設(shè)有凹槽，所述導(dǎo)電圖案填充在所述凹槽中，所述絕緣保護(hù)層形成于所述透明基材的所述表面并覆 蓋所述導(dǎo)電圖案，所述導(dǎo)電圖案的材料為銀、銅、碳納米管、石墨烯及導(dǎo)電高分子材料中的至少一種。
[0006]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述透明基材的材料為玻璃或塑料；所述絕緣保護(hù)層的材料為熱塑型聚合物、熱固性聚合物、UV固化聚合物或二氧化硅。
[0007]—種觸摸屏用透明導(dǎo)電體的制備方法，包括以下步驟:
[0008]在透明基材的一個(gè)表面涂上光刻膠；
[0009]對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光、顯影、以在所述透明基材的所述表面上形成圖案區(qū)；
[0010]在所述透明基材的所述表面沿所述圖案區(qū)蝕刻出所述凹槽；
[0011]去除剩余的光刻膠；
[0012]將含有導(dǎo)電材料的漿料填充在所述凹槽中，并進(jìn)行烘干，形成所述導(dǎo)電圖案，得到具有所述導(dǎo)電圖案的所述透明基材；其中，所述導(dǎo)電材料為銀、銅、碳納米管、石墨烯及導(dǎo)電高分子材料中的至少一種；及
[0013]在具有所述導(dǎo)電圖案的所述透明基材的所述表面形成所述絕緣保護(hù)層，得到觸摸屏用透明導(dǎo)電體。
[0014]在其中一個(gè)實(shí)施例中，采用刮涂或噴涂的方法，將含有導(dǎo)電材料的漿料填充在所述凹槽中。
[0015]在其中一個(gè)實(shí)施例中，采用刮涂法或旋涂法，在具有所述導(dǎo)電圖案的所述透明基材的上表面形成所述絕緣保護(hù)層。[0016]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述凹槽為網(wǎng)絡(luò)線條結(jié)構(gòu)的凹槽。
[0017]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述網(wǎng)絡(luò)線條結(jié)構(gòu)的線條寬度為0.5μm-10μπι，線條間的距離為 50 μm-1000 μ m。
[0018]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述透明基材的材料為玻璃或塑料；所述絕緣保護(hù)層的材料為熱塑型聚合物、熱固性聚合物、UV固化聚合物或二氧化硅。
[0019]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述玻璃為光學(xué)石英玻璃或普通光學(xué)玻璃；所述塑料為聚甲基丙烯酸甲酯或聚碳酸酯；所述UV固化聚合物為聚甲基丙烯酸甲酯。
[0020]一種觸摸屏，包括蓋板、膠層及上述觸摸屏用透明導(dǎo)電體，所述膠層將所述蓋板和所述觸摸屏用透明導(dǎo)電體粘結(jié)在一起。
[0021]上述觸摸屏用透明導(dǎo)電體的制備方法，制作工藝簡(jiǎn)便，能夠提高生產(chǎn)效率；同時(shí)，由于采用“加法”生產(chǎn)工藝，將導(dǎo)電材料嵌入透明基材中，減少了導(dǎo)電材料的使用量。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0022]圖1為一實(shí)施方式的觸摸屏用透明導(dǎo)電體的結(jié)構(gòu)圖；
[0023]圖2為一實(shí)施方式的觸摸屏用透明導(dǎo)電體的凹槽的結(jié)構(gòu)圖；
[0024]圖3為另一 實(shí)施方式的觸摸屏用透明導(dǎo)電體的凹槽的結(jié)構(gòu)圖；
[0025]圖4為一實(shí)施方式的觸摸屏用透明導(dǎo)電體的制備方法的流程圖；
[0026]圖5至圖10為一實(shí)施方式觸摸屏用透明導(dǎo)電體的制備過(guò)程示意圖；
[0027]圖11為一實(shí)施方式的觸摸屏的結(jié)構(gòu)圖；
【具體實(shí)施方式】
[0028]為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】做詳細(xì)的說(shuō)明。在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明。但是本發(fā)明能夠以很多不同于在此描述的其它方式來(lái)實(shí)施，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本發(fā)明內(nèi)涵的情況下做類似改進(jìn)，因此本發(fā)明不受下面公開的具體實(shí)施的限制。
[0029]請(qǐng)參閱圖1，一實(shí)施方式的觸摸屏用透明導(dǎo)電體100，包括透明基材110、導(dǎo)電圖案120及絕緣保護(hù)層130。其中，透明基材110的上表面設(shè)有凹槽112，導(dǎo)電圖案120填充在凹槽112中，絕緣保護(hù)層130形成于透明基材110的上表面并覆蓋導(dǎo)電圖案120。
[0030]其中，透明基材110的材料為玻璃或塑料。玻璃為光學(xué)石英玻璃或普通光學(xué)玻璃。塑料為聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或聚碳酸酯(PO。
[0031]請(qǐng)參閱圖2及圖3，凹槽112為網(wǎng)絡(luò)線條結(jié)構(gòu)的凹槽。網(wǎng)絡(luò)線條結(jié)構(gòu)的線條可以為直線或者不規(guī)則曲線，線條根據(jù)設(shè)計(jì)要求可以進(jìn)行斷線處理。線條寬度為0.5 μm-10 μ m，線條間的距離為50 μm-1000 μ m。線條的密度及深度可依導(dǎo)電材料需求的透過(guò)率和方塊電阻值來(lái)進(jìn)行設(shè)計(jì)。凹槽112用于填充導(dǎo)電圖案120，使導(dǎo)電圖案120根據(jù)需要形成網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)。
[0032]導(dǎo)電圖案120的材料為銀、銅、碳納米管、石墨烯及導(dǎo)電高分子材料中的至少一種。導(dǎo)電圖案120的導(dǎo)電性能優(yōu)于ITO的導(dǎo)電性能，方塊電阻較低。
[0033]絕緣保護(hù)層130的材料可為熱塑型聚合物、熱固性聚合物、UV (紫外光)固化聚合物等有機(jī)聚合物或二氧化硅等無(wú)機(jī)物。本實(shí)施方式中，UV固化聚合物為聚甲基丙烯酸甲酯。在透明基板110的上表面形成絕緣保護(hù)層130，能夠提高透明基板110的防刮花性能。[0034]上述觸摸屏用透明導(dǎo)電體，由于將導(dǎo)電材料嵌入透明基材中，減少了導(dǎo)電材料的使用量，降低成本，并在具有導(dǎo)電圖案的透明基板的表面形成絕緣保護(hù)層，能夠提高透明基板的防刮花性能；由于導(dǎo)電材料的導(dǎo)電性能優(yōu)于ITO的導(dǎo)電性能，方塊電阻較低，故能夠提高觸摸屏的觸摸響應(yīng)速度。
[0035] 請(qǐng)參閱圖4，一實(shí)施方式的觸摸屏用透明導(dǎo)電體的制備方法，包括以下步驟:
[0036]步驟S100、在透明基材的一個(gè)表面涂上光刻膠。
[0037]請(qǐng)參閱圖5，在透明基材110的上表面涂上光刻膠140，并對(duì)光刻膠140進(jìn)行預(yù)烘。光刻膠140具體可為MRT (Micro Resist Technology)公司生產(chǎn)的ma_P1210型正性光刻膠，預(yù)烘溫度為100°C，預(yù)烘時(shí)間為90s。
[0038]透明基材110的材料為玻璃或塑料。玻璃可為光學(xué)石英玻璃或普通光學(xué)玻璃。塑料為聚甲基丙烯酸甲酯或聚碳酸酯。透明基材110的厚度為50μm-300μm。
[0039]步驟S200、對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光、顯影、以在透明基材的表面上形成圖案區(qū)。
[0040]請(qǐng)參閱圖6，先利用掩膜板將光刻膠140不需曝光的區(qū)域進(jìn)行保護(hù)，后對(duì)光刻膠140進(jìn)行曝光、顯影、以在透明基材110的上表面上形成圖案區(qū)114，并對(duì)光刻膠140進(jìn)行后烘。后烘溫度為120°C,后烘時(shí)間為120s。
[0041]請(qǐng)參閱圖2及圖3，圖案區(qū)114可以為網(wǎng)絡(luò)線條結(jié)構(gòu)。網(wǎng)絡(luò)線條結(jié)構(gòu)的線條可以為直線或者不規(guī)則曲線，線條根據(jù)設(shè)計(jì)要求可以進(jìn)行斷線處理。線條寬度為0.5 μm-10 μ m，線條間的距離為50 μ m-1000 μ m。
[0042]步驟S300、在透明基材的表面沿圖案區(qū)蝕刻出凹槽。
[0043]請(qǐng)參閱圖7，采用干法蝕刻或濕法蝕刻的方法，在透明基材110的上表面沿圖案區(qū)114蝕刻出凹槽112。凹槽112的形狀與圖案區(qū)114的形狀相同。凹槽112為網(wǎng)絡(luò)線條結(jié)構(gòu)的凹槽。線條可以為直線或者不規(guī)則曲線，線條根據(jù)設(shè)計(jì)要求可以進(jìn)行斷線處理。線條寬度為0.5 μm-10 μ m,線條間的距離為50 μ m-1000μ m。線條的密度及深度可依導(dǎo)電材料需求的透過(guò)率和方塊電阻值來(lái)進(jìn)行設(shè)計(jì)。
[0044]本實(shí)施方式中的干法蝕刻法為反應(yīng)離子蝕刻(RIE)法。濕法蝕刻法用到的玻璃蝕亥丨J液為FRIEND公司生產(chǎn)的BL-5型玻璃蝕刻液。
[0045]步驟S400、去除剩余的光刻膠。
[0046]請(qǐng)參閱圖8，利用除膠劑將剩余的光刻膠140去除。除膠劑可為4wt%的NaOH溶液。
[0047]步驟S500、將含有導(dǎo)電材料的漿料填充在凹槽中，并進(jìn)行烘干，形成導(dǎo)電圖案，得到具有導(dǎo)電圖案的透明基材。
[0048]請(qǐng)參閱圖9，采用刮涂或噴涂的方法，將含有導(dǎo)電材料的漿料填充在凹槽112中，后經(jīng)熱處理方法進(jìn)行烘干，形成導(dǎo)電圖案120，得到具有導(dǎo)電圖案120的透明基材110。本實(shí)施方式中，含有導(dǎo)電材料的漿料為導(dǎo)電銀墨水。導(dǎo)電銀墨水的固含量為40%，粘度為40cps。
[0049]熱處理方法中可使用熱風(fēng)烘箱進(jìn)行烘干，也可使用IR (紅外)干燥系統(tǒng)進(jìn)行烘干。
[0050]步驟S600、在具有導(dǎo)電圖案的透明基材的表面形成絕緣保護(hù)層，得到觸摸屏用透明導(dǎo)電體。
[0051]請(qǐng)參閱圖10，采用刮涂法或旋涂法，在具有導(dǎo)電圖案120的透明基材110的上表面形成絕緣保護(hù)層130。[0052]絕緣保護(hù)層130的材料可為熱塑型聚合物、熱固性聚合物、UV固化聚合物等有機(jī)聚合物或二氧化硅等無(wú)機(jī)物。在透明基板110的上表面形成絕緣保護(hù)層130，能夠提高透明基板110的防刮花性能。
[0053]刮涂法的工藝為:采用刮涂工藝，在含有導(dǎo)電圖案120的透明基材110上表面涂上一層絕緣保護(hù)層130并進(jìn)行固化。絕緣保護(hù)層130的材料為熱塑型聚合物、熱固性聚合物或UV固化聚合物等有機(jī)聚合物。UV固化聚合物可為聚甲基丙烯酸甲酯。
[0054]旋涂法的工藝為:在含有導(dǎo)電圖案120的透明基材110上表面上，旋涂一層透明硅溶膠再經(jīng)固化處理得到二氧化硅保護(hù)層。固化溫度為450°C。
[0055]上述觸摸屏用透明導(dǎo)電體的制備方法，制作工藝簡(jiǎn)便，能夠提高生產(chǎn)效率；同時(shí)，由于采用“加法”生產(chǎn)工藝，將導(dǎo)電材料嵌入透明基材中，減少了導(dǎo)電材料的使用量，降低成本，并在具有導(dǎo)電圖案的透明基板的表面形成絕緣保護(hù)層，能夠提高透明基板的防刮花性倉(cāng)泛。
[0056]請(qǐng)參閱圖11，一實(shí)施方式的觸摸屏10，包括蓋板(Cover Lens)200、膠層(Glue層)300及上述觸摸屏用透明導(dǎo)電體100。用膠層300將蓋板200及觸摸屏用透明導(dǎo)電體100粘結(jié)在一起。觸摸屏10還包括LCD模組、驅(qū)動(dòng)芯片以及連接觸摸屏和驅(qū)動(dòng)芯片的柔性線路板等部件。
[0057]上述觸摸屏，使用本發(fā)明制備的觸摸屏用透明導(dǎo)電體，由于導(dǎo)電材料的導(dǎo)電性能優(yōu)于ITO的導(dǎo)電性能，方塊電阻較低，故能夠提高觸摸屏的觸摸響應(yīng)速度。
[0058]下面結(jié)合具體實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的闡述。
[0059]實(shí)施例1
[0060]一種觸摸屏用透明導(dǎo)電體的制備方法，包括以下步驟:
[0061]1、在透明基材的一個(gè)表面涂上光刻膠。
[0062]在透明基材的上表面涂上光刻膠，并對(duì)光刻膠進(jìn)行預(yù)烘。透明基材為光學(xué)石英玻璃，厚度為0.3mm,透過(guò)率為93%。光刻膠為ma_P1210型正性光刻膠，厚度為2 μ m。預(yù)烘溫度為100°C，預(yù)烘時(shí)間為90s。
[0063]2、對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光、顯影、以在透明基材的表面上形成圖案區(qū)。
[0064]利用掩膜板將光刻膠不需曝光的區(qū)域進(jìn)行保護(hù)后，對(duì)ma_P1210型正性光刻膠進(jìn)行曝光、顯影、以在光學(xué)石英玻璃的上表面上形成如圖2所示的圖案區(qū)，并對(duì)光刻膠進(jìn)行后烘。其中，ma-P1210型正性光刻膠的曝光波長(zhǎng)為365nm，曝光能量為35mj/cm2，顯影液為lwt% WNa2CO3溶液。后烘溫度為120°C，后烘時(shí)間為120s。圖案區(qū)為網(wǎng)絡(luò)線條結(jié)構(gòu)。線條為直線，線條寬度為2 μ m,線條間的距離為200 μ m。
[0065]3、在透明基材的表面沿圖案區(qū)蝕刻出凹槽。
[0066]采用RIE蝕刻技術(shù)，選用CF4氣體為蝕刻氣體，在光學(xué)石英玻璃的上表面沿圖案區(qū)蝕刻出凹槽。凹槽的深度為2μπι。
[0067]4、去除剩余的光刻膠。
[0068]利用除膠劑去除剩余的光刻膠。其中，除膠劑為4wt%的NaOH溶液。
[0069]5、將含有導(dǎo)電材料的漿料填充入凹槽中，并進(jìn)行烘干，形成導(dǎo)電圖案，得到具有導(dǎo)電圖案的透明基材。
[0070]采用刮涂法在光學(xué)石英玻璃的上表面涂布一層導(dǎo)電銀墨水；后采用柔性刮刀將凹槽外的多余導(dǎo)電銀墨水除去；最后使用IR干燥系統(tǒng)將導(dǎo)電銀墨水烘干，得到具有銀導(dǎo)電圖案的光學(xué)石英玻璃。
[0071]其中，導(dǎo)電銀墨水的固含量為40%，粘度為40cps。IR干燥系統(tǒng)的烘烤溫度為130°C，烘烤速率為lm/min。
[0072]6、在具有導(dǎo)電圖案的透明基材的表面形成絕緣保護(hù)層，得到觸摸屏用透明導(dǎo)電體。
[0073]在含有銀的光學(xué)石英玻璃上表面上，旋涂一層透明硅溶膠，經(jīng)450°C溫度下固化處理后，得到厚度為2 μ m的二氧化硅保護(hù)層。
[0074]實(shí)施例2
[0075]—種觸摸屏用透明導(dǎo)電體的制備方法，包括以下步驟:
[0076]1、在透明基材的一個(gè)表面涂上光刻膠。
[0077]在透明基材的上表面涂上光刻膠，并對(duì)光刻膠進(jìn)行預(yù)烘。透明基材為蘇打玻璃，厚度為0.2mm,透過(guò)率為90%。光刻膠為ma_P1210型正性光刻膠，厚度為2 μ m。預(yù)烘溫度為100°C，預(yù)烘時(shí)間為90s。
[0078]2、對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光、顯影、以在透明基材的表面上形成圖案區(qū)。
[0079]利用掩膜板將光刻膠不需曝光的區(qū)域進(jìn)行保護(hù)后，對(duì)ma_P1210型正性光刻膠進(jìn)行曝光、顯影、以在蘇打玻璃的上表面上形成如圖3所示的圖案區(qū)，并對(duì)光刻膠進(jìn)行后烘。其中，ma-P1210型正性光刻膠的曝光波長(zhǎng)為365nm，曝光能量為35mj/cm2，顯影液為lwt%的Na2CO3溶液。后烘溫度為120°C，后烘時(shí)間為120s。圖案區(qū)為網(wǎng)絡(luò)線條結(jié)構(gòu)。線條為曲線，線條寬度為6 μ m，線條間的距離為300 μ m。
[0080]3、在透明基材的表面沿圖案區(qū)蝕刻出凹槽。
[0081]將蘇打玻璃置于BL-5型玻璃蝕刻液中進(jìn)行蝕刻，在蘇打玻璃上表面的圖案區(qū)形成凹槽。凹槽的深度為3 μ m。
[0082]4、去除剩余的光刻膠。
[0083]利用除膠劑去除剩余的光刻膠。其中，除膠劑為4wt%的NaOH溶液。
[0084]5、將含有導(dǎo)電材料的漿料填充入凹槽中，并進(jìn)行烘干，形成導(dǎo)電圖案，得到具有導(dǎo)電圖案的透明基材。
[0085]采用刮涂法在蘇打玻璃的上表面涂布一層導(dǎo)電銀墨水；后采用柔性刮刀將凹槽外的多余導(dǎo)電銀墨水除去；最后使用熱風(fēng)烘箱將導(dǎo)電銀墨水烘干，得到具有銀導(dǎo)電圖案的蘇打玻璃。
[0086]導(dǎo)電銀墨水的固含量為40%，粘度為40cps。熱風(fēng)烘箱烘烤溫度為130°C，時(shí)間為30mino
[0087]6、在具有導(dǎo)電圖案的透明基材的表面形成絕緣保護(hù)層，得到觸摸屏用透明導(dǎo)電體。
[0088]采用刮涂工藝，在蘇打玻璃上表面上涂覆一層PMMA型UV固化樹脂并進(jìn)行UV固化，得到厚度為2 μ m的PMMA保護(hù)層。其中，PMMA型UV固化樹脂的粘度為600cps，固化波長(zhǎng)為365nm,累計(jì)照射能量達(dá)到600mj/cm2后即可固化。
[0089]實(shí)施例3
[0090]一種觸摸屏用透明導(dǎo)電體的制備方法，包括以下步驟:[0091]1、在透明基材的一個(gè)表面涂上光刻膠。
[0092]在透明基材的上表面涂上光刻膠，并對(duì)光刻膠進(jìn)行預(yù)烘。透明基材為PMMA光學(xué)塑料，厚度為0.18mm。光刻膠為ma_P1210型正性光刻膠，厚度為2 μ m。預(yù)烘溫度為100°C，預(yù)烘時(shí)間為90s。
[0093]2、對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光、顯影、以在透明基材的表面上形成圖案區(qū)。
[0094]利用掩膜板將光刻膠不需曝光的區(qū)域進(jìn)行保護(hù)后，對(duì)ma_P1210型正性光刻膠進(jìn)行曝光、顯影、以在PMMA光學(xué)塑料的上表面上形成如圖2所示的圖案區(qū)，并對(duì)光刻膠進(jìn)行后烘。其中，ma-P1210型正性光刻膠的曝光波長(zhǎng)為365nm，曝光能量為35mj/cm2，顯影液為lwt% WNa2CO3溶液。后烘溫度為120°C，后烘時(shí)間為120s。圖案區(qū)為網(wǎng)絡(luò)線條結(jié)構(gòu)。線條為直線，線條寬度為3 μ m,線條間的距離為100 μ m。
[0095]3、在透明基材的表面沿圖案區(qū)蝕刻出凹槽。
[0096]采用RIE蝕刻技術(shù)，選用體積含量為60%的O2和體積含量為40%的CHF3的混合氣體為蝕刻氣體，在PMMA光學(xué)塑料的上表面沿圖案區(qū)蝕刻出凹槽。凹槽的深度為2 μ m。
[0097]4、去除剩余的光刻膠。
[0098]利用除膠劑去除剩余的光刻膠。其中，除膠劑為4wt %的NaOH溶液。
[0099]5、將含有導(dǎo)電材料的漿料填充入凹槽中，并進(jìn)行烘干，形成導(dǎo)電圖案，得到具有導(dǎo)電圖案的透明基材。
[0100]采用噴涂法在PMMA光學(xué)塑料的上表面噴涂一層導(dǎo)電銀墨水；后采用柔性刮刀將凹槽外的多余導(dǎo)電銀墨水除去；最后使用IR干燥系統(tǒng)將導(dǎo)電銀墨水烘干，得到具有銀導(dǎo)電圖案的PMMA光學(xué)塑料。
[0101]導(dǎo)電銀墨水的固含量為40%，粘度為40cps。IR干燥系統(tǒng)的烘烤溫度為130°C，烘烤速度為lm/min。
[0102]6、在具有導(dǎo)電圖案的透明基材的表面形成絕緣保護(hù)層，得到觸摸屏用透明導(dǎo)電體。
[0103]采用刮涂工藝，在PMMA光學(xué)塑料的上表面上涂覆一層PMMA型UV固化樹脂并進(jìn)行UV固化，得到厚度為2 μ m的PMMA保護(hù)層。其中，PMMA型UV固化樹脂的粘度為600cps，固化波長(zhǎng)為365nm，累計(jì)照射能量達(dá)到600mj/cm2后即可固化。
[0104]性能測(cè)試
[0105]對(duì)實(shí)施例f 3制備的觸摸屏用透明導(dǎo)電體進(jìn)行透過(guò)率及方塊電阻性能測(cè)試。
[0106]采用SHIMADZU公司的UV2450型紫外可見分光光度儀測(cè)試觸摸屏用透明導(dǎo)電體的可見光透過(guò)率，測(cè)試波長(zhǎng)范圍為380nnT780nm。采用Four Dimensions.1nc公司生產(chǎn)的280SI型方塊電阻測(cè)試儀測(cè)試具有導(dǎo)電圖案的透明基材的方塊電阻，測(cè)試結(jié)果如表1所示。
[0107]表1
[0108]
【權(quán)利要求】
1.一種觸摸屏用透明導(dǎo)電體，其特征在于，包括透明基材、導(dǎo)電圖案及絕緣保護(hù)層，其中，所述透明基材的一個(gè)表面設(shè)有凹槽，所述導(dǎo)電圖案填充在所述凹槽中，所述絕緣保護(hù)層形成于所述透明基材的所述表面并覆蓋所述導(dǎo)電圖案，所述導(dǎo)電圖案的材料為銀、銅、碳納米管、石墨烯及導(dǎo)電高分子材料中的至少一種。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏用透明導(dǎo)電體，其特征在于，所述透明基材的材料為玻璃或塑料；所述絕緣保護(hù)層的材料為熱塑型聚合物、熱固性聚合物、UV固化聚合物或二氧化硅。
3.一種觸摸屏用透明導(dǎo)電體的制備方法，其特征在于，包括以下步驟: 在透明基材的一個(gè)表面涂上光刻膠； 對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光、顯影、以在所述透明基材的所述表面上形成圖案區(qū)； 在所述透明基材的所述表面沿所述圖案區(qū)蝕刻出所述凹槽； 去除剩余的光刻膠； 將含有導(dǎo)電材料的漿料填充在所述凹槽中，并進(jìn)行烘干，形成所述導(dǎo)電圖案，得到具有所述導(dǎo)電圖案的所述透明基材；其中，所述導(dǎo)電材料為銀、銅、碳納米管、石墨烯及導(dǎo)電高分子材料中的至少一種 '及 在具有所述導(dǎo)電圖案的所述透明基材的所述表面形成所述絕緣保護(hù)層，得到觸摸屏用透明導(dǎo)電體。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸摸屏用透明導(dǎo)電體的制備方法，其特征在于，采用刮涂或噴涂的方法，將含有導(dǎo)電材料的漿料填充在所述凹槽中。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸摸屏用透明導(dǎo)電體的制備方法，其特征在于，采用刮涂法或旋涂法，在具有所述導(dǎo)電圖案的所述透明基材的上表面形成所述絕緣保護(hù)層。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸摸屏用透明導(dǎo)電體的制備方法，其特征在于，所述凹槽為網(wǎng)絡(luò)線條結(jié)構(gòu)的凹槽。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的觸摸屏用透明導(dǎo)電體的制備方法，其特征在于，所述網(wǎng)絡(luò)線條結(jié)構(gòu)的線條寬度為0.5 μ m~1Ο μ m,線條間的距離為50 μ M~1ΟΟΟ μ m。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸摸屏用透明導(dǎo)電體的制備方法，其特征在于，所述透明基材的材料為玻璃或塑料；所述絕緣保護(hù)層的材料為熱塑型聚合物、熱固性聚合物、UV固化聚合物或二氧化硅。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的觸摸屏用透明導(dǎo)電體的制備方法，其特征在于，所述玻璃為光學(xué)石英玻璃或普通光學(xué)玻璃；所述塑料為聚甲基丙烯酸甲酯或聚碳酸酯；所述UV固化聚合物為聚甲基丙烯酸甲酯。
10.一種觸摸屏，其特征在于，包括蓋板、膠層及權(quán)利要求1或2所述的觸摸屏用透明導(dǎo)電體，所述膠層將所述蓋板和所述觸摸屏用透明導(dǎo)電體粘結(jié)在一起。
【文檔編號(hào)】G06F3/044GK103902115SQ201210587392
【公開日】2014年7月2日 申請(qǐng)日期:2012年12月28日 優(yōu)先權(quán)日:2012年12月28日
【發(fā)明者】劉偉, 唐彬, 唐根初 申請(qǐng)人:深圳歐菲光科技股份有限公司