專利名稱：透明導(dǎo)電性層疊體及具備該層疊體的觸摸面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種在可見光線區(qū)域具有透明性而且在薄膜基材上具備導(dǎo)電性薄膜的透明導(dǎo)電性層疊體及具備該層疊體的觸摸面板。本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體除了可以用于液晶顯示器、電致發(fā)光顯示器等顯示器方式或觸摸面板等中的透明電極以外，還可以用于防止透明物品受到靜電干擾或隔絕電磁波等。
背景技術(shù)：
在觸摸面板中，根據(jù)位置檢測的方法不同，有光學(xué)方式、超聲波方式、靜電電容方式、電阻膜方式等。其中，電阻膜方式由于其構(gòu)造簡單，因此在性價比方面出色，近年來正快速普及。電阻膜方式觸摸面板被用于例如銀行的現(xiàn)金自動存款、提款機(ATM)或交通機構(gòu)的售票機等的顯示板中。該電阻膜方式的觸摸面板經(jīng)由隔離件地將透明導(dǎo)電性層疊體和帶有透明導(dǎo)電性薄膜的玻璃對置，形成在透明導(dǎo)電性層疊體中流過電流而計測帶有透明導(dǎo)電性薄膜的玻璃中的電壓的這樣的構(gòu)造。如果通過利用手指或筆等的按壓操作使透明導(dǎo)電性層疊體與帶有透明導(dǎo)電性薄膜的玻璃接觸，則可以通過該接觸部分通電，來探知該接觸部分的位置。然而，近年來搭載于智能手機(smart phone)或PDA (Personal Digital Assistance)、游戲機等中的觸摸面板的市場正在增長，觸摸面板的窄邊框化不斷推進。這樣，用手指按壓觸摸面板的機會變多，除了筆輸入耐久性以外，對于表面壓力耐久性方面也需要 兩足。作為上述觸摸面板，公開了例如在透明薄膜基材的至少一面上具備設(shè)有由至少包括平均粒徑為1 30nm的微粒的樹脂形成的、具有Ra為4 20nm的中心線平均粗糙度的結(jié)合層、SiOx層、透明導(dǎo)電層的透明導(dǎo)電性薄膜的觸摸面板(參照下述專利文獻(xiàn)1)。但是， 為此構(gòu)成時，透明導(dǎo)電層的表面電阻值發(fā)生變化，存在缺乏可靠性的問題。另外，作為上述觸摸面板，公開了例如具備依次層疊了基材、用于固定導(dǎo)電層的結(jié)合層、導(dǎo)電層的透明導(dǎo)電性薄膜的觸摸面板(參照下述專利文獻(xiàn)2)。根據(jù)該專利文獻(xiàn)2，還記載著結(jié)合層是利用等離子體CVD法形成的二氧化硅層。但是，在專利文獻(xiàn)2記載的發(fā)明中，雖然記載著對附加筆輸入觸摸面板等大的滑動也能充分耐受的旨意，但表面壓力耐久性并不充分。專利文獻(xiàn)1日本特開2002-117724號公報專利文獻(xiàn)2日本特開2003-320609號公報
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于上述問題點而設(shè)，目的在于提供一種表面壓力耐久性出色的透明導(dǎo)電性層疊體及具備該層疊體的觸摸面板。本發(fā)明人等為了解決上述現(xiàn)有問題，對透明導(dǎo)電性層疊體及具備該層疊體的觸摸面板進行了深入研究。結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過采用下述構(gòu)成可以實現(xiàn)上述目的，從而完成了本發(fā)明。S卩，本發(fā)明涉及一種透明導(dǎo)電性層疊體，其是在透明的薄膜基材的一個面經(jīng)由電介質(zhì)薄膜設(shè)有透明的導(dǎo)電性薄膜，在透明的薄膜基材的另一個面，經(jīng)由透明的粘合劑層貼合有透明基體的透明導(dǎo)電性層疊體，其特征是，上述透明基體是將至少2張透明的基體薄膜經(jīng)由透明的粘合劑層而層疊的層疊透明基體；上述電介質(zhì)薄膜由第一透明電介質(zhì)薄膜和第二透明電介質(zhì)薄膜形成，所述第一透明電介質(zhì)薄膜由相對折射率為1. 6 1. 9的SiOx膜(X為1. 5以上且小于2)制成，所述第二透明電介質(zhì)薄膜由SiO2膜制成。在上述透明導(dǎo)電性層疊體中，上述電介質(zhì)薄膜中，優(yōu)選從薄膜基材的一側(cè)開始依次形成有第一透明電介質(zhì)薄膜及第二透明電介質(zhì)薄膜。在上述透明導(dǎo)電性層疊體中，上述第一透明電介質(zhì)薄膜優(yōu)選為利用干式程序而設(shè)
置的薄膜。在上述透明導(dǎo)電性層疊體中，優(yōu)選上述第一透明電介質(zhì)薄膜的厚度為Inm 30nm、上述第二透明電介質(zhì)薄膜的厚度為IOnm 70nm、上述透明導(dǎo)電性薄膜的厚度為 20nm 35nm。在上述透明導(dǎo)電性層疊體中，上述導(dǎo)電性薄膜優(yōu)選由晶體粒徑為200nm以下的晶體含量超過50%的結(jié)晶質(zhì)的銦錫氧化物構(gòu)成。在上述透明導(dǎo)電性層疊體中，可以在上述透明基體的外表面設(shè)有樹脂層。在上述透明導(dǎo)電性層疊體中，優(yōu)選層疊有上述導(dǎo)電性薄膜的一側(cè)的硬度為2GPa 以上。在上述透明導(dǎo)電性層疊體中，優(yōu)選層疊有上述導(dǎo)電性薄膜的一側(cè)的彈性率為SGPa 以上。另外，本發(fā)明涉及一種觸摸面板，其特征是，具有上述透明導(dǎo)電性層疊體。本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體，是在透明的薄膜基材的未設(shè)置透明導(dǎo)電性薄膜的一側(cè)的面設(shè)置了將至少2張透明的基體薄膜經(jīng)由透明的粘合劑層層疊的層疊透明基體，這樣，可以提高例如將透明導(dǎo)電性層疊體應(yīng)用于觸摸面板時的筆輸入耐久性，此外還可以提高表面壓力耐久性。另外，通過利用相對折射率為1. 6 1. 9的SiOx膜(χ為1. 5以上且小于2)的第一透明電介質(zhì)薄膜和SiO2膜的第二透明電介質(zhì)薄膜設(shè)置上述電介質(zhì)薄膜，可提高表面壓力耐久性。上述第一透明電介質(zhì)薄膜優(yōu)選利用干式程序進行設(shè)置。在上述透明導(dǎo)電性層疊體中，表面壓力耐久性可以通過從薄膜基材一側(cè)經(jīng)由電介質(zhì)薄膜設(shè)置透明導(dǎo)電性薄膜而進一步提高。另外，通過從薄膜基材一側(cè)設(shè)置上述電介質(zhì)薄膜作為第一透明電介質(zhì)薄膜及第二透明電介質(zhì)薄膜，使表面壓力耐久性進一步提高，因此優(yōu)選。
另外，如上所述，通過在薄膜基材與作為第二透明電介質(zhì)薄膜的SiO2膜之間設(shè)置作為第一透明電介質(zhì)薄膜的SiOx膜，可以抑制導(dǎo)電性薄膜的表面電阻的變化率，得到穩(wěn)定性出色的透明導(dǎo)電性層疊體。并且，通過使SiOx膜的厚度在1 30nm的范圍內(nèi)，可以穩(wěn)定地制備SiOx膜作為連續(xù)覆膜，另一方面，即使在高溫 高濕的條件下也可以減少彎曲或卷曲的發(fā)生，其結(jié)果，可以抑制反射特性或透過色調(diào)的變化。并且，由于SiOx膜是利用干式程序形成的，因此與例如利用涂布聚硅氧烷系熱固化性樹脂或硅膠等的濕法形成SiOjJ莫的情況相比，可以抑制滲入到薄膜基材中的水分，耐濕性 耐熱性出色。其結(jié)果，可以進一步抑制一直以來的彎曲或卷曲的發(fā)生。另外，通過使SiO2膜的厚度在10 70nm的范圍內(nèi)，可以穩(wěn)定地制備SiO2膜作為連續(xù)覆膜，另一方面可以提高耐擦傷性及透明性、或者抑制裂紋的產(chǎn)生。并且，通過使導(dǎo)電性薄膜的厚度在20 35nm的范圍內(nèi)，在降低表面電阻的同時，可以穩(wěn)定地形成連續(xù)覆膜， 并且還可以抑制透明性的下降。


圖1是表示本發(fā)明一實施方式中的透明導(dǎo)電性層疊體的截面示意圖。圖2是表示本發(fā)明一實施方式中的觸摸面板的截面示意圖。圖3是用于說明上述透明導(dǎo)電性層疊體中的導(dǎo)電性薄膜側(cè)的硬度及彈性率的測定方法的說明圖。圖4是用于說明本發(fā)明的實施例中的觸摸面板的表面壓力耐久性試驗的截面示意圖。圖5是表示實施例1中得到的觸摸面板中的電壓值與測定位置的關(guān)系的圖表。符號說明1 薄膜基材2 導(dǎo)電性薄膜3 層疊透明基體31、32基體薄膜41、42粘合劑層5(51,52)電介質(zhì)薄膜6 硬涂層A 透明導(dǎo)電性層疊體s 隔離件
具體實施例方式以下，將在參照附圖的同時對本發(fā)明的實施方式進行說明。其中，說明所不需要的部分省略，另外為了易于說明，存在擴大或縮小等而圖示的部分。圖1是表示本實施方式中的透明導(dǎo)電性層疊體的一個例子的截面示意圖。即，透明導(dǎo)電性層疊體A為下述結(jié)構(gòu)在透明的薄膜基材1的一個面上具有透明導(dǎo)電性薄膜2，在另一個面上經(jīng)由透明的粘合劑層41貼合有層疊透明基體3。層疊透明基體3是將透明的基體薄膜31和透明的基體薄膜32經(jīng)由透明的粘合劑層42層疊的層疊體。圖1中，例示了層疊2層透明的基體薄膜的情況，但透明的基體薄膜的層疊只要是2層以上即可，可以為3 層、4層，進而設(shè)為5層以上。通過設(shè)成這樣的構(gòu)造，可以提高面內(nèi)耐久性。另外，圖1是在層疊透明基體3的外表面設(shè)置有硬涂層(樹脂層)6的情況。如圖1所示，從薄膜基材1的一側(cè)開始經(jīng)由電介質(zhì)薄膜5 (第一透明電介質(zhì)薄膜51及第二透明電介質(zhì)薄膜52)設(shè)有透明導(dǎo)電性薄膜2。在圖1中，電介質(zhì)薄膜5是從薄膜基材1的一側(cè)開始依次形成第一透明電介質(zhì)薄膜51及第二透明電介質(zhì)薄膜52的情形。通過設(shè)成這樣的構(gòu)造，可以進一步提高面內(nèi)耐久性。作為上述薄膜基材1，沒有特別限制，可以使用具有透明性的各種塑料薄膜。例如， 作為其材料，可以舉出聚酯系樹脂、醋酸酯系樹脂、聚醚砜系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚酰亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚苯硫醚系樹脂等。它們當(dāng)中，特別優(yōu)選聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚烯烴系樹脂。另外，可以舉出日本特開2001-343529號公報(W010/37007)中記載的高分子薄膜、例如含有(A)側(cè)鏈具有取代和/或未取代的亞氨基的熱塑性樹脂與(B)側(cè)鏈具有取代和/或未取代的苯基以及腈基的熱塑性樹脂的樹脂組合物。具體可以使用含有由異丁烯及 N-甲基馬來酰亞胺組成的交替共聚物和丙烯腈·苯乙烯共聚物的樹脂組合物的高分子薄膜。上述薄膜基材1的厚度優(yōu)選為2 200 μ m的范圍內(nèi)。更優(yōu)選為2 100 μ m的范圍內(nèi)。如果薄膜基材1的厚度小于2 μ m，則薄膜基材1的機械強度不足，將該薄膜基材1制成卷筒狀，連續(xù)地形成導(dǎo)電性薄膜2、電介質(zhì)薄膜5及粘合劑層41的操作將會變得困難。另一方面，當(dāng)厚度超過200 μ m時，由于粘合劑層41的緩沖效果，將會無法實現(xiàn)導(dǎo)電性薄膜2 的耐擦傷性或作為觸摸面板用的觸碰特性的提高。上述薄膜基材1可以對表面預(yù)先實施濺射、電暈放電、火焰、紫外線照射、電子線照射、化成、氧化等蝕刻處理或底涂處理，從而提高設(shè)置于其上的導(dǎo)電性薄膜2或電介質(zhì)薄膜5與上述薄膜基材1的密接性。另外，在設(shè)置導(dǎo)電性薄膜2或電介質(zhì)薄膜5之前，也可以根據(jù)需要通過溶劑清洗及超聲波清洗等施行除塵、清潔化。上述電介質(zhì)薄膜5由第一透明電介質(zhì)薄膜51及第二透明電介質(zhì)薄膜52形成。上述電介質(zhì)薄膜5優(yōu)選將第一透明電介質(zhì)薄膜51作為利用干式程序形成的相對折射率為 1. 6 1. 9的SiOx膜(χ為1. 5以上且小于2)、將上述第二透明電介質(zhì)薄膜52作為SiO2膜。電介質(zhì)薄膜5可以使用上述材料，利用真空蒸鍍法、濺射法、離子鍍法等干式程序或濕法(涂刷法)等形成。電介質(zhì)薄膜5的各厚度通常為1 300nm左右即可。上述SiOx膜(χ為1.5以上且小于2)是通過干式程序形成的層。干式程序可以采用真空蒸鍍、濺射、離子鍍等方法。與利用涂刷聚硅氧烷系熱固化性樹脂或硅膠等的濕法形成SiOx膜的情形相比，可以提高面內(nèi)耐久性。于薄膜基材1上設(shè)置上述SiOx膜(χ為1. 5以上且小于2)，這是由于當(dāng)使用聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜作為該薄膜基材1時，如果于薄膜基材1上直接僅設(shè)置SiO2膜作為結(jié)合層時，無法得到充分的密接性的緣故。因此，于薄膜基材1與SiO2膜之間設(shè)置SiOx膜作為第一透明電介質(zhì)薄膜51，使用該SiOx膜作為粘接劑，確保充分的密接性。另外，由于SiO2 為低折射率的材料，反射率低，其結(jié)果，可以實現(xiàn)高透光率。這樣，SiO2膜特別地發(fā)揮作為導(dǎo)電性薄膜的結(jié)合層的效果，使面內(nèi)耐久性提高。作為第一透明電介質(zhì)薄膜51而設(shè)置的SiOx膜的厚度優(yōu)選為1 30nm，更優(yōu)選為 1 15nm的范圍。厚度小于Inm時，存在難以穩(wěn)定地形成連續(xù)覆膜的傾向。厚度超過30nm 時，例如通過進行環(huán)境可靠性試驗等會導(dǎo)致反射及透過色調(diào)的變化。這是由于，在環(huán)境可靠性試驗中，χ接近2，通過從SiOx逐漸變化為SiO2, SiOx膜的折射率在約1. 7 1. 45的范圍內(nèi)變化的緣故。SiOx膜還是光學(xué)薄膜，光學(xué)薄膜的特性取決于各層的折射率及其厚度，已知厚度為25nm以下時，相對于折射率的變化，對光學(xué)特性的影響小。尚需說明的是，上述環(huán)境可靠性試驗是指例如在80°C下的高溫試驗或在60°C /90% RH或85°C /85% RH等中的高溫高濕試驗等。上述SiOx膜的相對折射率為1. 6 1. 9的范圍。通過處于上述范圍內(nèi)，例如將透明導(dǎo)電性層疊體A應(yīng)用于觸摸面板中時，可以提高面內(nèi)耐久性。相對折射率小于1.6時，從上述面內(nèi)耐久性的角度考慮并不優(yōu)選。而相對折射率超過1. 9的SiOx膜難以制備。作為第二透明電介質(zhì)薄膜52而設(shè)置的SiO2膜的厚度優(yōu)選為10 70nm，更優(yōu)選為 10 65nm的范圍。厚度小于IOnm時，不易形成連續(xù)覆膜，耐擦傷性的提高不充分。厚度超過70nm時，透明性的提高不充分，有可能產(chǎn)生裂紋。上述SiOx膜及SiO2膜的平均表面粗糙度分別優(yōu)選為0. 8 3. Onm的范圍內(nèi)。平均表面粗糙度小于0. Snm時，表面凹凸變得過于微細(xì)，防眩光性有可能下降。另外，如果在各種情況下都形成厚的導(dǎo)電性薄膜2，則表面電阻值也降的過低。另一方面，平均表面粗糙度超過3. Onm時，表面凹凸變得過大，可能難以得到穩(wěn)定的表面電阻值。尚需說明的是，平均表面粗糙度是指，利用AFM(Atomic Force Microscope 原子間力顯微鏡)測定的「表面粗糙度(Ra)J0具體是指，使用SPI3800(Seiko Instruments社制)作為AFM，在模式為接觸模式、短針為Si3N4制(彈簧常數(shù)0. 09N/m)、掃描尺寸為1 μ m的條件下測定的值。作為上述導(dǎo)電性薄膜2的構(gòu)成材料沒有特別限制，例如優(yōu)選使用含有氧化錫的氧化銦、含有銻的氧化錫等。其中導(dǎo)電性薄膜2特別優(yōu)選由晶體粒徑為200nm以下，更優(yōu)選由 50 150nm的、晶體含量超過50%的結(jié)晶質(zhì)的銦錫氧化物構(gòu)成的薄膜。這樣，可以得到表面壓力耐久性良好的薄膜。若晶體粒徑大的晶體增多，則容易產(chǎn)生裂紋，表面壓力耐久性趨于下降。尚需說明的是，晶體粒徑定義為在透過型電子顯微鏡下觀察到的多角形狀或長圓形狀的各區(qū)域中對角線或直徑最大的粒徑的平均值。晶體粒徑的測定例如可以通過FE-TEM 觀察(株式會社日立制作所、HF-2000、加速電壓200kV)等來進行。導(dǎo)電性薄膜2的厚度優(yōu)選為20 35nm，更優(yōu)選為20 30nm的范圍內(nèi)。厚度小于20nm時，表面電阻變高，且難以形成連續(xù)覆膜。若超過35nm，則會發(fā)生透明性的下降等情況。需要說明的是，于薄膜基材1上經(jīng)由SiOx膜設(shè)置導(dǎo)電性薄膜2作為第一透明電介質(zhì)薄膜、然后經(jīng)由SiO2膜設(shè)置導(dǎo)電性薄膜2作為第二透明電介質(zhì)薄膜時，可以抑制其表面電阻的變化率，穩(wěn)定性較以往出色。導(dǎo)電性薄膜2的形成方法沒有特別限定，可以采用公知的方法。具體可以例示真空蒸鍍法、濺射法、離子鍍法。另外，可以根據(jù)所需的膜厚采用適當(dāng)?shù)姆椒?。在形成有上述?dǎo)電性薄膜2的薄膜基材1的另一個面上，經(jīng)由透明的粘合劑層41 貼合層疊透明基體3。層疊透明基體3是將至少2張透明的基體薄膜利用透明的粘合劑層貼合的復(fù)合構(gòu)造，由此可以提高表面壓力耐久性。層疊透明基體3的厚度通常優(yōu)選為90 300 μ m,更優(yōu)選控制為100 250 μ m。另外，形成層疊透明基體3的各基體薄膜的厚度為10 200 μ m,更優(yōu)選20 150 μ m,將在這些基體薄膜中包含透明的粘合劑層的作為層疊透明基體3的總厚度控制為處于上述范圍。 作為基體薄膜，可以舉出與上述的薄膜基材1相同的材料。薄膜基材1與層疊透明基體3的貼合既可以在層疊透明基體3側(cè)預(yù)先設(shè)置上述的粘合劑層41，在其上貼合上述薄膜基材1，也可以反過來，在薄膜基材1側(cè)預(yù)先設(shè)置上述的粘合劑層41，在其上貼合層疊透明基體3。后者的方法中，由于可以將薄膜基材1制成卷筒狀而連續(xù)地進行粘合劑層41的形成，因此在生產(chǎn)性方面更為有利。另外，也可以在薄膜基材1上，依次利用粘合劑層41、42貼合基體薄膜31、32，從而將層疊透明基體3層疊。而且， 基體薄膜的層疊中所用的透明的粘合劑層(圖1的粘合劑層42)可以使用與下述的透明的粘合劑層41相同的材料。作為粘合劑層41，只要是具有透明性的材料，就可以沒有特別限制地使用。具體來說，可以適當(dāng)?shù)剡x擇使用丙烯酸系聚合物、硅系聚合物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚乙烯基醚、 醋酸乙烯/氯乙烯共聚物、改性聚烯烴、環(huán)氧系、氟系、將天然橡膠、合成橡膠等橡膠系等聚合物作為基礎(chǔ)聚合物的材料。特別是，從光學(xué)透明性出色、顯示適當(dāng)?shù)臐櫇裥?、凝聚性和粘接性等的粘合特性、在耐氣候性或耐熱性等方面出色的方面考慮，可以優(yōu)選使用丙烯酸系粘合劑。根據(jù)作為粘合劑層41的構(gòu)成材料的粘合劑的種類不同，有時可以通過使用適當(dāng)?shù)恼澈嫌玫淄縿﹣硖岣邟佸^固定力。因而，使用此種粘合劑時，優(yōu)選使用粘合用底涂劑。作為上述粘合用底涂劑，只要是可以提高粘合劑的拋錨固定力的層即可，沒有特別限制。具體而言，可以使用例如在同一分子內(nèi)具有氨基、乙烯基、環(huán)氧基、巰基、氯基等反應(yīng)性官能團和水解性的烷氧基甲硅烷基的硅烷系偶合劑；在同一個分子內(nèi)具有含有鈦的水解性親水性基團和有機官能性基團的鈦酸酯系偶合劑；和在同一個分子內(nèi)具有含鋁的水解性親水性基團和有機官能性基團的鋁酸酯系偶合劑等所謂偶合劑；環(huán)氧系樹脂、異氰酸酯系樹脂、氨基甲酸酯系樹脂、氨基甲酸酯系樹脂等具有有機反應(yīng)性基團的樹脂。其中，從工業(yè)上容易處理的觀點來看，優(yōu)選優(yōu)選含有硅烷系偶合劑的層。另外，可以在上述粘合劑層41中含有對應(yīng)基礎(chǔ)聚合物的交聯(lián)劑。另外，也可以根據(jù)需要在粘合劑層41中配合例如天然物或合成物的樹脂類、玻璃纖維或玻璃珠、金屬粉或其它無機粉末等組成的填充劑、顏料、著色劑、防氧化劑等適當(dāng)?shù)奶砑觿?。另外，也可以形成含有透明微粒而顯示光漫射性的粘合劑層41。而且，在上述透明微粒中，例如，可以使用平均粒徑為0. 5 20 μ m的二氧化硅、氧化鈣、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等導(dǎo)電生的無機系微粒；或由類似聚甲基丙烯酸甲酯、聚氨酯之類的適當(dāng)?shù)木酆衔锝M成的交聯(lián)或者未交聯(lián)的有機系微粒等適當(dāng)?shù)奈⒘５?種或2種以上。上述粘合劑層41通常被作為將基礎(chǔ)聚合物或其組合物溶解或分散到溶劑中的且固體成分濃度為10 50重量％左右的粘合劑溶液使用。作為上述溶劑，可以適當(dāng)選擇使用甲苯或醋酸乙酯等有機溶劑或水等與粘合劑的種類相對應(yīng)的溶劑。該粘合劑層41在粘接層疊透明基體3之后，利用其緩沖效果，具有提高設(shè)置在薄
8膜基材1的一個面的導(dǎo)電性薄膜的耐擦傷性或作為觸摸面板用的觸碰特性、即筆輸入耐久性及表面壓力耐久性的作用。從更好地發(fā)揮該作用的觀點考慮，優(yōu)選將粘合劑層41的彈性系數(shù)設(shè)定為1 lOON/cm2的范圍，將厚度設(shè)定為Ιμπι以上，通常設(shè)定為5 IOOym的范圍。在上述的彈性系數(shù)小于lN/cm2的情況下，粘合劑層41變?yōu)榉菑椥?，因此，容易因加壓變形而在薄膜基?上、甚至在導(dǎo)電性薄膜2上產(chǎn)生凹凸。另外，容易產(chǎn)生自加工切截面的粘合劑的擠出等，并且降低導(dǎo)電性薄膜2的耐擦傷性或作為觸摸面板用的觸碰特性的提高效果。另一方面，彈性系數(shù)超過lOON/cm2時，粘合劑層41變硬，不能期望其緩沖效果， 因此，存在難以提高導(dǎo)電性薄膜2的耐擦傷性或作為觸摸面板用的筆輸入耐久性及表面壓力耐久性的傾向。另外，粘合劑層41的厚度小于Ιμπι時，仍不能期望其緩沖效果，因此，存在難以提高導(dǎo)電性薄膜2的耐擦傷性或作為觸摸面板用的筆輸入耐久性及表面壓力耐久性的傾向。 相反地，使厚度過大時，則會損害透明性，或在粘合劑層41的形成或?qū)盈B透明基體3的貼合作業(yè)性甚至成本方面難以得到好的結(jié)果。借助此種粘合劑層41貼合的層疊透明基體3對薄膜基材1賦予良好的機械強度， 除了筆輸入耐久性及表面壓力耐久性以外，尤其有助于防止卷曲等的發(fā)生。使用上述隔離件轉(zhuǎn)印粘合劑層41時，作為此種隔離件，例如優(yōu)選使用在聚酯薄膜的至少與粘合劑層41粘接的面層疊移動防止層及/或脫模層而成的聚酯薄膜等。上述隔離件的總厚度優(yōu)選為30 μ m以上，更優(yōu)選為75 IOOym的范圍內(nèi)。這是為了在形成粘合劑層41之后，以卷筒狀態(tài)保管時，抑制由于進入卷筒間的異物等而設(shè)想發(fā)生的粘合劑層41的變形(打痕)。作為上述移動防止層，可以使用用于防止聚酯薄膜中的移動成分、特別是聚酯等低分子量寡聚物成分的移動的適當(dāng)材料來形成。作為移動防止層的形成材料，可以使用無機物或有機物、或它們的復(fù)合材料。移動防止層的厚度可以適當(dāng)設(shè)定在0. 01 20 μ m的范圍。作為移動防止層的形成方法沒有特別限定，例如使用涂刷法、噴涂法、旋涂法、在線涂布法等。另外，還可以采用真空蒸鍍法、濺射法、離子鍍法、噴射-熱分解法、化學(xué)鍍法、電鍍法寸。可以形成由硅系、長鏈烷基系、氟系、硫化鉬等適當(dāng)?shù)膭冸x劑制成的層作為上述脫模層。脫模層的厚度可以從脫模效果方面考慮來適當(dāng)設(shè)定。通常，從柔軟性等操作性的觀點考慮，該厚度優(yōu)選為20 μ m以下，更優(yōu)選為0. 01 10 μ m的范圍內(nèi)，特別優(yōu)選為0. 1 5 μ m 的范圍內(nèi)。在上述涂刷法、噴涂法、旋涂法、在線涂布法中，可以使用丙烯酸系樹脂、氨基甲酸酯系樹脂、蜜胺系樹脂、環(huán)氧系樹脂等電離放射線固化型樹脂、或者在上述樹脂中混合了氧化鋁、二氧化硅、云母等的物質(zhì)。另外，在使用真空蒸鍍法、濺射法、離子鍍法、噴射_熱分解法、化學(xué)鍍法或電鍍法時，可以使用金、銀、鉬、鈀、銅、鋁、鎳、鉻、鈦、鐵、鈷或錫或它們的合金等組成的金屬氧化物、碘化銅等組成的其它金屬化合物。另外，根據(jù)需要，也可以在上述層疊透明基體3的外表面(與粘合劑層41相反一側(cè)的面)，設(shè)置以提高辨識性為目的的防眩光處理層或防反射層，或者設(shè)置以保護外表面為目的的硬涂層(樹脂層)6。防眩光處理層或防反射層還可以設(shè)置在于層疊透明基體3上設(shè)置的硬涂層6上。作為硬涂層6，例如可以優(yōu)選使用蜜胺系樹脂、氨基甲酸酯系樹脂、醇酸系樹脂、丙烯酸系樹脂、硅系樹脂等固化型樹脂構(gòu)成的固化覆膜。作為防眩光處理層的構(gòu)成材料，沒有特別限定，可以使用例如電離放射線固化型樹脂、熱固化型樹脂、熱塑性樹脂等。防眩光處理層的厚度優(yōu)選0.1 30 μ m。如果薄于
0.Iym,則擔(dān)心硬度不足；如果厚于30 μ m,則防眩光處理層中將會出現(xiàn)裂紋、或者涂刷了防眩光處理層的層疊透明基體3整體發(fā)生卷曲。作為防反射層，可以于上述硬涂層6上設(shè)置防反射層。光照射到物體上時，反復(fù)進行在其界面反射、在內(nèi)部吸收、漫射等現(xiàn)象，透過至物體的背面。在圖象顯示裝置上安裝觸摸面板時，作為降低圖象辨識性的要因之一，可以舉出在空氣與層疊透明基體3或硬涂層 6界面的光的反射。作為降低其表面反射的方法，將嚴(yán)密控制了厚度及折射率的薄膜層疊于硬涂層6表面，使利用了光的干涉效果的入射光與反射光的逆轉(zhuǎn)的位相相互抵消，從而體現(xiàn)防反射功能。在基于光的干涉效果的防反射層的設(shè)計中，為了提高其干涉效果，而增大防反射層與硬涂層6的折射率差。通常，于基材上層疊2 5層光學(xué)薄膜(上述嚴(yán)密控制了厚度及折射率的薄膜)的多層防反射層中，通過形成多層規(guī)定的厚度的折射率不同的成分，可以在防反射層的光學(xué)設(shè)計中增加自由度、進一步提高防反射效果、分光反射特性在可見光線區(qū)域也變平。由于要求光學(xué)薄膜的各層的厚度精度，通常利用干式的真空蒸鍍法、濺射法、 CVD法等形成各層。作為防反射層，使用氧化鈦、氧化鋯、氧化硅、氟化鎂等。為了進一步體現(xiàn)防反射功能，優(yōu)選使用氧化鈦層與氧化硅層的層疊體。上述層疊體優(yōu)選于硬涂層6上形成折射率高的氧化鈦層(折射率約1. 8)、于該氧化鈦層上形成折射率低的氧化硅層(折射率約
1.45)的2層層疊體、以及于該2層層疊體上依次形成氧化鈦層及氧化硅層的4層層疊體。 通過設(shè)置這樣的2層層疊體或4層層疊體的防反射層，可以均勻降低可見光線在波長區(qū)域 (380 780nm)的反射。另外，通過在層疊透明基體3或硬涂層6上層疊單層的光學(xué)薄膜，也可以體現(xiàn)防反射效果。在使防反射層為單層的設(shè)計中，為了最大限度地引出防反射功能，必需增大防反射層與硬涂層6的折射率差。以上述防反射層的膜厚為d、折射率為η、入射光的波長為λ，防反射層的膜厚與其折射率之間滿足nd= λ/4的關(guān)系。防反射層的折射率小于基材的折射率時，在上述關(guān)系式成立的條件中反射率變得最小。例如，防反射層的折射率為1.45時，相對于可見光線中波長550nm的入射光，使反射率最小的防反射層的膜厚為95nm。體現(xiàn)防反射止功能的可見光線的波長區(qū)域為380 780nm，特別是視感度高的波長區(qū)域為450 650nm的范圍，通常進行使作為其中心波長的550nm的反射率最小的設(shè)計。按照單層來設(shè)計防反射層時，其厚度精度并不如多層防反射膜的厚度精度一樣嚴(yán)密，相對于設(shè)計厚度在士 10%的范圍、即設(shè)計波長為95nm時，只要在86nm 105nm的范圍就可以沒有問題地加以使用。由此，通常在單層防反射膜的形成中，采用濕式的噴泉涂布法 (fountain coat)、模具涂布法、旋涂法、噴涂法、凹版涂布法、輥涂法、棒涂法等涂刷方法。作為硬涂層6的形成材料，優(yōu)選使用例如蜜胺系樹脂、氨基甲酸酯系樹脂、醇酸系樹脂、丙烯酸系樹脂、硅系樹脂等固化型樹脂構(gòu)成的固化覆膜。另外，硬涂層6的厚度優(yōu)選 0. 1 30μπι。厚度小于0. Iym時，硬度有時會不足。另外，厚度超過30 μ m時，硬涂層6中有時會產(chǎn)生裂紋、或者層疊透明基體3整體發(fā)生卷曲。另外，圖1所示的透明導(dǎo)電性層疊體A在制作觸摸面板時或者根據(jù)需要在100 150°C的范圍內(nèi)實施退火處理。因此，作為透明導(dǎo)電性層疊體A，優(yōu)選具有100°C以上、進一步為150°C以上的耐熱性。透明導(dǎo)電性層疊體A中，作為層疊有導(dǎo)電性薄膜2的一側(cè)的物性，優(yōu)選導(dǎo)電性薄膜側(cè)的硬度為2GPa以上、特別是3GPa以上。另外，優(yōu)選導(dǎo)電性薄膜2側(cè)的彈性率為SGPa以上、特別是IOGPa以上。通過具有這樣的物性，即使折彎透明導(dǎo)電性層疊體A，也不會出現(xiàn)導(dǎo)電性薄膜2中出現(xiàn)的裂紋、或者電阻值劣化等故障，作為耐彎曲性能高的透明導(dǎo)電性層疊體，可以適用于觸摸面板等電致發(fā)光領(lǐng)域的基板中。另外，從耐裂紋性的觀點考慮，上述導(dǎo)電性薄膜2側(cè)的硬度的上限優(yōu)選5GPa以下、進一步為4GPa以下；同樣從耐裂紋性的觀點考慮，上述導(dǎo)電性薄膜2側(cè)的彈性率優(yōu)選20GPa以下、進一步為16GPa以下。上述導(dǎo)電性薄膜2側(cè)的硬度及彈性率通過壓痕(indentation)試驗(壓頭壓入試驗)，例如使用掃描型探針顯微鏡(JE0L.LTD/日本電子JSPM-4200)等可以測定(參照圖 3)。在薄膜硬度測定中，通常必需使壓頭的壓入深度止于膜厚深度的10分之1左右。在壓痕試驗中，將受試體(即透明導(dǎo)電性層疊體A的導(dǎo)電性薄膜2側(cè))固定在試樣臺20上，在此狀態(tài)下對受試體的大致中心部分施加負(fù)荷，壓入壓頭21，得到壓痕曲線(負(fù)荷_壓入深度曲線)。根據(jù)此時的最大負(fù)荷Pmax、壓頭21與受試體間的接觸投影面積A之比，由下式(1)求出受試體的硬度H。另外，根據(jù)壓痕曲線的除荷曲線的初期斜率S，由下式 (2)求出受試體的復(fù)合彈性率Er。并且，根據(jù)壓頭21的楊氏模量Ei、壓頭21的泊松比vi、 受試體的泊松比vs，由下式(3)求出受試體的楊氏模量Es。其中，下式⑵中β為常數(shù)。另外，壓頭為金剛石，其楊氏模量Ei為1，HOGPaJg 松比為0. 07。數(shù)學(xué)式1H = Pmax/A · · · (1)S= (2/f π) · E r · β · f A...(2)Er= l/{(l-vs2)/Es+(l_vi2)/Ei} · · · (3)其中，由于作為受試體的導(dǎo)電性薄膜的泊松比vs不清楚，因此將上述復(fù)合彈性率Er作為本發(fā)明中所說的彈性率。關(guān)于測定的細(xì)節(jié)，例如如W. C. Oliver and G. Μ. Phar, J. Meter. Res. ，Vol. 7, No. 6, June 1992 Handbook ofMicro/Nanotribology ^ΦIjf idi(； 的那樣，可以利用公知的方法進行測定。接下來，對本實施方式中的觸摸面板進行說明。圖2是概略地顯示本實施方式中的觸摸面板的截面示意圖。如同圖所示，觸摸面板為上述透明導(dǎo)電性層疊體A與下側(cè)基板 A'經(jīng)由隔離件s而對置的結(jié)構(gòu)。下側(cè)基板A'為于其它透明基體1'上層疊其它導(dǎo)電性薄膜2'的構(gòu)成。但是，本發(fā)明并不受限于此，例如也可以將透明導(dǎo)電性層疊體A用作下側(cè)基板A'。作為其它透明基體1'的構(gòu)成材料，基本上使用玻璃板或與層疊透明基體3相同的材料。另外，關(guān)于其厚度等也可以和層疊透明基體3相同。作為其它導(dǎo)電性薄膜2'的構(gòu)成材料，基本上可以使用與導(dǎo)電性薄膜2相同的材料。另外，關(guān)于其厚度等也可以與導(dǎo)電性薄膜2相同。作為隔離件S，只要是絕緣性的隔離件即可，沒有特別限定，可以使用以往公知的各種隔離件。對隔離件s的制造方法、尺寸、配置位置、數(shù)量沒有特別限定。另外，隔離件s 的形狀可以采用近球形的形狀或多角形狀等以往公知的形狀。圖2所示的觸摸面板作為透明開關(guān)基體而發(fā)揮作用，S卩，在從透明導(dǎo)電性層疊體A 側(cè)使用輸入筆等反抗隔離件S的彈力進行按壓觸碰時，導(dǎo)電性薄膜2、2’之間接觸，成為電路的ON狀態(tài)，當(dāng)解除上述按壓時，則回到原來的OFF狀態(tài)。此時，觸摸面板由于其導(dǎo)電性薄膜2在耐擦傷性或筆輸入耐久性、表面壓力耐久性等方面出色，可以長時間穩(wěn)定地維持上述功能。實施例以下，利用實施例來詳細(xì)說明本發(fā)明，但本發(fā)明只要不超出其要旨，并不限于以下的實施例。另外，各例中的“份”只要沒有特別說明，則均為重量基準(zhǔn)。(實施例1)[電介質(zhì)薄膜的形成]在由厚25 μ m的聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜(以下稱作PET薄膜)制成的薄膜基材的一個面上，利用真空蒸鍍法形成SiOx膜(相對折射率1. 80、厚度15nm)。然后，利用真空蒸鍍法于SiOx膜上形成SiO2膜(相對折射率1. 46、厚度30nm)。[導(dǎo)電性薄膜的形成]然后，在氬氣95%與氧氣5%組成的0. 4Pa的氣氛中，使用由氧化銦95重量％、氧化錫5重量％的燒結(jié)體材料，利用反應(yīng)濺射法在SiO2膜上形成厚25nm的ITO膜(導(dǎo)電性薄膜、相對折射率2. 00)。利用150°C X 1小時的加熱處理使ITO膜結(jié)晶化。[硬涂層的形成]作為硬涂層的形成材料，在丙烯酸 氨基甲酸酯系樹脂(大日本油墨化學(xué)(株)制的UNIDIC 17-806) 100份中，添加作為光聚合引發(fā)劑的羥基環(huán)己基苯基酮(千葉特殊化學(xué)藥品(Ciba Specialty Chemicals)公司制的Irgacure 184) 5份，配制成稀釋至30重量％ 濃度的甲苯溶液。在厚125 μ m的PET薄膜構(gòu)成的基體薄膜的一個面，涂布該硬涂層的形成材料，在 100°C下干燥3分鐘。然后立即用2個臭氧型高壓汞燈(能量密度80W/cm2，15cm聚光型) 進行紫外線照射，形成厚度為5 μ m的硬涂層。[層疊透明基體的制作]接著，在上述基體薄膜的與硬涂層形成面相反一側(cè)的面上，形成厚約20μπι的彈性系數(shù)為ΙΟΝ/cm2的透明的丙烯酸系的粘合劑層。作為粘合劑層組合物，使用在由丙烯酸丁酯、丙烯酸和醋酸乙烯酯的重量比為100 2 5的丙烯酸系共聚物100份中配合1份異氰酸酯系交聯(lián)劑而成的粘合劑層組合物。在上述粘合劑層側(cè)貼合由厚25 μ m的PET薄膜構(gòu)成的基體薄膜，制作具有兩張PET薄膜的層疊透明基體。[透明導(dǎo)電性層疊體的制作]在上述層疊透明基體的與硬涂層形成面相反一側(cè)的面上，用與上述相同的條件形成粘合劑層，將該粘合劑層面和薄膜基材(沒有形成導(dǎo)電性薄膜的一側(cè)的面)貼合，這樣就制成本實施例中的透明導(dǎo)電性層疊體。實施例2[電介質(zhì)薄膜的形成]
在由厚25μπι的PET薄膜制成的薄膜基材的一個面，利用有機材料形成厚200nm 的電介質(zhì)薄膜。形成由蜜胺樹脂烷基醇酸樹脂有機硅烷縮合物=2:2: 1(重量比) 的熱固化性樹脂制成的固化覆膜(相對折射率η = 1.54)作為該電介質(zhì)薄膜。接下來，在電介質(zhì)薄膜上，利用氧化硅涂覆法形成了濕SiO2膜。即，涂布以使固體成分濃度達(dá)到2%的方式將硅膠(Colcoat公司制的「Colcoat Pj )用乙醇稀釋了的材料， 在150°C干燥2分鐘后，將其固化，形成了厚30nm的濕3102膜(相對折射率為1.46)。[透明導(dǎo)電性層疊體的制作]在實施例1中，除了進行上述操作作為[電介質(zhì)薄膜的形成]以外，與實施例1同樣操作，制作了透明導(dǎo)電性層疊體。實施例3[電介質(zhì)薄膜的形成]在實施例2中，除了利用有機材料形成的電介質(zhì)薄膜的厚度為35nm、未形成濕 SiO2膜以外，進行與實施例2相同的操作，制作電介質(zhì)薄膜。[透明導(dǎo)電性層疊體的制作]在實施例2中，除了進行上述操作作為[電介質(zhì)薄膜的形成]以外，與實施例2同樣操作，制作了透明導(dǎo)電性層疊體。實施例4[電介質(zhì)薄膜的形成]在實施例1中，除了使SiO2膜的厚度為60 μ m以外，進行與實施例1相同的操作， 制作電介質(zhì)薄膜。[透明導(dǎo)電性層疊體的制作]在實施例1中，除了進行上述操作作為[電介質(zhì)薄膜的形成]以外，與實施例1同樣操作，制作了透明導(dǎo)電性層疊體。實施例5[電介質(zhì)薄膜的形成]在實施例2中，除了使利用有機材料形成的電介質(zhì)薄膜的厚度為150μπι以外，進行與實施例2相同的操作，制作電介質(zhì)薄膜。[透明導(dǎo)電性層疊體的制作]在實施例2中，除了進行上述操作作為[電介質(zhì)薄膜的形成]以外，與實施例2同樣操作，制作了透明導(dǎo)電性層疊體。比較例1在實施例2中，除了未使用層疊透明基體，而是作為透明基體，使用了在由厚 125μπι的PET薄膜構(gòu)成的基體薄膜上形成了硬涂層的材料(在實施例1的層疊透明基體中，未貼合由厚25 μ m的PET薄膜構(gòu)成的基體薄膜的材料)以外，與實施例2相同地制作了透明導(dǎo)電性層疊體。比較例2在實施例3中，除了未使用層疊透明基體，而是作為透明基體，使用了在由厚 125μπι的PET薄膜構(gòu)成的基體薄膜上形成了硬涂層的材料(在實施例1的層疊透明基體中，未貼合由厚25 μ m的PET薄膜構(gòu)成的基體薄膜的材料)以外，與實施例3相同地制作了透明導(dǎo)電性層疊體。(觸摸面板的制作)以實施例及比較例中得到的各透明導(dǎo)電性層疊體為面板，作為另一個面板(下側(cè)基板)，使用利用與上述相同的方法于玻璃板上形成了厚30nm的ITO薄膜的透明導(dǎo)電性玻璃，將該兩塊面板經(jīng)由10 μ m的隔離件進行對向配置使ITO薄膜彼此相對，分別制作作為開關(guān)骨架體的觸摸面板。尚需說明的是，兩塊面板的各ITO薄膜在上述對向配置之前，按照相互垂直的方式預(yù)先形成有銀電極。(折射率)至于SiOx膜、SiO2膜、ITO膜等的折射率，使用ATAGO公司制的阿貝折射率計，對各種測定面入射測定光，利用該折射計所示的規(guī)定的測定方法進行測定。(各層的厚度)關(guān)于薄膜基材、基體薄膜、硬涂層、粘合劑層等具有Iym以上的厚度的層，利用日本三豐制MiCr0gag( ι “ 口 H )式厚度計進行測定。在硬涂層、粘合劑層等難以直接計測厚度的層的情況下，測定設(shè)有各層的基材的總厚度，通過扣除基材的厚度，算出各層的膜厚。至于SiOx膜、SiO2膜、ITO膜等的厚度，使用大塚電子(株)制的瞬間多重測光系統(tǒng)MCPD2000(商品名)，基礎(chǔ)地算出來自干涉光譜的波形。(導(dǎo)電性薄膜側(cè)的硬度及彈性率)利用壓痕試驗，按照本文詳述的方法測定導(dǎo)電性薄膜側(cè)的硬度及彈性率。S卩，如上述圖3所示，將標(biāo)準(zhǔn)樣品(溶融二氧化硅)固定在試樣臺上，在此狀態(tài)下對標(biāo)準(zhǔn)樣品的大致中心部分施加負(fù)荷沿垂直方向壓入壓頭。標(biāo)準(zhǔn)樣品中壓頭接觸時的最大壓入深度he與接觸投影面積A的關(guān)系由下式表示。數(shù)學(xué)式2A = 24. 5hc2 = C0hc2+C1hc+C2hc1/2+C3hc1/4+C4hc1/8+C5hc1/10并且，使用上述數(shù)式(1) (3)算出01 (5。計算時，在負(fù)荷為2(^、5(^、8(^、10(^、 150N、200N的6種條件下，分別用3秒鐘沿垂直方向壓入一次壓頭(壓頭壓入)，每個樣品測定5次，求出平均值。在各次的測定中充分確保測定位置的距離，使不產(chǎn)生壓痕的影響。 另外，在各負(fù)荷下按照硬度H為lOGPa、彈性率Er為70GPa進行計算。接下來，以各實施例及比較例中得到的透明導(dǎo)電性層疊體作為受試體，測定各自的硬度及彈性率。將受試體固定在試樣臺上，使導(dǎo)電性薄膜(ITO薄膜)成為上側(cè)。在如此固定的狀態(tài)下，對導(dǎo)電性薄膜側(cè)的大致中心部分以負(fù)荷20 μ N、用3秒鐘沿垂直方向壓入一次壓頭(壓頭壓入)，每個樣品測定5次，求出平均值。(表面電阻值)使用二端子法，測定各觸摸面板中的ITO膜的表面電阻值(Ω/ □)?！垂獾耐高^率〉使用島津制作所制的分光分析裝置UV-240，測定了光波長550nm下的可見光線透過率。〈表面壓力耐久性〉如圖4所示，在用負(fù)荷2kg擠壓表面壓力耐久性試驗用夾具(接地直徑Φ20πιπι)的狀態(tài)下(夾具在與觸摸面板接地時的摩擦系數(shù)為0. 7 1. 3)，使夾具相對于各觸摸面板滑動，在規(guī)定條件下測定滑動之后的直線性，評價表面壓力耐久性?；瑒觿幼髟谕该鲗?dǎo)電性層疊體側(cè)，是在與觸摸面板的周邊部相距5mm以上的范圍內(nèi)的區(qū)域進行的。另外，滑動條件為，將滑動次數(shù)設(shè)為100次，將觸摸面板的間距設(shè)為ΙΟΟμπι。直線性的測定如下所述。即，在透明導(dǎo)電性層疊體中，施加5V的電壓，將測定開始位置A的輸出電壓設(shè)為Ea、測定結(jié)束位置B的輸出電壓設(shè)為Eb、測定點的輸出電壓設(shè)為Εχ、 理論值設(shè)為Exxw，則直線性可由下面的方法得到。S卩，在各觸摸面板的滑動之后，在透明導(dǎo)電性層疊體中，施加5V的電壓，將測定開始位置A的輸出電壓設(shè)為Ea、測定結(jié)束位置B的輸出電壓設(shè)為Eb、測定點的輸出電壓設(shè)為 Ex、理論值設(shè)為Exx時，可用下述公式計算得到直線性。圖5中給出表示在實施例1中得到的觸摸面板中的電壓值與測定位置之間的關(guān)系的圖表。同圖所示的實線表示實測值，虛線表示理論值。由得到的直線性的值來評價表面壓力耐久性。結(jié)果見下述表1。[數(shù)學(xué)式3]Exx (理論值)=X · (Eb-Ea) / (B-A) +Ea直線性(％) = {(Exx-Ex) / (Eb-Ea) } X 100[表1]
權(quán)利要求
1.一種透明導(dǎo)電性層疊體，其特征在于，其是依次具有層疊透明基體、第一粘合劑層、 透明薄膜基材、第一透明電介質(zhì)薄膜、第二透明電介質(zhì)薄膜以及透明導(dǎo)電性薄膜的透明導(dǎo)電性層疊體，所述層疊透明基體依次具有第一透明基體薄膜、第二粘合劑層和第二透明基體薄膜， 所述第一透明電介質(zhì)薄膜的厚度為Inm 30nm，所述第二透明電介質(zhì)薄膜的厚度為 IOnm 70nm，所述透明導(dǎo)電性薄膜的厚度為20nm 35nm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其特征在于，所述第一透明電介質(zhì)薄膜是利用干式程序而設(shè)置的薄膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其特征在于，所述導(dǎo)電性薄膜由晶體粒徑為200nm以下的晶體含量超過50%的結(jié)晶質(zhì)的銦錫氧化物構(gòu)成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其特征在于，在所述層疊透明基體的外表面設(shè)有樹脂層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其特征在于，層疊有所述導(dǎo)電性薄膜的一側(cè)的硬度為2GPa以上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電性層疊體，其特征在于，層疊有所述導(dǎo)電性薄膜的一側(cè)的彈性率為SGPa以上。
7.一種觸摸面板，其特征在于，具有權(quán)利要求1 6中任一項所述的透明導(dǎo)電性層疊體。
全文摘要
本發(fā)明提供一種透明導(dǎo)電性層疊體，是在透明的薄膜基材的一個面經(jīng)由電介質(zhì)薄膜設(shè)有透明的導(dǎo)電性薄膜、在透明的薄膜基材的另一個面經(jīng)由透明的粘合劑層貼合有透明基體的透明導(dǎo)電性層疊體，其特征是，上述透明基體是至少將2張透明的基體薄膜經(jīng)由透明的粘合劑層層疊的層疊透明基體；上述電介質(zhì)薄膜由第一透明電介質(zhì)薄膜和第二透明電介質(zhì)薄膜形成，所述第一透明電介質(zhì)薄膜由相對折射率為1.6～1.9的SiOx膜(x為1.5以上且小于2)制成，所述第二透明電介質(zhì)薄膜由SiO2膜制成。所述透明導(dǎo)電性層疊體的表面壓力耐久性出色。
文檔編號G06F3/041GK102298985SQ20111013923
公開日2011年12月28日 申請日期2007年6月7日 優(yōu)先權(quán)日2006年8月3日
發(fā)明者吉武秀敏, 梨木智剛, 菅原英男 申請人:日東電工株式會社