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一種運(yùn)載火箭復(fù)合姿態(tài)控制方法與流程

文檔序號(hào):40656172發(fā)布日期:2025-01-10 19:07閱讀:4來源:國知局
一種運(yùn)載火箭復(fù)合姿態(tài)控制方法與流程

本申請(qǐng)屬于運(yùn)載火箭的姿態(tài)控制領(lǐng)域,具體的,為一種運(yùn)載火箭復(fù)合姿態(tài)控制方法。


背景技術(shù):

1、運(yùn)載火箭的飛行姿態(tài)控制中,需要控制噴管的朝向或沖量進(jìn)行姿態(tài)調(diào)整,但是在惡劣環(huán)境中,噴管的伺服機(jī)構(gòu)容易出現(xiàn)變形量增大問題,形成抖動(dòng)姿態(tài)角偏差量,且抖動(dòng)姿態(tài)角偏差量會(huì)和箭體自身的姿態(tài)角偏差量耦合,使得誤差增大。為了提升運(yùn)載火箭的姿態(tài)角偏差量精度,且降低采用多步驟姿態(tài)控制中可能產(chǎn)生的控制效率降低問題,有必要提出一種針對(duì)運(yùn)載火箭姿態(tài)的復(fù)合控制方法。

2、申請(qǐng)內(nèi)容

3、在申請(qǐng)內(nèi)容部分中引入了一系列簡化形式的概念,這將在具體實(shí)施方式部分中進(jìn)一步詳細(xì)說明。本申請(qǐng)的申請(qǐng)內(nèi)容部分并不意味著要試圖限定出所要求保護(hù)的技術(shù)方案的關(guān)鍵特征和必要技術(shù)特征,更不意味著試圖確定所要求保護(hù)的技術(shù)方案的保護(hù)范圍。

4、第一方面,本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種運(yùn)載火箭復(fù)合姿態(tài)控制方法,所述方法包括:

5、獲取箭體姿態(tài)角偏差量;

6、將所述姿態(tài)角偏差量輸入至側(cè)噴流校正網(wǎng)絡(luò),以獲取姿態(tài)噴管控制信號(hào);

7、將所述姿態(tài)角偏差量輸入至擺動(dòng)噴管校正網(wǎng)絡(luò),以獲取擺動(dòng)噴管伺服控制信號(hào);

8、基于所述姿態(tài)噴管控制信號(hào)和所述擺動(dòng)噴管伺服控制信號(hào)對(duì)所述目標(biāo)箭體進(jìn)行姿態(tài)控制。

9、在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中,所述將所述姿態(tài)角偏差量輸入至側(cè)噴流校正網(wǎng)絡(luò),以獲取姿態(tài)噴管控制信號(hào),包括:

10、將所述姿態(tài)角偏差量輸入至所述側(cè)噴流校正網(wǎng)絡(luò),以獲取側(cè)噴流校正模型的輸出量;

11、根據(jù)所述側(cè)噴流校正模型的輸出量和姿控噴管開關(guān)門限值進(jìn)行姿控噴管的繼電器特性處理操作,以獲取所述姿態(tài)噴管控制信號(hào)。

12、在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中,所述噴管的繼電器特性處理操作基于下式確定:

13、

14、其中,δzk表示所述姿態(tài)噴管控制信號(hào);mzk表示所述控噴管開關(guān)門限值,δcpl表示所述側(cè)噴流校正模型的輸出量。

15、在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中,所述側(cè)噴流校正網(wǎng)絡(luò)的校正模型為:

16、

17、其中,δcpl表示側(cè)噴流校正模型的輸出量;j表示復(fù)數(shù)單位;z表示復(fù)數(shù)變量;表示運(yùn)載火箭的箭體姿態(tài)角偏差量;gcpl表示側(cè)噴流校正傳遞函數(shù);

18、

19、其中,ζz表示側(cè)噴流校正傳遞函數(shù)的零點(diǎn)阻尼;ωz表示側(cè)噴流校正傳遞函數(shù)的零點(diǎn)頻率;ζp表示側(cè)噴流校正傳遞函數(shù)的極點(diǎn)阻尼;ωp表示側(cè)噴流校正傳遞函數(shù)的極點(diǎn)頻率;s表示側(cè)噴流校正傳遞函數(shù)的頻率響應(yīng);所述側(cè)噴流校正傳遞函數(shù)的零點(diǎn)阻尼和所述側(cè)噴流校正傳遞函數(shù)的極點(diǎn)阻尼由運(yùn)載火箭的性能確定,kjz為側(cè)噴流校正網(wǎng)絡(luò)增益。

20、在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中,所述擺動(dòng)噴管校正網(wǎng)絡(luò)的校正模型為:

21、

22、其中,δbc表示擺動(dòng)噴管校正模型的輸出量;j表示復(fù)數(shù)單位;z表示復(fù)數(shù)變量;表示箭體姿態(tài)角偏差量;gbc表示擺動(dòng)噴管校正傳遞函數(shù);

23、

24、其中,ωn表示擺動(dòng)噴管校正傳遞函數(shù)的極點(diǎn)頻率,ζn表示擺動(dòng)噴管校正傳遞函數(shù)的極點(diǎn)阻尼,s表示擺動(dòng)噴管校正傳遞函數(shù)的頻率響應(yīng),所述擺動(dòng)噴管校正傳遞函數(shù)的極點(diǎn)頻率和擺動(dòng)噴管校正傳遞函數(shù)的極點(diǎn)阻尼由運(yùn)載火箭性能參數(shù)確定。

25、在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中,還包括:

26、基于箭體實(shí)際姿態(tài)角和箭體目標(biāo)姿態(tài)角基于負(fù)反饋調(diào)節(jié),獲取姿態(tài)角偏差量。

27、在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中,所述復(fù)合姿態(tài)控制包括側(cè)噴流控制和擺動(dòng)噴管控制,基于所述姿態(tài)噴管控制信號(hào)控制目標(biāo)箭體的姿態(tài)噴管開閉,以控制所述擺動(dòng)噴管控制造成的箭體姿態(tài)角偏差量;

28、基于擺動(dòng)噴管伺服控制信號(hào)控制所述目標(biāo)火箭的噴管,以控制所述目標(biāo)箭體的箭體姿態(tài)角偏差量。

29、第二方面,本申請(qǐng)?zhí)岢鲆环N運(yùn)載火箭復(fù)合姿態(tài)控制裝置,包括:

30、箭體姿態(tài)角偏差量測量單元,用于基于箭體實(shí)際姿態(tài)角和箭體目標(biāo)姿態(tài)角和負(fù)反饋調(diào)節(jié),獲取姿態(tài)角偏差量;

31、擺動(dòng)噴管校正單元,用于基于所述姿態(tài)角偏差量,獲取擺動(dòng)噴管伺服控制信號(hào);

32、側(cè)噴流校正單元,用于基于所述姿態(tài)角偏差量,獲取姿控噴管控制信號(hào);

33、箭體姿態(tài)控制單元,用于基于所述擺動(dòng)噴管伺服控制信號(hào)和所述姿控噴管控制信號(hào),調(diào)整目標(biāo)火箭姿態(tài)。

34、第三方面,本申請(qǐng)?zhí)岢鲆环N計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),其特征在于,所述計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)包括存儲(chǔ)的程序,其中,在所述程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)上述第一方面中任一項(xiàng)所述的運(yùn)載火箭復(fù)合姿態(tài)控制步驟。

35、第四方面,本申請(qǐng)?zhí)岢鲆环N電子設(shè)備,其特征在于,所述電子設(shè)備包括至少一個(gè)處理器、以及與所述處理器連接的至少一個(gè)存儲(chǔ)器;其中,所述處理器用于調(diào)用所述存儲(chǔ)器中的程序指令,執(zhí)行上述第一方面中任一項(xiàng)的運(yùn)載火箭復(fù)合姿態(tài)控制步驟。

36、綜上,本申請(qǐng)實(shí)施例的一種運(yùn)載火箭復(fù)合姿態(tài)控制方法包括:獲取箭體姿態(tài)角偏差量,將箭體姿態(tài)角偏差量同時(shí)發(fā)送到側(cè)噴流校正網(wǎng)絡(luò)和擺動(dòng)噴管校正網(wǎng)絡(luò),其中,側(cè)噴流校正網(wǎng)絡(luò)接收到姿態(tài)角偏差量之后進(jìn)行輸出,并且該輸出被發(fā)送給姿控噴管開關(guān)門限,以進(jìn)行數(shù)值比較,當(dāng)輸出值超出了開關(guān)門限值時(shí),姿控噴管按照原始朝向開啟,當(dāng)輸出值小于開關(guān)門限的負(fù)數(shù)時(shí),則姿控噴管向原始方向的反方向運(yùn)行,其他參數(shù)范圍時(shí),姿控噴管關(guān)閉,基于該方法,調(diào)整姿控噴管的運(yùn)行狀態(tài),而對(duì)于擺動(dòng)噴管控制系統(tǒng),則無需利用開關(guān)門限進(jìn)行開啟判斷,直接將擺動(dòng)噴管控制網(wǎng)絡(luò)的輸出發(fā)送到伺服裝置,調(diào)整擺動(dòng)噴管的運(yùn)行參數(shù),實(shí)現(xiàn)對(duì)運(yùn)載火箭的大參數(shù)姿控調(diào)整。不僅能夠基于擺動(dòng)噴管控制系統(tǒng)對(duì)運(yùn)載火箭的整體姿態(tài)進(jìn)行控制,還可以對(duì)擺動(dòng)噴管姿控系統(tǒng)運(yùn)行中所產(chǎn)生的抖動(dòng)姿態(tài)角偏差量進(jìn)行控制,提高了姿態(tài)角偏差量的控制精度,而且將姿態(tài)角偏差量同時(shí)發(fā)送給兩個(gè)姿態(tài)控制網(wǎng)絡(luò),充分提高了運(yùn)載火箭的姿控調(diào)整效率。

37、本申請(qǐng)?zhí)岢龅倪\(yùn)載火箭復(fù)合姿態(tài)控制方法中,本申請(qǐng)的其它優(yōu)點(diǎn)、目標(biāo)和特征將部分通過下面的說明體現(xiàn),部分還將通過對(duì)本申請(qǐng)的研究和實(shí)踐而為本領(lǐng)域的技術(shù)人員所理解。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路



技術(shù)特征:

1.一種運(yùn)載火箭復(fù)合姿態(tài)控制方法,其特征在于,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的運(yùn)載火箭復(fù)合姿態(tài)控制方法,其特征在于,所述將所述姿態(tài)角偏差量輸入至側(cè)噴流校正網(wǎng)絡(luò),以獲取側(cè)噴流校正網(wǎng)絡(luò)輸出,進(jìn)而得到姿態(tài)噴管控制信號(hào),包括:

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的運(yùn)載火箭復(fù)合姿態(tài)控制方法,其特征在于,所述噴管的繼電器特性處理操作基于下式確定:

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的運(yùn)載火箭復(fù)合姿態(tài)控制方法,其特征在于,所述側(cè)噴流校正網(wǎng)絡(luò)的校正模型為:

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的運(yùn)載火箭復(fù)合姿態(tài)控制方法,其特征在于:所述擺動(dòng)噴管校正網(wǎng)絡(luò)的校正模型為:

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的運(yùn)載火箭復(fù)合姿態(tài)控制方法,其特征在于,還包括:

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的運(yùn)載火箭復(fù)合姿態(tài)控制方法,其特征在于,所述復(fù)合姿態(tài)控制包括側(cè)噴流控制和擺動(dòng)噴管控制,基于所述姿態(tài)噴管控制信號(hào)控制目標(biāo)箭體的姿態(tài)噴管開閉,以控制所述擺動(dòng)噴管控制造成的箭體姿態(tài)角偏差量;

8.一種運(yùn)載火箭復(fù)合姿態(tài)控制系統(tǒng),其特征在于,包括:

9.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),其特征在于,所述計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)包括存儲(chǔ)的程序,其中,在所述程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至權(quán)利要求7中任一項(xiàng)所述的運(yùn)載火箭復(fù)合姿態(tài)控制步驟。

10.一種電子設(shè)備,其特征在于,所述電子設(shè)備包括至少一個(gè)處理器、以及與所述處理器連接的至少一個(gè)存儲(chǔ)器;其中,所述處理器用于調(diào)用所述存儲(chǔ)器中的程序指令,執(zhí)行如權(quán)利要求1至權(quán)利要求7中任一項(xiàng)所述的運(yùn)載火箭復(fù)合姿態(tài)控制步驟。


技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)公開了一種運(yùn)載火箭復(fù)合姿態(tài)控制方法,包括:建立運(yùn)載火箭的擺動(dòng)噴管校正模型和側(cè)噴流校正模型,箭體姿態(tài)角偏差量同時(shí)向兩個(gè)模型發(fā)送,并計(jì)算輸出量,其中,側(cè)噴流校正模型的輸出量和姿控噴管開關(guān)門限比較,側(cè)噴流校正網(wǎng)絡(luò)的輸出量達(dá)到姿控噴管開關(guān)門限時(shí),側(cè)噴流校正網(wǎng)絡(luò)的輸出才可實(shí)際作用于運(yùn)載火箭的箭體姿態(tài)控制過程。本申請(qǐng)通過對(duì)擺動(dòng)噴管校正模型和側(cè)噴流校正模型的共同應(yīng)用,消除了在惡劣環(huán)境下,擺動(dòng)噴管校正系統(tǒng)運(yùn)行時(shí)產(chǎn)生的抖動(dòng)姿態(tài)角偏差量,提高箭體姿態(tài)控制精度,且側(cè)噴流校正模型的輸出量經(jīng)過和姿控噴管開關(guān)門限的比較,保證側(cè)噴流校正模型只有在必要的情況下控制箭體姿態(tài),從而提高了燃料利用率。

技術(shù)研發(fā)人員:岳小飛,朱丹,趙爽,張修瑋,黃曉平,何漫麗,楊凱銅,唐夢(mèng)瑩,周鑫,武曉麗
受保護(hù)的技術(shù)使用者:航天科工火箭技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/9
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