專利名稱：一種壓力控制裝置的制作方法
技術(shù)領域：
本實用新型涉及微電子技術(shù)領域，特別是涉及一種用于控制蝕刻機臺 腔室壓力的壓力控制裝置。
背景技術(shù)：
在蝕刻技術(shù)中，為了保持腔室內(nèi)的氣體壓力穩(wěn)定，需要對腔室內(nèi)的氣
體壓力進行控制。如圖1所示，TEL蝕刻機臺的腔室1通過主控制氣動 閥4(MainT01 (Fast pump down))和次控制氣動閥5(Cont T02( Slow pump down))與干泵8相連接，而腔室內(nèi)氣體壓力的穩(wěn)定是通過壓力控制閥2 和次控制氣動閥5控制回路來實現(xiàn)的。采用此控制回路時的腔室壓力變化 圖如圖2所示，當腔室內(nèi)的氣體壓力發(fā)生變化時，由于采用次控制氣動閥 時的抽壓效率較低，所以此時腔室內(nèi)的壓力就會有較大起伏，氣壓不穩(wěn)就 有可能形成繞流，影響產(chǎn)品合格率。而通過比較采用上述主控制氣動閥和 次控制氣動閥時的抽壓效率，得出的結(jié)論是采用主控制氣動閥時的抽壓效 率是采用次控制氣動閥時的3倍。
發(fā)明內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，本實用新型的目的是提出一種用于控制蝕刻機 臺腔室壓力的壓力控制裝置。
為了達到本實用新型的上述目的，本實用新型提出一種壓力控制裝
置，包括與腔室相連的壓力控制閥，與壓力控制閥連接的第一氣動閥， 連接腔室的主控制氣動閥和次控制氣動閥，通過第二氣動閥連接腔室的氣 壓計，上述壓力控制閥與上述氣壓計形成信號通路，上述第一氣動閥與上 述主控制氣動閥之間也形成有信號通路。在上述裝置中，主控制氣動閥和次控制氣動閥的另一端連接干泵。 在上述裝置中，通過上述第一氣動閥和壓力控制閥通入氣體。 在上述裝置中，上述腔室連接有用以通入氣體的第三氣動閥。 在上述裝置中，上述腔室通過第四氣動閥與泄氣閥相連接。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，由于本實用新型采用了壓力控制閥PCV和主控制
氣動閥及次控制氣動閥控制回路來控制腔室的氣體壓力，抽壓(泵數(shù))效 率有所提升，因此當腔室內(nèi)的氣體壓力發(fā)生變化時，其起伏較小，從而能 更好地維持住腔室內(nèi)的氣體壓力，減少蝕刻機因此原因而停止工作的情 況。


圖1為現(xiàn)有的一種壓力控制裝置的實施例示意圖。
圖2為現(xiàn)有的一種壓力控制裝置的腔室壓力變化示意圖。
圖3為本實用新型的一種壓力控制裝置的優(yōu)選實施例示意圖。
圖4為本實用新型的一種壓力控制裝置的優(yōu)選實施例的腔室壓力變 化示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本實用新型做進一步說明。
如圖l所示， 一種用于控制腔室壓力的壓力控制裝置，包括與腔室
1相連的壓力控制閥PCV2，與壓力控制閥PCV 2連接的第一氣動閥3， 連接腔室1的主控制氣動閥4(MainT01)和次控制氣動閥5(CONTT02)， 通過第二氣動閥6連接腔室1的氣壓計CM7，上述壓力控制閥PCV2與 上述氣壓計CM 7形成信號通路，上述第一氣動閥3與上述主控制氣動閥 4之間也形成有信號通路，主控制氣動閥4和次控制氣動閥5的另一端連 接干泵8，氮氣通過上述第一氣動閥3和壓力控制閥2輸入到腔室1中， 氮氣還可通過第三氣動閥9輸入到腔室1中，泄氣閥11通過第四氣動閥 10與腔室1相連，對流式氣壓計CV12也與腔室1相連。氮氣輸入管路分為兩路， 一路通過第三氣動闊9與腔室1相連通，另 一路通過第一氣動閥3以及壓力控制閥2與腔室1相連通，與腔室相連的 氣壓計CM 7測量腔室內(nèi)的氣體壓力并發(fā)送信號給壓力控制閥PCV2，壓 力控制閥PCV 2根據(jù)接收到信號向主控制氣動閥4發(fā)出相應的單向控制 信號，主控制氣動閥4根據(jù)接收到的信號來控制其所控制的管路的抽壓速 率。
當腔室1的隔離門GATE DOOR開關(guān)時，腔室內(nèi)的氣體壓力就會發(fā) 生變化，壓力控制閥PCV 2根據(jù)接收到的信號向主控制氣動閥4 (Main T01)發(fā)出相應的單向控制信號，或加快抽壓或放慢抽壓，由于采用主控 制氣動閥4 (MainTOl)時的抽壓速率高，因此抽壓速率的可控范圍比采 用次控制氣動閥5(CONTT02)時更大。這樣將主控制氣動閥4(MainT01) 及次控制氣動閥5 (CONTT02)聯(lián)合起來一起使用，就能更及時快速地 執(zhí)行控制信號所要求的動作，因而能很好地維持住腔室內(nèi)氣體壓力的相對 平穩(wěn)。
本優(yōu)選實施例的腔室壓力變化圖如圖4所示。橫軸為時間軸，縱軸為 腔室內(nèi)的壓力，以托Torr為單位，ATM為一個標準大氣壓，TM表示腔 室l，由圖4可看出，當TM壓力有變化時，腔室內(nèi)的氣體壓力起伏較小。 所以，將主控制氣動閥4 (MainTOl)和次控制氣動閥5 (CONTT02)聯(lián) 合使用，當腔室壓力變化時，使壓力變化的起伏較單獨使用次控制氣動閥 5 (CONTT02)時小，因此不易造成機臺因壓力不穩(wěn)而停止工作的情況。
當然，本實用新型還可有其他實施例，在不背離本實用新型之精神及 實質(zhì)的情況下，所屬技術(shù)領域的技術(shù)人員當可根據(jù)本實用新型作出各種相 應的改變，但這些相應的改變都應屬于本實用新型權(quán)利要求的保護范圍。
權(quán)利要求1. 一種控制腔室壓力的壓力控制裝置，其特征在于，包括與腔室相連的壓力控制閥，與壓力控制閥連接的第一氣動閥，連接腔室的主控制氣動閥和次控制氣動閥，通過第二氣動閥連接腔室的氣壓計，上述壓力控制閥與上述氣壓計形成信號通路，上述第一氣動閥與上述主氣動閥之間也形成有信號通路。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種壓力控制裝置，其特征在于上述主控 制氣動閥和次控制氣動閥的另 一端連接干泵。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種壓力控制裝置，其特征在于通過上述 第一氣動闊和壓力控制閥通入氣體。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種壓力控制裝置，其特征在于上述腔室 還連接有用以通入氣體的第三氣動閥。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種壓力控制裝置，其特征在于上述腔室 通過第四氣動閥與泄氣閥相連接。
專利摘要本實用新型提出一種用于控制蝕刻機臺內(nèi)腔室壓力的壓力控制裝置，包括與腔室相連的壓力控制閥，與壓力控制閥連接的第一氣動閥，連接腔室的主控制氣動閥和次控制氣動閥，通過第二氣動閥連接腔室的氣壓計，上述壓力控制閥與上述氣壓計形成信號通路，上述第一氣動閥與上述主控制氣動閥之間也形成有信號通路。采用本實用新型，當腔室內(nèi)的氣體壓力發(fā)生變化時，其起伏較小，從而能更好地維持住腔室內(nèi)的氣體壓力，減少蝕刻機因此原因而停止工作的情況。
文檔編號G05D16/00GK201255840SQ20082013321
公開日2009年6月10日 申請日期2008年8月22日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月22日
發(fā)明者華 張 申請人:和艦科技(蘇州)有限公司