一種可拆卸的交流塞曼石墨爐原子化器的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及原子化技術(shù)，具體涉及一種交流塞曼石墨爐原子化器。
【背景技術(shù)】
[0002]石墨爐原子化器是目前無火焰原子化技術(shù)中使用最廣泛的原子化方法。石墨爐原子化法主要是在惰性氣體氛圍(如氬氣)的石墨管中利用電加熱的方式使注入管中的待測(cè)試樣原子化。由于注入的試樣幾乎可以完全原子化，而且對(duì)那些易形成難解離氧化物的元素，由于沒有氧的大量存在，所以能獲得較好的原子化效率。
[0003]1959年，L’ vov發(fā)表了關(guān)于石墨管原子化器的論文，并對(duì)石墨爐技術(shù)在定量計(jì)算、溫度測(cè)定等方面進(jìn)行詳細(xì)的討論。L’ vov采用的是將石墨坩禍處于可充入氬氣的密封狀態(tài)中，利用電弧使得試樣原子化。石墨坩鍋爐由于結(jié)構(gòu)復(fù)雜、操作繁瑣而限制了其被廣泛應(yīng)用。Massmann于1968年設(shè)計(jì)了一種結(jié)構(gòu)較為簡單、易于操作的縱向電阻加熱石墨爐原子化器，這種原子化器不久即被廣泛的應(yīng)用。Massmann型石墨爐是在石墨管的兩端通過大電流加熱快速升溫使試樣達(dá)到原子化狀態(tài)。
[0004]石墨爐原子化技術(shù)雖然降低了元素的檢出限，但較大的背景干擾不可避免，因此需要合適的背景校正技術(shù)與之匹配。
[0005]光譜譜線在磁場(chǎng)中分裂的現(xiàn)象稱為塞曼效應(yīng)，是由Zeeman發(fā)現(xiàn)的，塞曼效應(yīng)其實(shí)質(zhì)是一種磁光效應(yīng)，是原子中能級(jí)發(fā)生了裂變而引起光譜線的裂變。塞曼效應(yīng)可分為正常塞曼效應(yīng)和反常塞曼效應(yīng)。
[0006]1968年，Schrenk等研究了空心陰極燈發(fā)射的磁效應(yīng)，嘗試通過磁場(chǎng)，增加發(fā)射譜線輪廓與吸收譜線輪廓的重疊區(qū)域。1969年，PRUGGER和T0RGE申請(qǐng)專利DE1964469，應(yīng)用塞曼效應(yīng)進(jìn)行背景校正，隨后兩年中，塞曼效應(yīng)即被應(yīng)用于原子吸收的背景校正。1971年，Hadeishi和McLaughlin應(yīng)用塞曼效應(yīng)原子吸收測(cè)定了基質(zhì)材料中的痕量Hg ；Hadeishi還利用19SHg同位素位移塞曼效應(yīng)測(cè)定了環(huán)境樣品中的痕量Hg含量。早期的許多關(guān)于塞曼背景校正的研究都是使用恒定磁場(chǎng)，Koizumi和Yasuda對(duì)這種結(jié)構(gòu)做了詳細(xì)的研究。以上這些塞曼背景校正的研究都是將磁場(chǎng)直接置于原子吸收的輻射光源上，相應(yīng)的商品儀器有德國的SM-1型塞曼原子吸收光譜儀。
[0007]1976年，Koizumi和Yasuda對(duì)磁場(chǎng)置于原子化器部分，將磁場(chǎng)方向與光源福射光束方向垂直的塞曼背景校正方式進(jìn)行了研究，并觀察了垂直與平行磁場(chǎng)方向的偏振吸收情況。隨后，Koizumi等又對(duì)這種結(jié)構(gòu)做了詳細(xì)的研究報(bào)道；Dawson等及Fernandez等對(duì)原子化器塞曼效應(yīng)的性能，包括靈敏度、線性范圍和背景校正結(jié)果等做了研究；1978年，DeLoos-Vollebregt和De Gal an將磁場(chǎng)調(diào)制模式引入塞曼背景校正中，其在石墨爐處加上橫向交變磁場(chǎng)，結(jié)果證明這種模式可同時(shí)校正非吸收線和背景衰減。Brodie和Liddell將這種校正方法應(yīng)用于6cm的火焰燃燒器上，同時(shí)對(duì)該方法的性能進(jìn)行了研究。以上討論的是將磁場(chǎng)置于原子化器處；且磁場(chǎng)方向都是與光束傳播方向垂直(橫向)的塞曼校正方法。相應(yīng)恒定磁場(chǎng)方式的商品化儀器有日本Hitachi公司的Z8000和Z5000等系列儀器；而交變磁場(chǎng)方式被Perkin-Elmer、瓦里安和熱電等各大公司采用，并且發(fā)展了縱向磁場(chǎng)置于原子化器的塞曼背景校正商品儀器(例如Perkin-Elmer的AA800和GBC)。
[0008]傳統(tǒng)塞曼石墨爐原子化器結(jié)構(gòu)復(fù)雜，難于精確校裝其在光路中的精確位置，造成光能量損失，使原子吸收光譜儀的噪音水平增加，檢出限降低。當(dāng)用戶更換石墨管、石墨錐等維護(hù)操作之后，傳統(tǒng)塞曼石墨爐原子化器將進(jìn)一步的偏離設(shè)計(jì)位置，從而造成原子吸收光譜儀的性能的進(jìn)一步降低。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0009]針對(duì)傳統(tǒng)塞曼石墨爐原子化器結(jié)構(gòu)復(fù)雜、裝配調(diào)試?yán)щy，造成塞曼石墨爐原子化器性能降低的問題，本實(shí)用新型的目的在于提供一種易于裝配，方便調(diào)試的石墨爐原子化器，當(dāng)用戶進(jìn)行更換石墨管石墨錐等維護(hù)操作之后，完全無須調(diào)整石墨爐原子化器；從而在不影響儀器性能，數(shù)據(jù)質(zhì)量的前提下降低了維護(hù)的時(shí)間，提高了工作效率。
[0010]為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下:
[0011]一種可拆卸的交流塞曼石墨爐原子化器，其包括:
[0012]—可調(diào)節(jié)底座，所述可調(diào)節(jié)底座包括至少兩個(gè)方形支架和可調(diào)節(jié)底板組件；所述方形支架安置在原子吸收光譜儀基座的垂直安裝端，所述可調(diào)節(jié)底板組件安置在方形支架的垂直安裝端；
[0013]一交流塞曼磁場(chǎng)組件，所述交流塞曼磁場(chǎng)組件包括前磁場(chǎng)部件、后磁場(chǎng)部件，所述前磁場(chǎng)部件與后磁場(chǎng)部件連接；所述前磁場(chǎng)與后磁場(chǎng)在通電線圈的激勵(lì)下產(chǎn)生用于背景校正的交流磁場(chǎng)；所述前磁場(chǎng)組件安置在可調(diào)節(jié)底板的垂直安裝端，所述后磁場(chǎng)組件安置在可調(diào)節(jié)底板的垂直安裝端；
[0014]—石墨爐爐頭組件，所述石墨爐爐頭組件安置在后磁場(chǎng)組件的水平安裝端，并使石墨管的軸心與光路重合；所述石墨爐爐頭組件包括氣缸爐頭、石墨錐和石墨管；所述氣缸爐頭與石墨錐連接，所述石墨錐與石墨管連接，所述石墨管用于將被測(cè)樣品原子化。
[0015]在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，可調(diào)節(jié)底座可調(diào)節(jié)底板組件安置在方形支架的垂直安裝端，可調(diào)節(jié)底板組件包括原子化器平臺(tái)，垂直于平臺(tái)方向高低位置調(diào)節(jié)桿、抱桿、前后位置調(diào)節(jié)桿，前后位置調(diào)節(jié)彈簧，沿光軸方向俯仰姿態(tài)調(diào)節(jié)螺釘。
[0016]在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，所述交流塞曼磁場(chǎng)組件包括前磁場(chǎng)組件和后磁場(chǎng)組件，所述前磁場(chǎng)組件和后磁場(chǎng)組件通過兩根導(dǎo)軌連接，并用螺釘固定在可調(diào)節(jié)底板上，通過搭扣固定在抱桿上，激勵(lì)磁場(chǎng)用的線圈纏繞在鐵芯上，并通過接線座與外部電源連接。
[0017]在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，所述石墨爐爐頭組件，包括石墨爐底座，左右石墨爐頭，左右石墨錐，石墨管，氣缸，導(dǎo)桿，光敏管，石墨管保護(hù)內(nèi)氣，石墨管保護(hù)外氣接頭，石英窗；石墨爐底座通過兩根導(dǎo)桿連接在塞曼磁場(chǎng)組件上，氣缸安裝體通過螺釘安裝在石墨爐底座的垂直安裝端，左石墨爐頭通過螺釘安裝在氣缸安裝體的垂直安裝端，右石墨爐頭通過螺釘安裝在氣缸桿的安裝端；同時(shí)左右石墨爐頭通過兩根導(dǎo)桿相連接；左石墨錐通過左石墨爐頭的安裝孔安裝在左石墨爐頭的垂直面上，右石墨錐通過右石墨爐頭的安裝孔安裝在右石墨爐頭的垂直面上；石墨管通過左右石墨錐的斜面，安裝在左右石墨錐之間；并使石墨管軸心與光路重合。
[0018]由此構(gòu)成的石墨爐原子化器結(jié)構(gòu)簡單，易于裝配，并可簡單方便地調(diào)整原子化器在光譜儀光路中的精確位置及姿態(tài)。用戶在使用該原子化器進(jìn)行更換石墨管石墨錐等維護(hù)工作時(shí)，無須重新調(diào)校該原子化器。大大降低了使用成本和提高了工作效率。
【附圖說明】
[0019]以下結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】來進(jìn)一步說明本實(shí)用新型。
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