化驗(yàn)裝置、方法和試劑的制作方法
【專利說明】
[0001] 相關(guān)申請的交叉引用
[0002] 本專利申請要求享有2013年1月4日提交的名稱為"化驗(yàn)裝置、方法和試劑"的 美國臨時(shí)申請No. 61/749, 097的優(yōu)先權(quán)。該原申請的說明書通過引用被整體并入。還引用 到公開號 No. 2011/0143947, 2012/0195800, 2007/0231217, 2009/0263904,和 2011/025663 的美國申請。這些申請的說明書也都通過引用被整體并入此處。
技術(shù)領(lǐng)域
[0003] 本發(fā)明涉及用于進(jìn)行化驗(yàn)的裝置、系統(tǒng)、方法、試劑、和成套設(shè)備。本發(fā)明的裝置、 系統(tǒng)、方法、試劑、和成套設(shè)備的某些實(shí)施方式可以用于在多井板化驗(yàn)形式中進(jìn)行自動取 樣、樣品制備、和/或樣品分析。
【背景技術(shù)】
[0004] 已經(jīng)開發(fā)了多個(gè)用于進(jìn)行化學(xué)、生化、和/或生物化驗(yàn)的方法和系統(tǒng)。這些方法和 系統(tǒng)在包括醫(yī)療診斷、飲食檢驗(yàn)、環(huán)境監(jiān)測、制造質(zhì)量控制、藥物發(fā)現(xiàn)、和基本科學(xué)研究在內(nèi) 的各種應(yīng)用中是必要的。
[0005] 多井化驗(yàn)板（亦稱微量滴定板或者微型板）已經(jīng)變成多個(gè)樣品的處理和分析的標(biāo) 準(zhǔn)格式。多井化驗(yàn)板可以采取各種形式、尺寸、和形狀。為方便起見，對于用于處理大批量化 驗(yàn)的樣品的儀器，已經(jīng)出臺了一些標(biāo)準(zhǔn)。多井化驗(yàn)板通常采用標(biāo)準(zhǔn)尺寸和形狀來制造，并且 具有標(biāo)準(zhǔn)的井位布置。井位布置包括在96井板（12x8的井陣）、384井板（24x16的井陣）、 和1536井板（48x32的井陣）上發(fā)現(xiàn)的井位布置。生物分子篩選學(xué)會已經(jīng)公開了推薦的用 于各種板形的微型板規(guī)范（見http ://www. sbsonline. org)。
[0006] 可以利用各種板的讀取裝置在包含讀取裝置的多井板上進(jìn)行化驗(yàn)測量，測量在光 的吸收、光（例如，熒光，磷光，化學(xué)發(fā)光，和電化學(xué)發(fā)光）的發(fā)射、輻射上有改變，在光散射 上有改變，并且在磁場上有改變。Wohlstadter等人的美國專利申請公開2004/0022677和 美國專利No. 7, 842, 246分別描述了用多井板格式進(jìn)行單重和多重ECL化驗(yàn)的方案。它們 包括一些板，這些板包括帶有形成井壁的通孔的板頂部和封住板頂部以形成井底部的板底 部。板底部具有圖案化的導(dǎo)電層，該導(dǎo)電層為井提供電極表面，電極表面充當(dāng)用于粘結(jié)反應(yīng) 的固相支撐和用于引起電化學(xué)發(fā)光（ECL)的電極。導(dǎo)電層也可包括向電極表面施加電能的 電觸點(diǎn)。
[0007] 雖然有這些已知的用于進(jìn)行化驗(yàn)的方法和系統(tǒng)，但是仍然需要采用多井板化驗(yàn)形 式進(jìn)行自動取樣、樣品制備、和/或樣品分析的改進(jìn)的裝置、系統(tǒng)、方法、試劑、和成套設(shè)備。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008] 因此，本發(fā)明提供一種將光學(xué)傳感器聚焦到隔開的平臺上的方法，包括如下步驟： (a)提供至少一個(gè)圖案化的上、中和下表面，其中圖案化的中表面和平臺彼此對齊，且圖案 化的上表面和圖案化的中表面之間的第一距離以及中表面和圖案化的下表面之間的第二 距離基本上相等；(b)利用光學(xué)傳感器獲得圖案化的上表面和中表面之間的對比度值的第 一差值；(C)利用光學(xué)傳感器獲得圖案化的中表面和下表面之間的對比度值的第二差值； 和（d)比較對比度值的第一差值和第二差值。
[0009] 因此，本發(fā)明還提供一種用于光學(xué)傳感器的聚焦機(jī)構(gòu)，包括與光學(xué)傳感器間隔開 的至少一個(gè)圖案化的上、中和下表面；其中圖案化的中表面與有待光學(xué)傳感器聚焦的目標(biāo) 表面和圖案化的中表面對齊，其中圖案化的上表面和中表面之間的第一距離與中表面和圖 案化的下表面之間的第二距離基本上相等，其中光學(xué)傳感器和圖案化的表面相對于彼此移 動，直到圖案化的上表面和中表面之間與圖案化的中表面和下表面之間的對比度值的第一 和第二差值之間的差小于預(yù)定值；并且設(shè)置一個(gè)光源，以讓光通過圖案化的上、中和下表面 射向光學(xué)傳感器。
[0010] 本發(fā)明仔細(xì)考慮了一種儀器，包括：(a)接觸平臺，其中該接觸平臺包括多個(gè)詢問 區(qū)域，每個(gè)詢問區(qū)域包括至少一對向詢問區(qū)域施加電勢的電觸點(diǎn)，（b)操作地連接到電壓源 的控制器，其中電壓源能連接到一對或多對電觸點(diǎn)，和（c)連接到控制器和電壓源的多路 轉(zhuǎn)換器，以有選擇地將電壓源連接到單個(gè)詢問區(qū)域的一對電觸點(diǎn)，或者將電壓源連接到一 個(gè)以上詢問區(qū)域的多對電觸點(diǎn)。
[0011] 本發(fā)明的儀器還包括：(a)接觸平臺，其中該平臺包括多個(gè)詢問區(qū)域，每個(gè)詢問區(qū) 域包括至少一對向詢問區(qū)域傳導(dǎo)電勢的電觸點(diǎn)，（b)操作地連接電壓源的控制器，其中電壓 源能連接到一對或多對電觸點(diǎn)，和（c)連接控制器和電壓源的裝置，以從電壓源和單個(gè)詢 問區(qū)域的電觸點(diǎn)之間的第一連接切換到電壓源和一個(gè)或多個(gè)詢問區(qū)域的電觸點(diǎn)之間的第 二連接。
[0012] 該儀器優(yōu)選適合詢問包含在多井板中的樣品，并且包括：(a)用于支撐多井板的 滑架框架，并且該滑架框架可相對于一個(gè)接觸平臺移動，其中該多井板包括多個(gè)井，這些井 布置成MxN矩陣，并且其中接觸平臺包括多個(gè)詢問區(qū)域，其中每個(gè)詢問區(qū)域包括至少一對 向至少一個(gè)井傳導(dǎo)電勢的電觸點(diǎn)；(b)控制器，該控制器操作地連接到馬達(dá)以使滑架框架 相對于接觸平臺移動，并且該控制器操作地連接到電壓源，其中電壓源能連接到一或多對 電觸點(diǎn)；和（c)連接到控制器和電壓源的多路轉(zhuǎn)換器，以有選擇地將電壓源連接到單個(gè)詢 問區(qū)域的一對電觸點(diǎn)，或者將電壓源連接到一個(gè)以上詢問區(qū)域的至少一對電觸點(diǎn)。
[0013] 本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方式是詢問包含在具有MxN矩陣的井的多井板中的樣品的 方法，包括如下步驟：(a)提供具有多個(gè)詢問區(qū)域的接觸平臺，（b)為每個(gè)詢問區(qū)域提供至 少一對電觸點(diǎn)，其中每個(gè)詢問區(qū)域適合于詢問單個(gè)井，（c)有選擇地施加電勢于：（i) 一個(gè) 詢問區(qū)域，以同時(shí)詢問一個(gè)或多個(gè)井，或者（ii)多個(gè)詢問區(qū)域，以詢問多個(gè)井，和（d)使多 井板相對于平臺移動，以詢問額外的井。
[0014] 在一個(gè)【具體實(shí)施方式】中，本發(fā)明包括用于在多井板中進(jìn)行發(fā)光化驗(yàn)的儀器。該儀 器包括光探測子系統(tǒng)和板處理子系統(tǒng)，其中該板處理子系統(tǒng)包括：
[0015] (a)遮光外殼，包括殼體和能活動的的抽屜，其中
[0016] (X)殼體包括殼體頂部，殼體前部，一個(gè)或多個(gè)板引入孔，檢測孔，用于密封板引入 孔的滑動遮光門，和多個(gè)對齊特征，其中該殼體適合接收能活動的抽屜，和
[0017] (y)能活動的抽屜，包括：
[0018] (i)x-y副架，包括多個(gè)配對對齊特征，這些特征用于與眾多對齊特征配合和嚙合， 以使殼體內(nèi)的能活動的抽屜相對于光探測子系統(tǒng)對齊，其中能活動的抽屜的重量由殼體頂 部支撐；
[0019] (ii) -個(gè)或多個(gè)帶有可以被升起和降下的板升降平臺的板升降機(jī)，其中該一個(gè)或 多個(gè)板升降機(jī)的位置低于板引入孔；
[0020] (iii)使板沿一個(gè)或多個(gè)水平方向平移的板平移臺架，其中該臺架包括用于支撐 板的板滑架，板滑架具有開口，允許位置低于板滑架的板升降機(jī)接近和提升板，并且板平移 臺架用于將板定位在檢測孔下方，且將板定位在板升降機(jī)上方；和
[0021] (b)安裝在殼體頂部上、板引入孔上方的一個(gè)或多個(gè)板堆垛機(jī)，其中板堆垛機(jī)配置 為接收板或者將板輸送到板升降機(jī)；和
[0022] 其中光探測子系統(tǒng)包括安裝在外殼頂部上并且結(jié)合到帶有遮光密封的檢測孔的 光探測器。
[0023] 該儀器可用于在多井板中進(jìn)行發(fā)光化驗(yàn)，并且包括板處理子系統(tǒng)，該子系統(tǒng)包括 用于支撐多井板的板滑架，其中板滑架包括框架和板鎖緊機(jī)構(gòu)。該板鎖緊機(jī)構(gòu)包括：
[0024] (a)板滑架凸緣；
[0025] (b)垂直于該凸緣的板夾臂，包括相對于凸緣的近端和遠(yuǎn)端，其中臂在其近端被附 接到框架上，而臂在其遠(yuǎn)端可以在X-Y面中旋轉(zhuǎn)，并且臂還包括上夾具，該上夾具包括配置 成與板嗤合的傾斜表面；
[0026] (c)板定位元件，包括桿、踏板和彈簧，其中桿基本垂直于臂、基本平行于凸緣、并 且通過彈簧與臂的遠(yuǎn)端附接，而踏板以一角度附接到桿；和
[0027] (d)板壁，該板壁基本平行于臂，且基本垂直于定位元件和凸緣，并且布置在兩者 之間，板壁包括（i)配置為與多井板的裙部嚙合的下板夾具，和（ii)用于將下板夾具推向 裙部的下板夾具斜面。
[0028] 本發(fā)明還涉及將多井板嵌入上面剛剛討論的儀器中的方法。該方法包括以下步 驟：
[0029] (a)將板放在框架上；
[0030] (b)壓縮板定位元件的彈簧，從而頂著板將踏板推向凸緣，并且使臂在X-Y面內(nèi)朝 著板旋轉(zhuǎn)；
[0031] (c)使上夾具與板接觸，從而將板推向滑架壁；
[0032] (d)使下板夾具與裙部接觸，從而將板鎖在滑架內(nèi)。
[0033] 此外，本發(fā)明提供了一種在多井板中進(jìn)行發(fā)光化驗(yàn)的儀器，并且包括板處理子系 統(tǒng)，該子系統(tǒng)包括用于支撐多井板的板滑架和板鎖緊機(jī)構(gòu)。
[0034] 其中多井板具有至少一個(gè)第一、第二、第三和第四側(cè)面，并且第一和第三側(cè)面基本 上彼此平行，而第二和第四側(cè)面基本上彼此平行，
[0035] 其中板滑架限定了孔，其形狀基本與多井板的形狀相同，且其尺寸小于多井板，以 支撐位于多井板周圍的凸緣，其中板滑架還包括分別對應(yīng)于多井板的第一和第二側(cè)面的第 一（501)和第二（513)限位件。
[0036] 其中板鎖緊機(jī)構(gòu)可以從用于接收一個(gè)多井板的開口配置移動到用于將多井板鎖 到板滑架上的夾緊配置，
[0037] 其中板鎖緊機(jī)構(gòu)包括被偏置到夾緊位置的第一鎖緊元件（509)和被偏置到夾緊 位置的板夾臂（502)，第一鎖緊元件具有適合將多井板的第一側(cè)面推向第一限位件的踏 板（511)，板夾臂具有能樞轉(zhuǎn)地連接到板夾臂（502)并且適合將第二側(cè)面推向第二限位件 (513)的托架（503)，其中第一鎖緊機(jī)構(gòu)（509)連接到板夾臂（502)，和
[0038]其中板鎖緊機(jī)構(gòu)包括至少一個(gè)偏置夾（515)，其位置臨近第二限位件（513)，以將 多井托盤的裙部夾到板滑架上。
[0039] 此外，本發(fā)明提供了一種系統(tǒng)，包括
[0040] (i)多井化驗(yàn)板，選自于由單井可尋址的板或者多井可尋址的板組成的組；和
[0041] (ii)配置為測量來自于單井可尋址的板的單個(gè)井和多井可尋址的板的一組井的 電化學(xué)發(fā)光（ECL)的裝置。
[0042] 本發(fā)明還包括用于測量來自多井板的發(fā)光的裝置，該多井板的板類型選自于由單 井可尋址的板或者多井可尋址的板組成的組，該裝置包括：
[0043] ⑴用于識別板類型的板類型識別接口；
[0044] (ii)用于在X-Y面內(nèi)保持并平移多井板的板平移臺架；
[0045] (iii)板接觸機(jī)構(gòu)，其包括多個(gè)接觸探針并且定位為低于板平移臺架并在臺架的 運(yùn)動范圍內(nèi)，其中該機(jī)構(gòu)被安裝在可以升起和降下該機(jī)構(gòu)的接觸機(jī)構(gòu)升降機(jī)上，以便當(dāng)板 位于平移臺架上時(shí)，使探針與板的底部接觸表面接觸或者不接觸；
[0046] (iv)通過接觸探針將電勢施加到板的電壓源；和
[0047] (V)定位為高于板平移臺架并且與板接觸機(jī)構(gòu)垂直對齊的成像系統(tǒng)，其中
[0048] (a)成像系統(tǒng)配置為井的PxQ矩陣成像，板接觸機(jī)構(gòu)配置為接觸與矩陣有關(guān)的底 部接觸表面，而板平移臺架配置為使板平移以將矩陣定位為與成像系統(tǒng)和板接觸機(jī)構(gòu)對 齊；
[0049] (b)該裝置配置為順序施加電壓到單井可尋址的板的矩陣中的每個(gè)井，并且為矩 陣成像；和
[0050] (c)該裝置配置為同時(shí)施加電壓到多井可尋址的板的矩陣中的每個(gè)井，并且為矩 陣成像。
[0051] 還提供了一種用于測量來自單井可尋址的板或者多井可尋址的板的發(fā)光的方法， 其中該方法包括：
[0052] (a)將板裝載到板平移臺架上；
[0053] (b)識別板是單井還是多井可尋址的板；
[0054] (c)移動板平移臺架，使井的第一 PxQ矩陣與板接觸機(jī)構(gòu)和成像系統(tǒng)對齊；
[0055] (d)提升板接觸機(jī)構(gòu)，以便接觸機(jī)構(gòu)上的接觸探針接觸與井的PxQ矩陣有關(guān)的底 部接觸表面；
[0056] (e)如果板是單井可尋址的板，那么在該組被成像的同時(shí)，通過順序施加電壓到組 中的每個(gè)井，在PxQ矩陣中產(chǎn)生發(fā)光并使之成像；
[0057] (f)如果板是多井可尋址的板，那么在為矩陣成像的同時(shí)，通過同時(shí)施加電壓到矩 陣中的每個(gè)井，在PxQ矩陣中產(chǎn)生發(fā)光并使之成像；和
[0058] (g)對于板中額外的PxQ矩陣，重復(fù)步驟（c)到（f)。
【附圖說明】
[0059] 圖l(a)_(b)分別示出帶有特定風(fēng)格的蓋子的裝置100的前視圖和后視圖，圖 l(c)_(d)分別顯示了不帶蓋子的裝置的對應(yīng)的前視圖和后視圖。
[0060] 圖2(a)-(C)示出板處理子系統(tǒng)和光探測子系統(tǒng)的詳圖。
[0061] 圖3示出裝置100內(nèi)的板處理子系統(tǒng)的能活動抽屜的圖。
[0062] 圖4 (a)-(f)示出能活動的抽屜240和位于抽屜內(nèi)的子部件的各種詳圖。
[0063] 圖5(a)_(o)示出板滑架和板鎖緊機(jī)構(gòu)的詳圖。
[0064] 圖6(a)_(b)示出可以并入該裝置的光聚焦機(jī)構(gòu)的兩個(gè)備選實(shí)施方式。
[0065] 圖7(a)_(l)示出板接觸機(jī)構(gòu)的詳圖。
[0066] 圖8(a)_(c)示出光探測子系統(tǒng)的各種部件。
[0067] 圖9示出可以用在光探測子系統(tǒng)中的透鏡結(jié)構(gòu)的一個(gè)非限定性的實(shí)施方式。
【具體實(shí)施方式】
[0068] 詳細(xì)說明部分對本發(fā)明的某些實(shí)施方式進(jìn)行了描述，但這不應(yīng)看做限制，而是用 于展示發(fā)明的某些方面。除非此處有限定，否則與本發(fā)明一起使用的科學(xué)和技術(shù)術(shù)語應(yīng)該 具有本領(lǐng)域普通技術(shù)人員通常理解的意義。此外，除非上下文需要，否則單數(shù)術(shù)語應(yīng)該包括 多數(shù)，而復(fù)數(shù)術(shù)語應(yīng)該包括單數(shù)。冠詞〃一 〃在此處用于指一個(gè)或者一個(gè)以上（即至少一 個(gè)）冠詞的語法目的。舉例來說，一元件意指一個(gè)元件或一個(gè)以上元件。此外，使用〃包 括"的權(quán)利要求允許其他元件包含在權(quán)利要求的范圍內(nèi)；本發(fā)明還用使用過渡句"基本上 由......構(gòu)成（即，如果其他元件不顯著改變本發(fā)明的操作，則允許其他元件包含在權(quán)利 要求的范圍內(nèi)）或者"由......構(gòu)成（即，只允許列在權(quán)利要求中的元件，除了通常與本 發(fā)明有關(guān)的輔助元件或者無關(guān)緊要的活動）的此類權(quán)利要求代替術(shù)語"包括"來描述。這 三種變化中的任何一種都可用于要求保護(hù)本發(fā)明。
[0069] 此處描述的是用多井板格式進(jìn)行化驗(yàn)的裝置，該多井板格式具有一個(gè)或多個(gè)以下 所需的屬性：（i)靈敏度高，（ii)動態(tài)范圍大，（iii)尺寸和重量小，（iv)基于陣列的倍增 能力，（V)自動操作；和（Vi)能處理多個(gè)板。我們還描述了用在這一裝置中的部件和子系 統(tǒng)以及使用該裝置和子系統(tǒng)的方法。該裝置和方法可以與各種化驗(yàn)檢測技術(shù)一起使用，包 括但不限于測量一個(gè)或多個(gè)可檢測信號的技術(shù)。其中一些適合電化學(xué)發(fā)光測量，并且特別 的是，適合與帶有集成電極的多井板（以及使用這些板的化驗(yàn)方法）一起使用的實(shí)施方式， 例如分別在Wohlstadter等人的美國公開2004/0022677和美國專利No. 7, 842, 246以及 Glezer等人的美國申請11/642, 970中公開的。
[0070] 在一優(yōu)選實(shí)施方式中，提供了一種在多井板中進(jìn)行發(fā)光化驗(yàn)的裝置。一實(shí)施方式 包括光探測子系統(tǒng)和板處理子系統(tǒng)，其中板處理子系統(tǒng)包括提供無光環(huán)境的遮光外殼，發(fā) 光測量可以在該無光環(huán)境中進(jìn)行。外殼包括殼體和被放在殼體內(nèi)的可活動抽屜。殼體還包 括具有一個(gè)或多個(gè)板引入孔的殼體頂部，板可以通過這些孔被下放到抽屜內(nèi)的板平移臺架 上或者從板平移臺架上取下（手動或者機(jī)械地）。在進(jìn)行發(fā)光測量之前，殼體中的滑動遮光 門用于密封板引入孔，隔離環(huán)境光。殼體還包括結(jié)合到安裝在殼體頂部上的光探測器上的 檢測孔和一個(gè)或多個(gè)安裝在殼體頂部上、板引入孔上方的板堆垛機(jī)，其中板堆垛機(jī)配置為 接收板或者將板輸送到可活動的抽屜內(nèi)的板升降機(jī)?？苫顒拥某閷习ò迤揭婆_架，用于 使板在抽屜內(nèi)水平地平移到裝置內(nèi)的進(jìn)行特殊化驗(yàn)程序和/或檢測步驟的區(qū)域?？苫顒拥?抽屜還包括一個(gè)或多個(gè)帶有可以在抽屜內(nèi)被升起和降下的板升降平臺的板升降機(jī)，其中板 升降機(jī)位于一個(gè)或多個(gè)板引入孔下方。板平移臺架配置為將板定位在檢測孔下方，并且將 板定位在板升降平臺上的板升降機(jī)上方。
[0071] 該裝置還包括安裝到殼體頂部上的檢測孔上的光探測器（例如，通過遮光接頭或 者擋板）。在某些實(shí)施方式中，光探測器是成像光探測器，例如CCD攝像機(jī)，并且可能還包括 透鏡。光探測器可以是常規(guī)的光探測器，例如光電二極管，雪崩光電二極管，光電倍增管，等 等。合適的光探測器還包括這種光探測器的陣列?？梢允褂玫墓馓綔y器還包括成像系統(tǒng)， 例如C⑶和CMOS照相機(jī)。光探測器也可以包括透鏡，光導(dǎo)向裝置，等等，用于引導(dǎo)光、使光 聚焦和/或成像在檢測器上。在某些【具體實(shí)施方式】中，成像系統(tǒng)用于使來自化驗(yàn)板的一個(gè) 或多個(gè)井中的結(jié)合區(qū)域的陣列的發(fā)光成像，并且化驗(yàn)裝置報(bào)告由陣列的單個(gè)元件發(fā)射的發(fā) 光的發(fā)光值。光探測器被安裝在帶遮光密封的殼體頂部上。裝置的其他部件包括用于與板 電接觸并且為位置低于光探測器的井中的電極提供電能的板觸點(diǎn)（例如，用于感應(yīng)ECL)。
[0072] 本發(fā)明的裝置的【具體實(shí)施方式】如圖所示。圖l(a)_(b)分別示出帶有特定風(fēng)格的 蓋子的裝置1〇〇的前視圖和后視圖，圖1 (c)-(d)分別示出不帶蓋子的裝置的相應(yīng)的前視圖 和后視圖。如圖所示，例如，在圖1 (c)中，裝置包括光探測子系統(tǒng)110和板處理子系統(tǒng)120。 更詳細(xì)的圖提供在圖2(a)-(b)中。板處理子系統(tǒng)120包括遮光外殼130,外殼130包括具 有殼體頂部232、底部233、前部234和后部235的殼體231。殼體還包括多個(gè)對齊特征，并 且殼體適合接收可活動的抽屜240,可活動的抽屜包括可活動的抽屜前部，并且由整體澆鑄 元件組成?？苫顒拥某閷系谋谙薅藙傂缘膞-y副架，圖4(d)中的415,包括多個(gè)配對對齊 特征。當(dāng)抽屜被適當(dāng)放在殼體內(nèi)時(shí)，對齊特征和配對對齊特征配合且嚙合，從而使抽屜及其 部件與光探測子系統(tǒng)的部件對齊。當(dāng)對齊/配對對齊特征嚙合時(shí)，可活動的抽屜的重量由 殼體頂部支撐。圖l(a)_(b)中描繪的裝置100中的可活動的抽屜240在圖3中被最佳展 示，處于部分開啟或關(guān)閉的位置?？苫顒拥某閷?40還展示在圖4(a)中，承載著下面詳細(xì) 描述的各個(gè)內(nèi)部子系統(tǒng)，而在圖4(b)中，被安裝在殼體231內(nèi)，其中為清楚起見，殼體后部 235和殼體側(cè)面被省略。圖4(c)顯示了帶有開口和對齊特征405、406和407的殼體231， 開口和對齊特征的位置和尺寸被設(shè)置成用于接收可活動的抽屜240。
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