測。
[0029] 此外，本發(fā)明所設(shè)及的檢測方法的特征在于，在上述發(fā)明中，將上述透鏡的焦點(diǎn)距 離設(shè)為f，將上述基板從上述焦點(diǎn)位置靠近上述透鏡的距離設(shè)為a時，在Wa處成為規(guī)定 范圍內(nèi)的方式設(shè)定的a所對應(yīng)的位置配置上述基板的光照射面。
[0030] 此外，本發(fā)明所設(shè)及的微陣列的分析方法的特征在于，是對形成有凹凸形狀、配置 有能夠與各自經(jīng)巧光標(biāo)記的樣品結(jié)合的多個探針的微陣列，經(jīng)由物鏡照射包含上述巧光標(biāo) 記的激發(fā)波長的光，并且接收來自上述微陣列的光，根據(jù)基于該接收到的光的圖像進(jìn)行上 述微陣列的分析的微陣列的分析方法，其包括下述步驟；巧光圖像數(shù)據(jù)取得步驟，檢測來自 上述巧光標(biāo)記的巧光，取得巧光圖像數(shù)據(jù)；對準(zhǔn)用圖像數(shù)據(jù)取得步驟，檢測來自上述微陣列 的表面的光，取得進(jìn)行上述巧光圖像數(shù)據(jù)的對準(zhǔn)的對準(zhǔn)用圖像數(shù)據(jù)；檢測步驟，根據(jù)上述對 準(zhǔn)用圖像數(shù)據(jù)的光強(qiáng)度的變化，檢測上述凹凸形狀的高度的差異；校正步驟，基于通過上述 檢測步驟檢測到的上述凹凸形狀的高度的差異，校正上述巧光圖像數(shù)據(jù)；W及位置確定步 驟，確定通過上述校正步驟校正后的上述巧光圖像數(shù)據(jù)中的各探針的位置，上述對準(zhǔn)用圖 像數(shù)據(jù)取得步驟，在將上述微陣列的表面配置于相對于上述物鏡的焦點(diǎn)位置靠近該物鏡的 位置的狀態(tài)下，取得上述對準(zhǔn)用圖像數(shù)據(jù)。
[0031] 此外，本發(fā)明所設(shè)及的微陣列的分析方法的特征在于，在上述發(fā)明中，上述檢測步 驟，在上述對準(zhǔn)用圖像數(shù)據(jù)中，基于上述光強(qiáng)度的變化，檢測3個W上基準(zhǔn)點(diǎn)，上述校正步 驟，根據(jù)檢測到的基準(zhǔn)點(diǎn)，校正上述巧光圖像數(shù)據(jù)的失真。
[0032] 此外，本發(fā)明所設(shè)及的微陣列的分析方法的特征在于，在上述發(fā)明中，上述校正 步驟，取得基于上述基準(zhǔn)點(diǎn)的上述對準(zhǔn)用圖像數(shù)據(jù)的傾斜角度0X、0y，根據(jù)該傾斜角度 0X、0y和下述式（1)、式（2)，校正上述巧光圖像數(shù)據(jù)的剪切變形失真。
[003引[數(shù)U
[0034]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種檢測方法，其特征在于，是將通過透鏡而被聚光后的激光照射于具有凹凸形狀 的基板，取得來自該基板的反射光和/或散射光的光強(qiáng)度作為圖像數(shù)據(jù)，檢測所述凹凸形 狀的高度的差異的檢測方法， 在與所述透鏡的焦點(diǎn)位置相比靠近所述透鏡的位置配置所述基板的光照射面，接收來 自該光照射面的反射光和/或散射光作為檢測光，基于該接收到的光的強(qiáng)度的變化，檢測 所述基板的高度的差異。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測方法，其特征在于，使用在將所述基板的光照射面配置 于所述焦點(diǎn)位置的情況下，將來自該光照射面的正反射光從所述檢測光中分離的光學(xué)系 統(tǒng)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的檢測方法，其特征在于，在將所述透鏡的焦點(diǎn)距離設(shè)為 f，將所述基板從所述焦點(diǎn)位置靠近所述透鏡的距離設(shè)為a時，在以a/f成為規(guī)定范圍內(nèi) 的方式設(shè)定的a所對應(yīng)的位置配置所述基板的光照射面。
4. 一種微陣列的分析方法，其特征在于，是對形成有凹凸形狀、配置有能夠與各自經(jīng) 熒光標(biāo)記的樣品結(jié)合的多個探針的微陣列，經(jīng)由物鏡照射包含所述熒光標(biāo)記的激發(fā)波長的 光，并且接收來自所述微陣列的光，根據(jù)基于該接收到的光的圖像進(jìn)行所述微陣列的分析 的微陣列的分析方法，其包括下述步驟： 熒光圖像數(shù)據(jù)取得步驟，檢測來自所述熒光標(biāo)記的熒光，取得熒光圖像數(shù)據(jù)， 對準(zhǔn)用圖像數(shù)據(jù)取得步驟，檢測來自所述微陣列的表面的光，取得進(jìn)行所述熒光圖像 數(shù)據(jù)的對準(zhǔn)的對準(zhǔn)用圖像數(shù)據(jù)， 檢測步驟，根據(jù)所述對準(zhǔn)用圖像數(shù)據(jù)的光強(qiáng)度的變化，檢測所述凹凸形狀的高度的差 異， 校正步驟，基于通過所述檢測步驟檢測到的所述凹凸形狀的高度的差異，校正所述熒 光圖像數(shù)據(jù)，以及 位置確定步驟，確定通過所述校正步驟校正后的所述熒光圖像數(shù)據(jù)中的各探針的位 置， 所述對準(zhǔn)用圖像數(shù)據(jù)取得步驟，在將所述微陣列的表面配置于相對于所述物鏡的焦點(diǎn) 位置靠近該物鏡的位置的狀態(tài)下，取得所述對準(zhǔn)用圖像數(shù)據(jù)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的微陣列的分析方法，其特征在于，所述檢測步驟，在所述對準(zhǔn) 用圖像數(shù)據(jù)中，基于所述光強(qiáng)度的變化，檢測3個以上基準(zhǔn)點(diǎn)， 所述校正步驟，根據(jù)檢測到的基準(zhǔn)點(diǎn)，校正所述熒光圖像數(shù)據(jù)的失真。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的微陣列的分析方法，其特征在于，所述校正步驟，取得基于所 述基準(zhǔn)點(diǎn)的所述對準(zhǔn)用圖像數(shù)據(jù)的傾斜角度0x、0y，根據(jù)該傾斜角度0x、0y和下述式 (1)、式（2)，校正所述熒光圖像數(shù)據(jù)的剪切變形失真，
0 Xy = 0 x- 0 y ? ? ?⑵。
7. 根據(jù)權(quán)利要求4~6的任一項(xiàng)所述的微陣列的分析方法，其特征在于，所述對準(zhǔn)用圖 像數(shù)據(jù)取得步驟，在將所述物鏡的焦點(diǎn)距離設(shè)為f，將所述微陣列從所述焦點(diǎn)位置靠近所述 物鏡的距離設(shè)為a時，在以a/f成為規(guī)定范圍內(nèi)的方式設(shè)定的a所對應(yīng)的位置配置所述 微陣列的表面，取得所述對準(zhǔn)用圖像數(shù)據(jù)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求4~7的任一項(xiàng)所述的微陣列的分析方法，其特征在于，所述微陣列為 DNA微陣列。
9. 一種熒光讀取裝置，其特征在于，是從形成有凹凸形狀、配置有能夠與各自經(jīng)熒光標(biāo) 記的樣品結(jié)合的多個探針的基板，接收包含所述熒光標(biāo)記的熒光的光，取得基于該接收到 的光的圖像數(shù)據(jù)的熒光讀取裝置， 所述熒光讀取裝置具備： 光源，其出射至少包含規(guī)定波長的激發(fā)光的照明光， 物鏡，其將所述照明光照射于所述基板，并且接收來自照射了該照明光的所述基板的 表面的光， 圖像取得部，其檢測所述物鏡接收到的光，取得該檢測到的熒光的熒光圖像數(shù)據(jù)和來 自所述基板的光的基板圖像數(shù)據(jù)， 檢測部，其根據(jù)通過圖像取得部取得的所述基板圖像數(shù)據(jù)，檢測所述凹凸形狀的高度 的差異， 校正部，其根據(jù)通過所述檢測部檢測到的所述凹凸形狀的高度的差異，校正所述熒光 圖像數(shù)據(jù)， 保持機(jī)構(gòu)，其保持所述基板，以及 驅(qū)動部，其使所述保持機(jī)構(gòu)沿著所述物鏡的光軸移動， 所述驅(qū)動部，在通過所述圖像取得部取得所述基板圖像數(shù)據(jù)時，以在相對于所述物鏡 的焦點(diǎn)位置靠近所述物鏡的位置配置所述基板的方式使所述保持機(jī)構(gòu)移動。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的熒光讀取裝置，其特征在于，所述驅(qū)動部，在將所述物鏡的 焦點(diǎn)距離設(shè)為f，將所述基板從所述焦點(diǎn)位置靠近所述物鏡的距離設(shè)為a時，以在以a/ f成為規(guī)定范圍內(nèi)的方式設(shè)定的a所對應(yīng)的位置配置所述基板的方式使所述保持機(jī)構(gòu)移 動。
【專利摘要】本發(fā)明提供能夠取得能夠準(zhǔn)確地檢測基板的高度差異的圖像的檢測方法、微陣列的分析方法以及熒光讀取裝置。所述檢測方法是將通過透鏡而被聚光后的激光照射于具有凹凸形狀的基板，取得來自基板的反射光和/或散射光的接收強(qiáng)度作為圖像數(shù)據(jù)，檢測凹凸形狀的高度的差異的檢測方法，在與透鏡的焦點(diǎn)位置相比靠近透鏡的位置配置基板的光照射面，接收來自光照射面的反射光和/或散射光作為檢測光，基于接收到的光的強(qiáng)度的變化，檢測基板的高度的差異。
【IPC分類】G01B11-00, G01N21-64
【公開號】CN104718427
【申請?zhí)枴緾N201380052862
【發(fā)明人】薙野邦久, 吉川俊平
【申請人】東麗株式會社
【公開日】2015年6月17日
【申請日】2013年10月4日
【公告號】EP2908089A1, US20150276604, WO2014057893A1