本實用新型屬于磁瓦檢測工具領(lǐng)域,具體地說,涉及一種磁瓦量規(guī)。
背景技術(shù):
磁瓦是常用于電機定子上的瓦狀磁鐵。通過鐵粉磨料、制漿、壓制、加磁、烘焙制作而成,其壓制過程采用磁瓦模具,如中國專利申請?zhí)?01420373437.5,公開日2014年11月5日的專利文件,公開了一種永磁鐵氧體磁瓦模具。包括下連接板,下連接板上表面固定有下模固定板,下模固定板的上表面上配合下模導(dǎo)套與墊片固定有下模,下模固定板的上設(shè)有流道板,流道板的上固定有型腔板,型腔板上設(shè)有若干豎直設(shè)置的貫穿流道板的型腔孔,型腔孔的同側(cè)內(nèi)壁上設(shè)有型腔注料孔,型腔孔內(nèi)壁設(shè)有型腔注料孔的同側(cè)上鑲嵌有無磁合金塊,無磁合金塊上設(shè)有與型腔注料孔導(dǎo)通的進料孔,下模插入型腔孔,型腔板的上表面設(shè)有上模,上模上固定有上模固定板。從該技術(shù)方案內(nèi)容來看,想要制作什么形狀的磁瓦,必須采用相同內(nèi)腔形狀的模具,但由于模具是的精度差異往往導(dǎo)致磁瓦尺寸發(fā)生變化,所以后期必須經(jīng)過人工打磨來提高磁瓦的尺寸精度。下述專利文件公開了幾種磁瓦檢測裝置:
中國專利申請?zhí)?01420762584.1,公開日2015年5月20日的專利文件,公開了一種水平擺式磁瓦檢測裝置,屬于無損檢測技術(shù)領(lǐng)域。該實用新型包括進料裝置、出料裝置、擺動旋轉(zhuǎn)裝置、攝像裝置,所述進料裝置和出料裝置都采用平帶傳輸,所述攝像裝置包括仰視相機支架、仰射光源、仰視相機、平射光源、平視相機、俯視相機、俯射光源、俯視相機支架。該實用新型實現(xiàn)磁瓦水平旋轉(zhuǎn)動作,并以一個控制軸數(shù)運動實現(xiàn)從取料位到檢測位再到出料位之間的圓弧運動,簡化了機構(gòu)設(shè)計,以簡單運動方案實現(xiàn)了磁瓦的檢測運動和運輸運動,同時吸盤吸取方式的采用,省去夾持裝置,不必根據(jù)不同大小的磁瓦更換夾具,提高了檢測效率,簡化了檢測裝置。
中國專利申請?zhí)?01420762865.7,公開日2015年5月20日的專利文件,公開了另一種水平盤式磁瓦檢測裝置,也屬于工業(yè)無損檢測技術(shù)領(lǐng)域。該實用新型包括進料裝置、脈動旋轉(zhuǎn)裝置、攝像裝置、出料裝置,所述水平盤式磁瓦檢測裝置采用水平脈動旋轉(zhuǎn)式磁瓦輸送方式;所述進料裝置包括進料傳輸帶裝置、磁瓦擋板;所述脈動旋轉(zhuǎn)裝置包括頂升氣缸、齒輪機構(gòu)、旋轉(zhuǎn)連接器、同步帶及其輪組等;攝像裝置包括平視相機、仰視相機、平視光源、仰視光源、俯視相機、俯視光源等;所述出料裝置包括出料傳輸帶裝置、推出氣缸等;該實用新型通過電機、氣缸、齒輪副、轉(zhuǎn)盤等的作用,實現(xiàn)磁瓦檢測過程中需要對磁瓦進行吸取和水平旋轉(zhuǎn)的要求。
但上述兩份專利文件公開的技術(shù)方案結(jié)構(gòu)均比較復(fù)雜,因而使用成本較高,對于一般磁瓦生產(chǎn)企業(yè),為降低生產(chǎn)成本,并不適合使用上述技術(shù),而采用人工檢測效率低,阻礙的了生產(chǎn)發(fā)展。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
1、要解決的問題
針對現(xiàn)有磁瓦測量工件結(jié)構(gòu)復(fù)雜,采用人工檢測效率低的問題,本實用新型提供一種磁瓦量規(guī),其結(jié)構(gòu)簡單,能有效代替人工檢測,提高了生產(chǎn)效率,降低了生產(chǎn)成本。
2、技術(shù)方案
為解決上述問題,本實用新型采用如下的技術(shù)方案。
一種磁瓦量規(guī),包括本體,所述的本體上端面設(shè)置有內(nèi)弧規(guī)腔,中部設(shè)置有外形規(guī)腔,下端面設(shè)置有外弧規(guī)腔;所述的內(nèi)弧規(guī)腔、外形規(guī)腔和外弧規(guī)腔寬度相等,三者的形狀與同一磁瓦的形狀對應(yīng)。
優(yōu)選地,所述的內(nèi)弧規(guī)腔包括內(nèi)弧面、內(nèi)弧右端面和內(nèi)弧左端面;所述的內(nèi)弧右端面和內(nèi)弧左端面分別對稱設(shè)置在內(nèi)弧面的兩側(cè)。
優(yōu)選地,所述的內(nèi)弧面橫截面對應(yīng)圓心角為115°。
優(yōu)選地,所述的內(nèi)弧右端面右端還設(shè)置有右端面限位臺;所述的內(nèi)弧左端面左端還設(shè)置有左端面限位臺;所述的右端面限位臺和左端面限位臺均沿重力方向設(shè)置。
優(yōu)選地,所述的外形規(guī)腔包括上外形面和下外形面;所述的上外形面和下外形面之間的距離為一定值。
優(yōu)選地,所述的上外形面和下外形面橫截面對應(yīng)圓心角均為115°。
優(yōu)選地,所述的外弧規(guī)腔包括外弧面,所述的外弧面橫截面對應(yīng)圓心角為115°。
優(yōu)選地,所述的外弧面兩端分別設(shè)置有外弧右端面和外弧左端面;所述的外弧右端面和外弧左端面均沿重力方向設(shè)置。
優(yōu)選地,所述的本體的外形為方形。
3、有益效果
相比于現(xiàn)有技術(shù),本實用新型的有益效果為:
(1)本實用新型的磁瓦量規(guī)在本體上設(shè)置內(nèi)弧規(guī)腔、外形規(guī)腔、外弧規(guī)腔能夠在同一工序中同時檢測磁瓦內(nèi)弧面及扇形角的精度、磁瓦厚度及外形精度、磁瓦外弧面及弦長精度,與現(xiàn)有機械檢測工具相比具有結(jié)構(gòu)簡單、操作方便的優(yōu)勢,與人工操作相比具有效率高的優(yōu)點;
(2)本實用新型內(nèi)弧規(guī)腔包括內(nèi)弧面,并在內(nèi)弧面兩側(cè)設(shè)置兩個端面與磁瓦形狀相匹配,提高磁瓦內(nèi)弧面及扇形角的測量準確性;
(3)本實用新型內(nèi)弧面橫截面對應(yīng)圓心角為115°,與磁瓦精確對應(yīng),沿重力方向設(shè)置右端面限位臺和左端面限位臺一方面可以限定被測量磁瓦的位置,一方面可以保護內(nèi)弧規(guī)腔不被碰傷;
(4)本實用新型外形規(guī)腔包括上外形面和下外形面;所述的上外形面和下外形面之間的距離為一定值,該定值與磁瓦厚度對應(yīng),用于準確測量磁瓦厚度及磁瓦內(nèi)外弧面的同心度;
(5)本實用新型外弧規(guī)腔包括外弧面,并在外弧面兩端沿重力方向設(shè)置外弧右端面和外弧左端面,同樣一方面起到限定被測量磁瓦位置的作用,一方面可以保護外弧規(guī)腔不被碰傷;
(6)本實用新型本體外形設(shè)置成方形方便人工手持,提高操作方便性;
(7)本實用新型結(jié)構(gòu)簡單,設(shè)計合理,易于制造。
附圖說明
圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)圖;
圖2為圖1的側(cè)視圖;
圖3為圖1的后視圖。
圖中:1、本體;
2、內(nèi)弧規(guī)腔;21、內(nèi)弧面;22、內(nèi)弧右端面;23、內(nèi)弧左端面;24、右端面限位臺;25、左端面限位臺;
3、外形規(guī)腔;31、上外形面;32、下外形面;
4、外弧規(guī)腔;41、外弧面;42、外弧右端面;43、外弧左端面。
具體實施方式
下面結(jié)合具體實施例對本實用新型進一步進行描述。
實施例1
如圖1和圖2所示,一種磁瓦量規(guī),包括本體1,本體1的外形為方形;本體1上端面設(shè)置有內(nèi)弧規(guī)腔2,中部設(shè)置有外形規(guī)腔3,下端面設(shè)置有外弧規(guī)腔4;內(nèi)弧規(guī)腔2、外形規(guī)腔3和外弧規(guī)腔4寬度相等,三者的形狀與同一待測量的磁瓦的形狀對應(yīng);
如圖3所示,內(nèi)弧規(guī)腔2包括內(nèi)弧面21、內(nèi)弧右端面22和內(nèi)弧左端面23;內(nèi)弧右端面22和內(nèi)弧左端面23分別對稱設(shè)置在內(nèi)弧面21的兩側(cè);內(nèi)弧面21與其橫截面相交所得弧線對應(yīng)圓心角為115°;內(nèi)弧右端面22右端設(shè)置有右端面限位臺24;內(nèi)弧左端面23左端設(shè)置有左端面限位臺25;右端面限位臺24和左端面限位臺25均沿重力方向設(shè)置,這樣一方面起到限定被測量磁瓦位置的作用,一方面可以保護內(nèi)弧規(guī)腔不被碰傷;
外形規(guī)腔3包括上外形面31和下外形面32;上外形面31和下外形面32之間的距離為一定值;上外形面31和下外形面32分別與其橫截面相交所得弧線對應(yīng)圓心角均為115°,外弧規(guī)腔4包括外弧面41,外弧面41與其橫截面相交所得弧線對應(yīng)圓心角為115°;外弧面41兩端分別設(shè)置有外弧右端面42和外弧左端面43;外弧右端面42和外弧左端面43均沿重力方向設(shè)置。
本實施例的一種磁瓦量規(guī)能夠同時檢測磁瓦內(nèi)弧面及扇形角的精度、磁瓦厚度及外形精度、磁瓦外弧面及弦長精度,與現(xiàn)有機械檢測工具相比具有結(jié)構(gòu)簡單、操作方便的優(yōu)勢,與人工操作相比具有效力高的優(yōu)點。
利用本實用新型的磁瓦量規(guī),首先將待測量磁瓦塞入外形規(guī)腔3,通過對光觀察待測量磁瓦上下面無漏光則該磁瓦厚度及外形檢測合格,然后將待測量磁瓦放入內(nèi)弧規(guī)腔2,通過對光觀察磁瓦下弧面與兩端部不透光,則該磁瓦內(nèi)弧面及扇形角檢測符合要求,最后將待測量磁瓦放入外弧規(guī)腔,同樣采用對光觀察的方法檢測待測量磁瓦上弧面是否透光,不透光則該磁瓦外弧面和外弧面橫截面的弦長符合精度要求。