本發(fā)明涉及標(biāo)定系統(tǒng)和標(biāo)定方法,特別地涉及一種針對(duì)粉塵濃度的標(biāo)定系統(tǒng)和標(biāo)定方法。
背景技術(shù):
現(xiàn)如今,國(guó)內(nèi)外所采用的粉塵濃度檢測(cè)系統(tǒng)的測(cè)量結(jié)果因粉塵顆粒自身的特性受到了很大的影響。在對(duì)粉塵濃度進(jìn)行測(cè)量時(shí),為了使測(cè)量結(jié)果達(dá)到準(zhǔn)確性和精確性的要求,就必須要對(duì)粉塵濃度進(jìn)行標(biāo)定。目前,針對(duì)粉塵濃度標(biāo)定與測(cè)量而言,以往最常見(jiàn)的方法是手工稱重標(biāo)定法,具體步驟是:粉塵顆粒經(jīng)過(guò)濾膜后,被截留在濾膜上,對(duì)濾膜上的粉塵進(jìn)行稱重,并與測(cè)量環(huán)境體積進(jìn)行運(yùn)算,便可得到標(biāo)定數(shù)據(jù),目前用這種方法經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)操作所獲得的標(biāo)定數(shù)據(jù)是最為精確的。但是采用這種手工稱重標(biāo)定法,操作費(fèi)時(shí)費(fèi)力,且操作要求極高,很難達(dá)到人們對(duì)測(cè)量結(jié)果的理想要求。
目前,光電探測(cè)法中的光透射法具有實(shí)用、簡(jiǎn)單和不干擾測(cè)量場(chǎng)的優(yōu)點(diǎn),因而在粉塵濃度測(cè)量中被廣泛采用,這種方法的具體步驟是:利用經(jīng)過(guò)粉塵作用后的入射光與出射光的差值,即光衰減量以從另一方面反映粉塵濃度,包括建立粉塵濃度與光信號(hào)之間的關(guān)系,從而獲取粉塵濃度標(biāo)定值。盡管這種方法避免了通過(guò)手動(dòng)操作進(jìn)行粉塵顆粒重量的測(cè)量,但存在著由于激光光源的限制,測(cè)量粉塵空間范圍小,測(cè)量結(jié)果誤差大,對(duì)等問(wèn)題。因此,對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)無(wú)法準(zhǔn)確檢測(cè)低粉塵濃度環(huán)境、無(wú)法獲知粉塵在空間范圍的分布情況以及空間范圍較大的粉塵環(huán)境,粉塵濃度標(biāo)定過(guò)程中難以獲取精確標(biāo)定數(shù)據(jù)的問(wèn)題,尚未存在全自動(dòng)的粉塵濃度標(biāo)定裝置能夠?qū)崿F(xiàn)粉塵濃度標(biāo)定裝置大范圍精確測(cè)量。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的上述缺陷,本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種實(shí)現(xiàn)大范圍高精度測(cè)量和標(biāo)定的粉塵濃度標(biāo)定系統(tǒng)。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明提供了一種粉塵濃度標(biāo)定系統(tǒng),其包括粉塵添加模塊、標(biāo)定濃度塊制造模塊、粉塵濃度標(biāo)定測(cè)量模塊和標(biāo)定數(shù)據(jù)處理模塊,其中,粉塵添加模塊與標(biāo)定濃度塊制造模塊相連接,粉塵添加模塊包括位于上端的粉塵儲(chǔ)存?zhèn)}和粉塵輸送管道,粉塵儲(chǔ)存?zhèn)}的下部與粉塵輸送管道相連接,在粉塵輸送管道上設(shè)有電磁閥,電磁閥通過(guò)標(biāo)定數(shù)據(jù)處理模塊控制,其用于控制將預(yù)定量的粉塵顆粒輸送到標(biāo)定濃度塊制造模塊中,標(biāo)定數(shù)據(jù)處理模塊包括計(jì)算機(jī),標(biāo)定濃度塊制造模塊位于粉塵添加模塊的下方,其包括位于下端的扇形稱重儀和標(biāo)定透明器。
作為優(yōu)選,扇形稱重儀包括稱重盤、計(jì)重傳感器和撥塵片,計(jì)重傳感器布置在稱重盤的底部并與標(biāo)定數(shù)據(jù)處理模塊相連接,撥塵片置于稱重盤的上表面上。
作為優(yōu)選,在稱重盤下方還設(shè)有電機(jī),電機(jī)的輸出軸與扇葉支撐軸連接,扇葉支撐軸與撥塵片相連接,標(biāo)定數(shù)據(jù)處理模塊通過(guò)控制電機(jī)的轉(zhuǎn)速,從而通過(guò)扇葉支撐軸驅(qū)動(dòng)撥塵片轉(zhuǎn)動(dòng)。
作為優(yōu)選,標(biāo)定透明器位于扇形稱重儀的下方,標(biāo)定透明器內(nèi)含一定量的水,在標(biāo)定透明器的上部設(shè)有進(jìn)塵口,進(jìn)塵口與稱重盤的出口相連通。
作為優(yōu)選,在標(biāo)定透明器上還設(shè)有超聲攪拌儀,超聲攪拌儀與標(biāo)定數(shù)據(jù)處理模塊相連接,標(biāo)定數(shù)據(jù)處理模塊能夠控制超聲攪拌儀在粉塵顆粒進(jìn)入標(biāo)定透明器后與水之間進(jìn)行短時(shí)間的均勻攪拌操作。
作為優(yōu)選,粉塵濃度標(biāo)定測(cè)量模塊包括光源發(fā)射模塊和光電接收模塊,其中,光源發(fā)射模塊位于標(biāo)定透明器的一側(cè),光電接收模塊位于標(biāo)定濃度塊制造模塊的另一側(cè)并與光源發(fā)射模塊相對(duì),光源發(fā)射模塊和光電接收模塊均包括滑臺(tái),在滑臺(tái)上設(shè)置有升降臺(tái),滑臺(tái)的頂部安裝有步進(jìn)電機(jī),其中,在光源發(fā)射模塊中,在滑臺(tái)的升降臺(tái)上固定有線激光器,在步進(jìn)電機(jī)的作用下線激光器隨著升降臺(tái)上下移動(dòng),在光電接收模塊中,在滑臺(tái)的升降臺(tái)上固定有光電探測(cè)器和菲涅爾透鏡,在步進(jìn)電機(jī)的作用下光電探測(cè)器和菲涅爾透鏡隨著升降臺(tái)上下移動(dòng)。
作為優(yōu)選,菲涅爾透鏡位于標(biāo)定濃度塊制造模塊和光電探測(cè)器之間,光電探測(cè)器位于菲涅爾透鏡的焦點(diǎn)處。
作為優(yōu)選,粉塵濃度標(biāo)定測(cè)量模塊的線激光器和光電探測(cè)器光學(xué)對(duì)準(zhǔn),在計(jì)算機(jī)的控制下同步升降。
作為優(yōu)選,扇形稱重儀的外表面采用聚四氟乙烯涂層。
本發(fā)明還提供一種粉塵濃度標(biāo)定方法,其采用粉塵濃度標(biāo)定系統(tǒng)對(duì)粉塵顆粒濃度進(jìn)行標(biāo)定,包括以下步驟:
(3)將粉塵濃度標(biāo)定系統(tǒng)放置于平坦光滑的平臺(tái)上,調(diào)節(jié)使稱重盤的平面水平,使光源發(fā)射模塊和光電接收模塊放置于同一水平面,光電探測(cè)器至于菲涅爾透鏡焦點(diǎn)處,通過(guò)計(jì)算機(jī)控制將線激光器與光電探測(cè)器進(jìn)行校準(zhǔn)。
(4)開(kāi)啟標(biāo)定數(shù)據(jù)處理模塊并打開(kāi)光源發(fā)射模塊及光電探測(cè)模塊,待各部件處于穩(wěn)定狀態(tài)后開(kāi)始工作;
(3)在無(wú)粉塵環(huán)境下進(jìn)行測(cè)量和標(biāo)定,線激光器發(fā)出的光入射進(jìn)無(wú)粉塵的濃度標(biāo)定塊的標(biāo)定透明器中,經(jīng)菲涅爾透鏡將透射出的光在光電探測(cè)裝置上匯聚為一點(diǎn),利用信號(hào)處理放大電路,將所獲取的電信號(hào)傳入計(jì)算機(jī)。在粉塵濃度為0時(shí),將電信號(hào)的值記為V0;
(4)計(jì)算機(jī)控制電磁閥,使粉塵顆粒在粉塵儲(chǔ)存?zhèn)}中經(jīng)粉塵輸送管道輸送至扇形稱重儀上,當(dāng)計(jì)重傳感器上的數(shù)值達(dá)到某一預(yù)先設(shè)定的值m時(shí),計(jì)算機(jī)控制電磁閥關(guān)閉,質(zhì)量為m的粉塵顆粒布置在稱重盤上,計(jì)算機(jī)控制電機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng),使撥塵片將扇形稱重儀上質(zhì)量為m的粉塵顆粒從進(jìn)塵口加入到標(biāo)定濃度塊制造模塊中;
(5)計(jì)重傳感器把剩余的粉塵顆粒進(jìn)行稱重,然后傳輸給計(jì)算機(jī),若稱得質(zhì)量不為0,將其記為m1,則添加至標(biāo)定濃度塊制造模塊中的粉塵顆粒質(zhì)量為m-m1;若稱得重量為0,說(shuō)明添加至標(biāo)定濃度塊制造模塊的粉塵質(zhì)量為m-m1,其中m1為0;
(6)利用計(jì)算機(jī)控制超聲攪拌儀攪拌待測(cè)量的含塵液體,攪拌均勻后停止;在標(biāo)定透明器一側(cè)自下而上依次選取間距相等的N個(gè)測(cè)試點(diǎn),通過(guò)計(jì)算機(jī)控制線激光器在預(yù)定的N個(gè)測(cè)試點(diǎn)分別測(cè)量。檢測(cè)入射光經(jīng)過(guò)標(biāo)定濃度塊制造模塊后的透射光電信號(hào)幅值,并將其傳輸給計(jì)算機(jī)計(jì)算其平均值,記為V1。記錄在粉塵質(zhì)量為m-m1時(shí),所獲取的光信號(hào)為V1;
(7)建立粉塵濃度與電壓值的關(guān)系,包括粉塵標(biāo)定濃度塊的體積為一恒定的值v,在添加了質(zhì)量為m-m1的粉塵后,粉塵濃度標(biāo)定塊的濃度為所對(duì)應(yīng)的光信號(hào)衰減量為V0-V1;
(8)重復(fù)步驟4及步驟6.記錄在粉塵質(zhì)量為m-m1+m-m2,即2m-m1-m2時(shí),所對(duì)應(yīng)的光信號(hào)平均值為V2,建立粉塵濃度與電壓值的關(guān)系,在粉塵濃度標(biāo)定塊濃度為時(shí),所對(duì)應(yīng)的光衰減量為V0-V2;
(9)重復(fù)以上步驟,獲取粉塵濃度與電信號(hào)之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系,通過(guò)計(jì)算機(jī)建立表格,形成粉塵濃度標(biāo)定數(shù)據(jù)表,完成標(biāo)定工作。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有如下的有益效果:
本發(fā)明的標(biāo)定裝置采用了扇形稱重儀,兩次稱重,使粉塵濃度塊的制作更加精準(zhǔn),同時(shí)引入的升降臺(tái),可以對(duì)大范圍內(nèi)的粉塵濃度進(jìn)行標(biāo)定,通過(guò)多次測(cè)量其不同高度下的粉塵濃度值求平均值,獲取更精準(zhǔn)的標(biāo)定數(shù)據(jù)。粉塵的分布與粒徑對(duì)對(duì)標(biāo)定結(jié)果影響小,通過(guò)采用線激光器后使光受到更多粉塵顆粒作用,光衰減明顯,大大提高系統(tǒng)靈敏度,使標(biāo)定結(jié)果更加準(zhǔn)確。本發(fā)明除了能夠讓測(cè)量結(jié)果更為精確外,裝置本身實(shí)現(xiàn)了全自動(dòng)化,相較于傳統(tǒng)的粉塵濃度標(biāo)定方法,無(wú)需人為稱重,節(jié)約人力物力。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明的粉塵濃度標(biāo)定系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明的粉塵濃度標(biāo)定系統(tǒng)中粉塵添加的示意圖;
圖3為本發(fā)明的粉塵濃度標(biāo)定系統(tǒng)中標(biāo)定過(guò)程的示意圖。
其中:1、粉塵儲(chǔ)存?zhèn)};2、粉塵輸送管道;3、電磁閥;4、扇葉支承軸;5、稱重盤;6、計(jì)重傳感器;7、電機(jī);8、撥塵片;9、滑臺(tái);10、步進(jìn)電機(jī);11、升降臺(tái);12、線激光器;13、光電探測(cè)器;14、菲涅爾透鏡;15、進(jìn)塵口;16、超聲攪拌儀;17、標(biāo)定透明器;18、計(jì)算機(jī)。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述,但不作為對(duì)本發(fā)明的限定。
本實(shí)施例涉及一種粉塵濃度標(biāo)定系統(tǒng),其采用光學(xué)測(cè)量標(biāo)定方法并且以水為載體,具體包括粉塵添加模塊、標(biāo)定濃度塊制造模塊、粉塵濃度標(biāo)定測(cè)量模塊和標(biāo)定數(shù)據(jù)處理模塊,如圖1所示,其中,粉塵添加模塊與標(biāo)定濃度塊制造模塊相連接,粉塵添加模塊包括位于上端的粉塵儲(chǔ)存?zhèn)}1和粉塵輸送管道2,粉塵儲(chǔ)存?zhèn)}1配置地用于存放待測(cè)粉塵顆粒,粉塵儲(chǔ)存?zhèn)}1的下部與粉塵輸送管道2相連接,在粉塵輸送管道2上設(shè)有電磁閥3,粉塵儲(chǔ)存?zhèn)}1中的待測(cè)粉塵顆粒通過(guò)粉塵輸送管道2輸送到標(biāo)定濃度塊制造模塊中,電磁閥3通過(guò)標(biāo)定數(shù)據(jù)處理模塊控制,其用于控制將預(yù)定量的粉塵顆粒輸送到標(biāo)定濃度塊制造模塊中,標(biāo)定數(shù)據(jù)處理模塊,其實(shí)現(xiàn)對(duì)整個(gè)標(biāo)定系統(tǒng)的控制以及對(duì)標(biāo)定數(shù)據(jù)的處理,具體地,該標(biāo)定數(shù)據(jù)處理模塊包括計(jì)算機(jī)18和信號(hào)處理放大電路。
如圖2所示,標(biāo)定濃度塊制造模塊位于粉塵添加模塊的下方,其包括位于下端的扇形稱重儀和標(biāo)定透明器17,從粉塵添加模塊中輸出的待測(cè)粉塵顆粒被輸送到扇形稱重儀上測(cè)量重量,扇形稱重儀所承受的粉塵顆粒重量通過(guò)標(biāo)定數(shù)據(jù)處理模塊顯示。其中,扇形稱重儀包括稱重盤5、計(jì)重傳感器6和撥塵片8,計(jì)重傳感器6布置在稱重盤5的底部并與標(biāo)定數(shù)據(jù)處理模塊相連接,撥塵片8置于稱重盤5的上表面上,在稱重盤5下方中部還設(shè)有電機(jī)7,電機(jī)7的輸出軸與扇葉支撐軸4連接,扇葉支撐軸4與撥塵片8相連接,標(biāo)定數(shù)據(jù)處理模塊通過(guò)控制電機(jī)7的轉(zhuǎn)速,從而通過(guò)扇葉支撐軸4驅(qū)動(dòng)撥塵片8轉(zhuǎn)動(dòng)。此外,扇形稱重儀的外表面,包括撥塵片8等與粉塵顆粒直接接觸的裝置的外表面采用聚四氟乙烯涂層,這樣可以達(dá)到不沾粘粉塵的效果。
標(biāo)定透明器17位于扇形稱重儀的下方,其由透光性強(qiáng)的超白玻璃制成,標(biāo)定透明器17內(nèi)含一定量的水,在標(biāo)定透明器17的上部設(shè)有進(jìn)塵口15,該進(jìn)塵口15與扇形稱重儀中稱重盤5上的出口相連通,稱重盤5上的撥塵片8將粉塵顆粒撥動(dòng)到出口處并通過(guò)進(jìn)塵口15輸送到標(biāo)定透明器17中,在標(biāo)定透明器17上還設(shè)有超聲攪拌儀16,超聲攪拌儀16與標(biāo)定數(shù)據(jù)處理模塊相連接,標(biāo)定數(shù)據(jù)處理模塊能夠控制超聲攪拌儀16在粉塵顆粒進(jìn)入標(biāo)定透明器17后與水之間進(jìn)行短時(shí)間的均勻攪拌操作,從而以水為載體,利用超聲攪拌作用,模擬粉塵顆粒懸浮在空氣中均勻分布的狀態(tài),使得粉塵顆粒置于標(biāo)定透明器17的水中進(jìn)行標(biāo)定操作,既能實(shí)現(xiàn)粉塵顆粒在水中的均勻分布,而且操作安全衛(wèi)生。此外,由于在水中和在空氣中的光學(xué)現(xiàn)象均為線性關(guān)系,并且兩種介質(zhì)在發(fā)生物理變化時(shí),如大氣的流動(dòng)、水面的波動(dòng)等現(xiàn)象時(shí),不會(huì)引入非線性誤差。
如圖3所示,粉塵濃度標(biāo)定測(cè)量模塊包括光源發(fā)射模塊和光電接收模塊,其中,光源發(fā)射模塊位于標(biāo)定濃度塊制造模塊的一側(cè),光電接收模塊位于標(biāo)定濃度塊制造模塊的另一側(cè)并與光源發(fā)射模塊相對(duì),光源發(fā)射模塊和光電接收模塊均包括滑臺(tái)9,在滑臺(tái)9上設(shè)置有升降臺(tái),滑臺(tái)9的頂部安裝有步進(jìn)電機(jī)10,其中,在光源發(fā)射模塊中,在滑臺(tái)9的升降臺(tái)11上固定有線激光器12,在步進(jìn)電機(jī)10的作用下線激光器12可以隨著升降臺(tái)11上下移動(dòng),線激光器發(fā)出的線形激光入射進(jìn)標(biāo)定透明器17中的待測(cè)區(qū)域,大大增加入射進(jìn)粉塵標(biāo)定區(qū)域的入射光面,使得更多粉塵顆粒與入射光發(fā)生相互作用,提高了整體標(biāo)定系統(tǒng)的靈敏度。
在光電接收模塊中,在滑臺(tái)9的升降臺(tái)11上固定有光電探測(cè)器13和菲涅爾透鏡14,在步進(jìn)電機(jī)10的作用下光電探測(cè)器13和菲涅爾透鏡14可以隨著升降臺(tái)11上下移動(dòng),菲涅爾透鏡14位于標(biāo)定濃度塊制造模塊和光電探測(cè)器13之間,同時(shí)光電探測(cè)器13位于菲涅爾透鏡14的焦點(diǎn)處,從標(biāo)定透明器17射出的透射光的光傳播方向不變,能量較為分散,這樣,入射到標(biāo)定透明器17中并經(jīng)過(guò)粉塵作用的透射光經(jīng)過(guò)菲涅爾透鏡14后實(shí)現(xiàn)匯聚,能量被聚集起來(lái),最終被光電探測(cè)器13接收并進(jìn)行光電轉(zhuǎn)換。
在實(shí)際標(biāo)定過(guò)程中,線激光器12與光電探測(cè)器13在測(cè)量過(guò)程中需要進(jìn)行光學(xué)對(duì)準(zhǔn),通過(guò)計(jì)算機(jī)18分別控制位于滑臺(tái)9上的線激光器12以及光電探測(cè)器13等速同步移動(dòng),當(dāng)線激光器12移動(dòng)至待測(cè)位置時(shí)控制線激光器12所在的升降臺(tái)11停止移動(dòng)并控制線激光器12開(kāi)始工作,此時(shí)光電探測(cè)器13所在升降臺(tái)11在激光細(xì)線附近小幅移動(dòng),并不斷讀取光電探測(cè)器13檢測(cè)到的光電信號(hào)幅值,當(dāng)檢測(cè)到光電信號(hào)幅值最大時(shí)控制光電探測(cè)器13所在的升降臺(tái)11停止,并將該信號(hào)幅值采集到計(jì)算機(jī)18上進(jìn)行后續(xù)的數(shù)據(jù)處理。
采用上述標(biāo)定系統(tǒng),本發(fā)明能夠?qū)Ψ蹓m濃度進(jìn)行標(biāo)定測(cè)量,具體方法的步驟如下:
1、將粉塵濃度標(biāo)定系統(tǒng)放置于平坦光滑的平臺(tái)上,調(diào)節(jié)使稱重盤5的平面水平,使光源發(fā)射模塊和光電接收模塊放置于同一水平面,光電探測(cè)器13至于菲涅爾透鏡14焦點(diǎn)處,通過(guò)計(jì)算機(jī)控制將線激光器12與光電探測(cè)器13進(jìn)行校準(zhǔn)。;
2、開(kāi)啟標(biāo)定數(shù)據(jù)處理模塊中的程序并打開(kāi)光源發(fā)射器與光電探測(cè)裝置,待各部件處于穩(wěn)定狀態(tài)后開(kāi)始工作;
3、在無(wú)粉塵環(huán)境下進(jìn)行測(cè)量和標(biāo)定,線激光器12發(fā)出的光入射進(jìn)無(wú)粉塵的濃度標(biāo)定塊的標(biāo)定透明器17中,經(jīng)菲涅爾透鏡將透射出的光在光電探測(cè)裝置上匯聚為一點(diǎn),利用信號(hào)處理放大電路,將所獲取的電信號(hào)傳入計(jì)算機(jī)18。在粉塵濃度為0時(shí),將獲取的電信號(hào)的值記錄為V0;
4、計(jì)算機(jī)18控制電磁閥3,使粉塵顆粒在粉塵儲(chǔ)存?zhèn)}1中經(jīng)粉塵輸送管道2輸送至扇形稱重儀上,當(dāng)與計(jì)重傳感器6上的數(shù)值達(dá)到某一預(yù)先設(shè)定的值m時(shí),計(jì)算機(jī)18控制電磁閥3關(guān)閉,質(zhì)量為m的粉塵顆粒布置在稱重盤5上,計(jì)算機(jī)18控制電機(jī)7轉(zhuǎn)動(dòng),使撥塵片8將扇形稱重儀5上質(zhì)量為m的粉塵顆粒從進(jìn)塵口15加入到標(biāo)定濃度塊制造模塊中;
5、為了標(biāo)定數(shù)據(jù)的精確,計(jì)重傳感器6把剩余的例如可能粘附在撥塵片8上的粉塵顆粒進(jìn)行稱重,然后傳輸給計(jì)算機(jī)18,若稱得質(zhì)量不為0,將其記為m1,則添加至標(biāo)定濃度塊制造模塊中的粉塵顆粒質(zhì)量為m-m1;若稱得重量為0,說(shuō)明添加至標(biāo)定濃度塊制造模塊的粉塵質(zhì)量為m-m1,其中m1為0;
7、利用計(jì)算機(jī)18控制超聲攪拌儀16攪拌待測(cè)量的含塵液體,攪拌均勻后停止;在標(biāo)定透明器17一側(cè)自下而上依次選取間距相等的N個(gè)測(cè)試點(diǎn),通過(guò)計(jì)算機(jī)18控制線激光器12在預(yù)定的N個(gè)測(cè)試點(diǎn)分別測(cè)量。檢測(cè)入射光經(jīng)過(guò)標(biāo)定濃度塊制造模塊后的透射光電信號(hào)幅值,并將其傳輸給計(jì)算機(jī)18計(jì)算其平均值,記為V1。記錄在粉塵質(zhì)量為m-m1時(shí),所獲取的光信號(hào)為V1;
8、建立粉塵濃度與電壓值的關(guān)系,包括粉塵標(biāo)定濃度塊的體積為一恒定的值v,在添加了質(zhì)量為m-m1的粉塵后,粉塵濃度標(biāo)定塊的濃度為所對(duì)應(yīng)的光信號(hào)衰減量為V0-V1;
9、重復(fù)步驟4及步驟6.記錄在粉塵質(zhì)量為m-m1+m-m2,即2m-m1-m2時(shí),所對(duì)應(yīng)的光信號(hào)為V2,建立粉塵濃度與電壓值的關(guān)系,在粉塵濃度標(biāo)定塊濃度為時(shí),所對(duì)應(yīng)的光衰減量為V0-V2;
10、重復(fù)以上步驟,獲取大量粉塵濃度與電信號(hào)之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系,通過(guò)計(jì)算機(jī)建立表格,形成粉塵濃度標(biāo)定數(shù)據(jù)表,利用透射法進(jìn)行粉塵濃度測(cè)量,可根據(jù)電信號(hào)與粉塵濃度值之間的關(guān)系將測(cè)量系統(tǒng)所測(cè)得電信號(hào)直接換算為具體的粉塵濃度值。
當(dāng)然,以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),在不脫離本發(fā)明原理的前提下,還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾,這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。