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一種高精度雙層納米光柵三軸加速度檢測(cè)裝置的制作方法

文檔序號(hào):11946520閱讀:來源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種高精度雙層納米光柵三軸加速度檢測(cè)裝置,其特征在于,包括凸臺(tái)、3軸加速度敏感結(jié)構(gòu)、光電探測(cè)器陣列;凸臺(tái)上布置有固定納米光柵,凸臺(tái)下方布置有與固定納米光柵對(duì)應(yīng)的激光光源陣列,3軸加速度敏感結(jié)構(gòu)包括分別檢測(cè)X、Y、Z軸加速度的納米光柵加速度敏感結(jié)構(gòu),位于凸臺(tái)上方,所述納米光柵加速度敏感結(jié)構(gòu)上設(shè)有與固定納米光柵對(duì)應(yīng)的可動(dòng)納米光柵,3軸加速度敏感結(jié)構(gòu)通過連接塊與凸臺(tái)可移動(dòng)連接;激光光源陣列、固定納米光柵、可動(dòng)納米光柵、光電探測(cè)器陣列自下而上對(duì)應(yīng)布置,且均在同一條豎直軸線上。

2.如權(quán)利要求1所述的高精度雙層納米光柵三軸加速度檢測(cè)裝置,其特征在于,激光光源陣列、固定納米光柵、可動(dòng)納米光柵、光電探測(cè)器陣列均為5組,2組用于檢測(cè)面內(nèi)X軸加速度,2組用于檢測(cè)面內(nèi)Y軸加速度,1組用于檢測(cè)離面Z軸加速度。

3.如權(quán)利要求1所述的高精度雙層納米光柵三軸加速度檢測(cè)裝置,其特征在于,納米光柵的制作材料為硅。

4.如權(quán)利要求1所述的高精度雙層納米光柵三軸加速度檢測(cè)裝置,其特征在于,固定納米光柵和可動(dòng)納米光柵的結(jié)構(gòu)參數(shù)均為:入射光波長(zhǎng)λ為850nm,光柵周期Λ為800nm,占空比r為0.5,光柵厚度d為400nm。

5.如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的高精度雙層納米光柵三軸加速度檢測(cè)裝置,其特征在于,所述檢測(cè)裝置用惰性氣體封裝。

6.如權(quán)利要求5所述的高精度雙層納米光柵三軸加速度檢測(cè)裝置,其特征在于,所述惰性氣體為氦氣。

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