專利名稱：干涉濾光片、光模塊及分析裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及干涉濾光片、具有該干涉濾光片的光模塊以及具有該光模塊的分析裝置。
背景技術(shù)：
以往，公知有在一對基板的彼此相對的表面上分別相向地配置作為反射膜的鏡片 (mirror)的干涉濾光片。這樣的干涉濾光片包括保持相互平行的一對基板以及在該對基板上以互相對置同時具有固定間隔的間隙的方式形成的一對鏡片(反射膜)。在這樣的干涉濾光片中，通過使光在一對鏡片間反射并僅使特定波長的光透過， 利用干涉來抵消其他波長的光，能使入射光中僅透過特定波長的光。使用介電膜或金屬膜作為鏡片。鏡片所需要的功能是高反射特性及透過性。若考慮這樣的功能，則金屬膜中銀(Ag)是有力的候選。然而，由Ag構(gòu)成的膜OVg膜。以下稱純銀膜)的耐高溫性或耐處理性低。耐處理性是指例如對在使成膜后的鏡片圖案化為期望的形狀時進(jìn)行的圖案化處理中的各工序條件的耐久性。處理中的條件是指例如高溫烘烤或基于有機(jī)溶劑的抗蝕劑剝離等。在此處理加工后，Ag膜的反射率的下降較大，從而不能充分發(fā)揮鏡片需要的功能，導(dǎo)致干涉濾光片的性能下降。另外，Ag膜隨時間變化的反射率的下降也較大。從這樣的背景出發(fā)，對鏡片中使用的材料進(jìn)行了研究。例如專利文獻(xiàn)1中記載了在鏡片中使用了向純銀中添加碳(C)的Ag-C合金的干涉濾光片。專利文獻(xiàn)1 日本專利申請?zhí)亻_2009-251105號公報

發(fā)明內(nèi)容
然而，即使用專利文獻(xiàn)1中記載的Ag-C合金膜作為鏡片，干涉濾光片的性能也會發(fā)生下降。在干涉濾光片的鏡片中使用Ag-C合金膜的情況下，與使用純銀膜的情況相比， 雖然耐高溫性或耐處理性提高，但反射率發(fā)生下降。另外，若為了提高反射率而增大Ag-C 合金膜的膜厚，則透射率下降從而作為濾光片的檢測靈敏度下降。因此，期望有抑制了濾光片性能的下降的干涉濾光片。本發(fā)明的目的在于提供性能下降被抑制的干涉濾光片、具有該干涉濾光片的光模塊以及具有該光模塊的分析裝置。本發(fā)明的干涉濾光片的特征在于，具有隔著間隙對置的2個反射膜以及支撐所述反射膜的基板，其中，所述反射膜包含純銀膜及銀合金膜，在所述基板上，從所述基板側(cè)開始依次設(shè)置所述純銀膜及所述銀合金膜，所述銀合金膜是含有銀(Ag)、釤(Sm)及銅(Cu)的 Ag-Sm-Cu合金膜，或者是含有銀(Ag)、鉍(Bi)及釹(Nd)的Ag-Bi-Nd合金膜。干涉濾光片中的反射膜具有透過光的透射特性與反射光的反射特性，在例如從外部透過一方的反射膜并入射至2個(一對)反射膜之間的光在反射膜間進(jìn)行反射，從而使特定波長的光從一方或另一方的反射膜通過。根據(jù)本發(fā)明，2個(一對)反射膜具有純銀膜與銀合金膜。因此，能夠抑制以銀合金膜單層作為反射膜(僅用銀合金膜構(gòu)成反射膜)的情況下的反射率的下降，從而接近純銀膜單層(僅用純銀膜構(gòu)成反射膜)的反射率。而且，對于基板從基板側(cè)開始依次設(shè)置純銀膜以及比純銀耐高溫性或耐處理性好的銀合金膜。因此，純銀膜被銀合金膜覆蓋，與純銀膜單層的情況相比，減小了處理加工或隨時間變化所引起的反射率下降。這樣，干涉濾光片的性能下降得到抑制。本發(fā)明的干涉濾光片的特征在于，具有隔著間隙對置的2個反射膜以及支撐所述反射膜的基板，其中，所述反射膜包含純銀膜與銀合金膜，在所述基板上，從所述基板側(cè)開始依次設(shè)置所述純銀膜及所述銀合金膜，所述銀合金膜是以下的任一種含有銀(Ag)及金 (Au)的Ag-Au合金膜、含有銀(Ag)及銅(Cu)的Ag-Cu合金膜、含有銀(Ag)、金(Au)及銅 (Cu)的Ag-Au-Cu合金膜、含有銀(Ag)、硅(Si)及銅(Cu)的Ag-Si-Cu合金膜、含有銀(Ag)、 磷(P)及銅(Cu)的Ag-P-Cu合金膜、含有銀(Ag)、磷(P)、銦(In)及銅(Cu)的Ag-P-In-Cu 合金膜、含有銀(Ag)、碲(Te)及銅(Cu)的Ag-Te-Cu合金膜、含有銀(Ag)、鎵(Ga)及銅(Cu) 的Ag-Ga-Cu合金膜以及含有銀(Ag)、銦(In)及錫(Sn)的Ag-In-Sn合金膜。根據(jù)本發(fā)明，與上述發(fā)明相同，由于2個(一對)反射膜包含純銀膜與銀合金膜， 所以能使反射膜的反射率接近純銀膜單層的反射率。而且，由于重疊于純銀膜而形成銀合金膜，所以能抑制處理加工或隨時間變化所引起的反射膜的反射率下降。這樣，干涉濾光片的性能下降得到抑制。本發(fā)明中，優(yōu)選上述反射膜的厚度為30nm以上80nm以下，上述銀合金膜的厚度為 IOnm以上。根據(jù)此發(fā)明，干涉濾光片的反射膜的厚度在30nm以上SOnm以下，且銀合金膜的厚度在IOnm以上。因此，反射膜的膜厚不會過厚，抑制了透射率的下降，從而防止干涉濾光片的性能下降。另外，由于反射膜因銀合金膜而具有耐高溫性或耐處理性，所以抑制了處理后或隨時間變化所引起的透射率的變化。結(jié)果，干涉濾光片的反射膜所需要的光的反射及透過這兩個特性的下降被抑制。本發(fā)明中，優(yōu)選地，上述銀合金膜是Ag-Sm-Cu合金膜，上述Ag-Sm-Cu合金膜中Sm 的含量為0. 1原子％以上0.5原子％以下，Cu的含量為0. 1原子％以上0.5原子％以下， Sm及Cu的合計含量為1原子％以下。根據(jù)本發(fā)明，由于Ag-Sm-Cu合金膜是上述組成，所以處理加工或隨時間變化所引起的反射率下降進(jìn)一步變小，干涉濾光片的性能下降被更可靠地抑制。另外，若Sm及Cu的含量不足0. 1原子％，則處理加工或隨時間變化所引起的反射率下降變大。若Sm及Cu的含量超過0. 5原子％，則反射率變低。進(jìn)一步，若Sm及Cu的含量的合計超過1原子％，則反射率變低。另外，本發(fā)明中，優(yōu)選地，上述銀合金膜是上述Ag-Bi-Nd合金膜，上述Ag-Bi-Nd合金膜中Bi的含量為0. 1原子％以上3原子％以下，Nd含量的為0. 1原子％以上5原子％ 以下。
根據(jù)本發(fā)明，由于Ag-Bi-Nd合金膜是上述組成，所以處理加工或隨時間變化所引起的反射率下降進(jìn)一步變小，干涉濾光片的性能下降被更可靠地抑制。此外，若Bi及Nd的含量不足0. 1原子％，則處理加工或隨時間變化所引起的反射率下降變大。若Bi的含量超過3原子％或Nd的含量超過5原子％，則反射率變低。進(jìn)一步，在本發(fā)明中，優(yōu)選地，在所述銀合金膜是所述Ag-Au合金膜的情況下，Au 的含量為0. 1原子％以上10原子％以下；在所述銀合金膜是所述Ag-Cu合金膜的情況下， Cu的含量為0. 1原子％以上10原子％以下；在所述銀合金膜是所述Ag-Au-Cu合金膜的情況下，Au的含量為0. 1原子％以上，Cu的含量為0. 1原子％以上，且Au及Cu的合計含量為10原子％以下；在所述銀合金膜是所述Ag-Si-Cu合金膜的情況下，Si的含量為0. 1原子％以上，Cu的含量為0. 1原子％以上，且Si及Cu的合計含量為10原子％以下；在所述銀合金膜是所述Ag-P-Cu合金膜的情況下，P的含量為0. 1原子％以上，Cu的含量為0. 1原子％以上，且P及Cu的合計含量為10原子％以下；在所述銀合金膜是所述Ag-P-In-Cu合金膜的情況下，P的含量為0. 1原子％以上，In的含量為0. 1原子％以上，Cu的含量為0. 1 原子％以上，且PUn及Cu的合計含量為10原子％以下；在所述銀合金膜是所述Ag-Te-Cu 合金膜的情況下，Te的含量為0. 1原子％以上，Cu的含量為0. 1原子％以上，且Te及Cu的合計含量為10原子％以下；在所述銀合金膜是所述Ag-Ga-Cu合金膜的情況下，Ga的含量為0. 1原子％以上，Cu的含量為0. 1原子％以上，且( 及Cu的合計含量為10原子％以下； 在所述銀合金膜是所述Ag-In-Sn的情況下，In的含量為0. 1原子％以上，Sn的含量為0. 1 原子％以上，且^1及311的合計含量為10原子％以下。根據(jù)本發(fā)明，由于本發(fā)明涉及的上述合金膜是上述組成，所以處理加工或隨時間變化所引起的反射率下降進(jìn)一步變小，干涉濾光片的性能下降被更可靠地抑制。此外，若本發(fā)明涉及的上述合金膜中含有的各元素(Au、Cu、Si、P、In、Te、Ga、Sn)的含量不足0. 1原子％，則處理加工或隨時間變化所引起的反射率下降變大。若本發(fā)明涉及的上述合金膜中含有的各元素的合計含量超過10原子％，則反射率變低。本發(fā)明中，優(yōu)選地，上述反射膜包含介電膜、上述純銀膜及上述銀合金膜，在上述基板上，從上述基板側(cè)開始依次設(shè)置上述介電膜、上述純銀膜及上述銀合金膜。根據(jù)本發(fā)明，由于反射膜上設(shè)置了介電膜，與未設(shè)置介電膜的情況相比，能提高可見光波長范圍內(nèi)短波長側(cè)的反射率。此外，本發(fā)明中可見光波長范圍是400nm以上700nm 以下的范圍。本發(fā)明中，優(yōu)選地，上述介電膜是氧化鈦(TiO2)的單層膜、或者是層疊了氧化鈦 (TiO2)或五氧化鉭(Ta2O5)的層與氧化硅(SiO2)或氟化鎂(MgF2)的層而得的多層膜。根據(jù)本發(fā)明，由于介電膜是由這樣的化合物構(gòu)成的，所以提高短波長側(cè)的反射率的效果良好。本發(fā)明中，優(yōu)選地，上述反射膜包含上述介電膜、上述純銀膜、上述銀合金膜及保護(hù)膜，在上述基板上，從上述基板側(cè)開始依次設(shè)置上述介電膜、上述純銀膜、上述銀合金膜及上述保護(hù)膜。根據(jù)本發(fā)明，由于純銀膜及銀合金膜被保護(hù)膜覆蓋，故處理加工或隨時間變化所引起的反射膜中的純銀膜及銀合金膜的反射率下降進(jìn)一步變小。因此，干涉濾光片的性能下降被更可靠地抑制。
本發(fā)明中，優(yōu)選上述保護(hù)膜含有氧化硅(SiO2)、氮氧化硅(SiON)、氮化硅(SiN)及氧化鋁中任一種。根據(jù)本發(fā)明，由于保護(hù)膜是由這樣的化合物構(gòu)成，所以抑制處理加工或隨時間變化所引起的反射率下降的效果良好。優(yōu)選地，本發(fā)明的光模塊具有上述任一項所述的干涉濾光片；以及檢測該干涉濾光片提取的光的光量的檢測部。根據(jù)本發(fā)明，干涉濾光片具有接近純銀的反射率，其性能下降如上所述地被抑制。 因此，檢測部能夠檢測從這樣的干涉濾光片中提取的光。因此，光模塊能準(zhǔn)確地檢測期望波長的光的光量。優(yōu)選地，本發(fā)明的分析裝置具有根據(jù)所述檢測部檢測到的光的光量實施光分析處理的處理部。這里，作為分析裝置，能例舉出根據(jù)由如上所述的光模塊檢測的光的光量分析入射至干涉濾光片的光的色度或亮度等的光測定器、檢測氣體的吸收波長從而檢查氣體的種類的氣體檢測裝置、從接收的光中取得該波長的光中包含的數(shù)據(jù)的光通信裝置等。根據(jù)本發(fā)明，如上所述，能通過光模塊檢測期望波長的光的準(zhǔn)確的光量。因此，在分析裝置中，能夠根據(jù)這樣的準(zhǔn)確的光量實施準(zhǔn)確的分析處理。


圖1是示出本發(fā)明涉及的第一實施方式的測色裝置的概略結(jié)構(gòu)的圖。圖2是示出構(gòu)成第一實施方式的干涉濾光片的標(biāo)準(zhǔn)具(etalon)的概略結(jié)構(gòu)的平面圖。圖3是圖2中沿干涉濾光片的III-III線的方向觀察的截面圖。圖4是示出構(gòu)成本發(fā)明涉及的第二實施方式的干涉濾光片的標(biāo)準(zhǔn)具的概略結(jié)構(gòu)的截面圖。圖5是示出構(gòu)成本發(fā)明涉及的第三實施方式的干涉濾光片的標(biāo)準(zhǔn)具的概略結(jié)構(gòu)的截面圖。
具體實施例方式以下，基于

本發(fā)明涉及的實施方式。第一實施方式1.測色裝置的整體結(jié)構(gòu)圖1是示出本發(fā)明涉及的實施方式的測色裝置的概略結(jié)構(gòu)的圖。該測色裝置1是本發(fā)明的分析裝置，如圖1所示，包括向被檢查對象A射出光的光源裝置2、作為本發(fā)明的光模塊的測色傳感器3、控制測色裝置1的整體動作的控制裝置 4。而且，該測色裝置1是這樣的裝置使從光源裝置2射出的光在被檢查對象A上反射，在測色傳感器3內(nèi)接收被反射的檢查對象光，根據(jù)從測色傳感器3輸出的檢測信號來分析檢查對象光的色度即被檢查對象A的顏色并進(jìn)行測定。2.光源裝置的結(jié)構(gòu)光源裝置2具有光源21、多個透鏡22(圖1僅示出1個)，向被檢查對象A射出白色光。另外，多個透鏡22包含準(zhǔn)直透鏡，光源裝置2通過準(zhǔn)直透鏡將從光源21射出的白色光變?yōu)槠叫泄?，并從未圖示的投射透鏡向被檢查對象A射出。此外，在本實施方式中，雖然例示了具有光源裝置2的測色裝置1，但在例如被檢查對象A是液晶面板等發(fā)光部件的情況下，也可以構(gòu)成為不設(shè)置光源裝置2。3.測色傳感器的結(jié)構(gòu)如圖1所示，測色傳感器3具有構(gòu)成本發(fā)明的干涉濾光片的標(biāo)準(zhǔn)具5、接收透過標(biāo)準(zhǔn)具5的光的檢測部31、改變標(biāo)準(zhǔn)具5中透過的光的波長的電壓控制單元6。另外，測色傳感器3在與標(biāo)準(zhǔn)具5相對的位置上具有將由檢查對象A反射的反射光(檢查對象光)導(dǎo)向內(nèi)部的未圖示的入射光學(xué)透鏡。標(biāo)準(zhǔn)具5僅對從入射光學(xué)透鏡入射的檢查對象光中指定波長的光進(jìn)行分光。然后，測色傳感器3由檢測部31接收經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)具5分光后的光。檢測部31由多個光電轉(zhuǎn)換元件構(gòu)成，生成對應(yīng)于受光量的電信號。而且，檢測部 31與控制裝置4連接，將生成的電信號作為受光信號輸出至控制裝置4。3-1.標(biāo)準(zhǔn)具的概略結(jié)構(gòu)圖2是示出構(gòu)成本發(fā)明的干涉濾光片的標(biāo)準(zhǔn)具5的概略結(jié)構(gòu)的平面圖，圖3是示出標(biāo)準(zhǔn)具5的概略結(jié)構(gòu)的截面圖。此外，雖然在圖1中檢查對象光從圖中下側(cè)入射至標(biāo)準(zhǔn)具5，但在圖3中，假設(shè)檢查對象光從圖中上側(cè)入射。此外，標(biāo)準(zhǔn)具5是通過外力改變2個 (一對)鏡片間的間隙的大小的所謂波長可變干涉濾光片。如圖2所示，標(biāo)準(zhǔn)具5是平面正方形的板狀光學(xué)部件，邊長被形成為例如10mm。而且，如圖3所示，標(biāo)準(zhǔn)具5具有2個(一對)的基板，在本實施方式中，假設(shè)分別為第一基板 51及第二基板52。在第一基板51與第二基板52之間設(shè)置作為一對反射膜的固定鏡片56與可動鏡片57。在第一基板51上設(shè)置作為一方的反射膜的固定鏡片56，在第二基板52上設(shè)置作為另一方的反射膜的可動鏡片57。這里，固定鏡片56被固定在第一基板51的與第二基板 52相對的面上，可動鏡片57被固定在第二基板52的與第一基板51相對的面上。另外，這些固定鏡片56及可動鏡片57隔著鏡片間間隙G相向地配置。而且，在第一基板51與第二基板52之間設(shè)置用于調(diào)整固定鏡片56及可動鏡片 57之間的鏡片間間隙G的尺寸的靜電致動器M。靜電致動器M具有設(shè)置在第一基板51 側(cè)的第一位移用電極(固定電極)541及設(shè)置于第二基板52側(cè)的第二位移用電極(可動電極)542,并相向地配置這些電極。若對這些第一位移用電極541及第二位移用電極542施加電壓，則靜電引力在第一位移用電極541及第二位移用電極542間起作用，使第二基板52 變形，從而改變鏡片間間隙G的尺寸。從標(biāo)準(zhǔn)具5出射的光的波長隨該鏡片間間隙G的尺寸而變化。標(biāo)準(zhǔn)具5的詳細(xì)結(jié)構(gòu)將在后述，接著，說明作為一對反射膜的固定鏡片56與可動鏡片57。(3-1-1. 一對反射膜的結(jié)構(gòu))本實施方式中，一對反射膜之中一方的固定鏡片56包含純銀膜561與銀合金膜 562，另一方的可動鏡片57包含純銀膜571與銀合金膜572。而且，如圖3所示，固定鏡片 56通過從第一基板51側(cè)開始依次層疊純銀膜561及銀合金膜562而構(gòu)成。同樣地，可動鏡片57通過從第二基板52側(cè)開始依次層疊純銀膜571及銀合金膜572而構(gòu)成。純銀膜561、571不含有如銀合金膜那樣的其他的添加成分，是實際上由銀(Ag)組成的膜。但在不損害本發(fā)明的作用效果的范圍內(nèi)，除了銀元素以外，該純銀膜也可含有微量的雜質(zhì)元素(例如氧、氮等)。銀合金膜562、572含有銀與銀以外的添加成分。作為銀合金膜562、572，優(yōu)選以下
的合金膜。Ag-Sm-Cu 合金膜(含有銀(Ag)、釤(Sm)及銅(Cu))Ag-Bi-Nd 合金膜(含有銀(Ag)、鉍(Bi)及釹(Nd))Ag-Au合金膜(含有銀(Ag)及金(Au))
Ag-Cu合金膜(含有銀(Ag)及銅(Cu))Ag-Au-Cu 合金膜(含有銀(Ag)、金(Au)及銅(Cu))Ag-Si-Cu 合金膜(含有銀(Ag)、硅(Si)及銅(Cu))Ag-P-Cu合金膜(含有銀(Ag)、磷(P)及銅(Cu))Ag-P-In-Cu 合金膜(含有銀(Ag)、磷(P)、銦(In)及銅(Cu))Ag-Te-Cu 合金膜(含有銀(Ag)、碲(Te)及銅(Cu))Ag-Ga-Cu 合金膜(含有銀(Ag)、鎵 ^a)及銅(Cu))Ag-In-Sn 合金膜(含有銀(Ag)、銦(In)及錫(Sn))這些合金膜實際上都是由Ag及各合金膜中含有的各元素(Sm、Cu、Bi、Nd、Au、Si、 P.In.Te.Ga.Sn)構(gòu)成。但在不損害本發(fā)明的作用效果的范圍內(nèi)，除了構(gòu)成合金膜的上述的各元素以外，這些合金膜也可含有微量的雜質(zhì)元素(例如氧、氮等)。這樣，固定鏡片56及可動鏡片57都包含純銀膜561、571與銀合金膜562、572。因此，抑制了僅由銀合金膜562、572構(gòu)成固定鏡片56及可動鏡片57的情況下的反射率下降， 且能接近單層純銀膜561、571的情況下的反射率。進(jìn)一步，由于耐高溫性或耐處理性比純銀優(yōu)異的銀合金膜562、572層疊于純銀膜 561、571而設(shè)置，所以純銀膜561、571的表面被銀合金膜562、572覆蓋。故與僅由純銀膜 561,571構(gòu)成固定鏡片56及可動鏡片57的情況相比，處理加工或隨時間變化所引起的反射率下降變小。這樣，干涉濾光片的性能下降得到抑制。在標(biāo)準(zhǔn)具5中，固定鏡片56及可動鏡片57的反射率及透射率的平衡很重要。通過增大形成固定鏡片56及可動鏡片57的上述合金膜的厚度雖能得到高反射率，但在因透射率下降從而在作為干涉濾光片的檢測靈敏度上出現(xiàn)問題。另一方面，通過減小形成固定鏡片56及可動鏡片57的上述合金膜的厚度雖能提高透射率，但由于反射率下降，所以作為干涉濾光片的分光性能也會下降。另外，若銀合金膜562、572的厚度過薄，則耐高溫性或耐處理性不充分。由此看來，優(yōu)選固定鏡片56及可動鏡片57的厚度為30nm以上80nm以下，且優(yōu)選銀合金膜562、572的厚度為IOnm以上。若固定鏡片56及可動鏡片57的厚度不足30nm，則厚度過薄從而上述合金膜的反射率低，而且處理加工或隨時間變化所引起的反射率下降也變大。若銀合金膜562、572的厚度不足lOnm，則耐高溫性或耐處理性不充分。另一方面，若固定鏡片56及可動鏡片57的厚度超過80nm，則光透射率下降從而作為標(biāo)準(zhǔn)具5的固定鏡片56及可動鏡片57的功能也下降。純銀膜561、571及銀合金膜562、572的厚度的比例沒有特別限制，能根據(jù)需要的特性而適當(dāng)改變。因此，純銀膜561、571的厚度比銀合金膜562、572的厚度大也可以，小也可以，兩者相等也可以。例如，在希望提高反射率的情況下，可使純銀膜561、571的厚度比銀合金膜562、572的厚度大。另外，例如，在希望提高耐高溫性或耐處理性的情況下，可以增大銀合金膜562、572的厚度。在銀合金膜562、572為Ag-Sm-Cu合金膜的情況下，優(yōu)選Sm含量為0. 1原子％以上0. 5原子％以下，Cu含量為0. 1原子％以上0. 5原子％以下，Sm及Cu的合計含量為1原子％以下。若Sm及Cu的含量不足0. 1原子％，則處理加工或隨時間變化而引起的反射率下降變大。若Sm及Cu的含量超過0.5原子％，則反射率變低。若Sm及Cu的合計含量超過1原子％，則反射率變低。此外，雖然剩余部分實際上是Ag，但在不損害本發(fā)明的作用效果的范圍內(nèi)也可含有微量的雜質(zhì)。在銀合金膜562、572為Ag-Bi-Nd合金膜的情況下，優(yōu)選Bi含量為0. 1原子％以上3原子％以下、Nd含量為0. 1原子％以上5原子％以下。更優(yōu)選Bi含量為0. 1原子％ 以上2原子％以下，Nd含量為0. 1原子％以上3原子％以下。若Bi及Nd的含量不足0. 1 原子％，則處理加工或隨時間變化所引起的反射率下降變大。若Bi的含量超過3原子％或 Nd的含量超過5原子％，則反射率變低。此外，雖然剩余部分實際上是Ag，但在不損害本發(fā)明的作用效果的范圍內(nèi)也可含有微量的雜質(zhì)。對于銀合金膜562、572為Ag-Au合金膜、Ag-Cu合金膜、Ag-Au-Cu合金膜、 Ag-Si-Cu 合金膜、Ag-P-Cu 合金膜、Ag-P-In-Cu 合金膜、Ag-Te-Cu 合金膜、Ag-Ga-Cu 合金膜、Ag-h-Sn合金膜的任一種的情況下的合金膜的組成，優(yōu)選在以下所示的范圍內(nèi)。Ag-Au合金膜Au含量為0. 1原子％以上10原子％以下；Ag-Cu合金膜Cu含量為0. 1原子％以上10原子％以下；Ag-Au-Cu合金膜Au含量為0. 1原子％以上、Cu含量為0. 1原子％以上、且Au及 Cu的合計含量為10原子％以下；Ag-Si-Cu合金膜Si含量為0. 1原子％以上、Cu含量為0. 1原子％以上、且Si及 Cu的合計含量為10原子％以下；Ag-P-Cu合金膜P含量為0. 1原子％以上、Cu含量為0. 1原子％以上、且P及Cu 的合計含量為10原子％以下；Ag-P-In-Cu合金膜P含量為0. 1原子％以上、h含量為0. 1原子％以上、Cu含量為0. 1原子％以上、且PJn及Cu的合計含量為10原子％以下；Ag-Te-Cu合金膜Te含量為0. 1原子％以上、Cu含量為0. 1原子％以上、且Te及 Cu的合計含量為10原子％以下；Ag-Ga-Cu合金膜Ga含量為0. 1原子％以上、Cu含量為0. 1原子％以上、且( 及 Cu的合計含量為10原子％以下；Ag-In-Sn合金膜1η含量為0. 1原子％以上、Sn含量為0. 1原子％以上、且h及 Sn的合計含量為10原子％以下。在銀合金膜562、572為Ag-Au合金膜、Ag-Cu合金膜、Ag-Au-Cu合金膜、Ag-Si-Cu合金膜、Ag-P-Cu合金膜、Ag-P-In-Cu合金膜、Ag-Te-Cu合金膜、Ag-Ga-Cu合金膜、Ag-h-Sn 合金膜的任一種的情況下，若各元素(AiuCiuSLPUruThfeuSn)的含量不足0. 1原子％， 則處理加工或隨時間變化所引起的反射率下降變大。若上述合金膜中含有的各元素的合計含量超過10原子％，則反射率變低。雖然上述合金膜中各元素以外的剩余部分實際上是 Ag，但在不損害本發(fā)明的作用效果的范圍內(nèi)也可含有微量的雜質(zhì)。使用具有上述合金膜的組成的靶材料通過濺射法等公知的方法形成固定鏡片56 及可動鏡片57。固定鏡片56通過從第一基板51側(cè)開始依次層疊純銀膜561及銀合金膜562而成， 可動鏡片57通過從第二基板52側(cè)開始依次層疊純銀膜571及銀合金膜572而成。因此， 在固定鏡片56及可動鏡片57的形成當(dāng)中，能夠緊隨純銀膜561、571的形成之后進(jìn)行銀合金膜562、572的形成。即在成膜純銀膜561、571后，不使其暴露在空氣中而是轉(zhuǎn)而形成銀合金膜562、572以連續(xù)成膜。這樣，由于防止了純銀膜561、571在空氣中暴露，所以能抑制固定鏡片56及可動鏡片57的反射率的下降。(3-1-2. —對基板的結(jié)構(gòu))作為一對基板的第一基板51及第二基板52，可以分別通過例如鈉玻璃、結(jié)晶性玻璃、石英玻璃、鉛玻璃、鉀玻璃、硼硅酸玻璃、無堿玻璃等各種玻璃或水晶等形成。其中，作為一對基板的構(gòu)成材料，優(yōu)選含有例如鈉(Na)或鉀(K)等堿金屬的玻璃，通過用這樣的玻璃形成第一基板51及第二基板52，能夠提高后述的作為一對反射膜的固定鏡片56及可動鏡片57的緊貼性、各電極的緊貼性、或者基板間的接合強(qiáng)度。另外，由于玻璃的可見光透射特性良好，如本實施方式所述，在測定被檢查對象A的顏色的情況下，能抑制第一基板51及第二基板52中的光的吸收，從而適于測色處理。而且，通過用接合膜53接合沿外周緣形成的接合面514、5M來一體地構(gòu)成第一基板51及第二基板52。作為接合膜53，例如有等離子體聚合膜。第一基板51通過蝕刻加工厚度例如形成為500 μ m的玻璃基材來形成。具體而言， 如圖3所示，在第一基板51上通過蝕刻形成電極形成槽511及鏡片固定部512。在從基板厚度方向觀察標(biāo)準(zhǔn)具5的俯視圖(以下稱標(biāo)準(zhǔn)具俯視圖)中，電極形成槽511被形成為以平面中心點為中心的圓形。如圖3所示，鏡片固定部512被形成為從電極形成槽511的中心部向第二基板52側(cè)突出。電極形成槽511中，從鏡片固定部512的外周緣至電極形成槽511的內(nèi)周壁面之間形成環(huán)狀的電極固定面511A，該電極固定面511A上形成前述的第一位移用電極Ml。該第一位移用電極541通過固定電極引出配線MlA及未圖示的外部配線與電壓控制單元6 連接。該固定電極引出配線MlA通過形成于接合面514與接合面5M之間的固定電極引出部MlB與外部配線連接。如上所述，鏡片固定部512與電極形成槽511同軸，被形成為直徑尺寸比電極形成槽511小的圓柱狀。此外，在本實施方式中，如圖3所示，鏡片固定部512的與第二基板52 相對的鏡片固定面512A被形成為比電極固定面511A更接近第二基板52。而且，第一基板51在與第二基板52相對的上面和相反側(cè)的下面中對應(yīng)于固定鏡片56的位置上形成了略去圖示的防反射膜(AR)。該防反射膜通過交替地層疊低折射率膜及高折射率膜而形成，能使第一基板51的表面上的可見光的反射率下降從而增大透射率。
第二基板52通過蝕刻加工厚度尺寸例如形成為200 μ m的玻璃基板而形成。具體而言，在如圖2所示的俯視圖中，第二基板52具有以基板中心點為中心的圓形的可動部521以及與可動部521同軸并保持可動部521的連接保持部522。該連接保持部522的外周徑尺寸被形成為與第一基板51的電極形成槽511的外周徑(外徑)尺寸相同?？蓜硬?21被形成為比連接保持部522的厚度尺寸大，例如在本實施方式中，被形成為與第二基板52的厚度尺寸為相同尺寸的200 μ m。另外，可動部521在第一基板51的相反側(cè)的上面形成略去圖示的防反射膜(AR)。 該防反射膜具有與第一基板51上形成的防反射膜相同的結(jié)構(gòu)，通過交替地層疊低折射率膜及高折射率膜而形成。連接保持部522是包圍可動部521的周圍的隔板，例如厚度尺寸被形成為50 μ m。 在該連接保持部522的與第一基板51相對的面上環(huán)狀地形成前述第二位移用電極M2。第二位移用電極討2隔著大約1 μ m的電磁間隙與第一位移用電極541相對。該第二位移用電極542經(jīng)由可動電極引出配線討2々及未圖示的外部配線與電壓控制單元6連接。該可動電極引出配線M2A通過形成于接合面514與接合面5M之間的可動電極引出部M2B與外部配線連接。通過該第二位移用電極542及前述的第一位移用電極541構(gòu)成靜電致動器M。在標(biāo)準(zhǔn)具5中，通過向靜電致動器M施加指定電壓，在第一位移用電極541與第二位移用電極542之間產(chǎn)生靜電引力。通過該靜電引力使可動部521沿基板厚度方向移動， 第二基板52變形，改變鏡片間間隙G的尺寸。這樣，通過調(diào)整施加的電壓來控制第一位移用電極及第二位移用電極M1542間產(chǎn)生的靜電引力，控制鏡片間間隙G的尺寸變化從而能選擇從檢查對象光中分光的光。4.控制裝置的結(jié)構(gòu)接著，回到圖1，說明控制裝置4的結(jié)構(gòu)。控制裝置4控制測色裝置1的整體動作。作為該控制裝置4，可以用例如通用個人計算機(jī)、移動信息終端以及測色專用計算機(jī)等。而且，如圖1所示，控制裝置4被構(gòu)成為具有光源控制部41、測色傳感器控制部42 以及測色處理部43 (本發(fā)明的處理部)等。光源控制部41與光源裝置2連接。而且，光源控制部41根據(jù)例如使用者的設(shè)定輸入向光源裝置2輸出指定的控制信號，以從光源裝置2射出指定亮度的白色光。測色傳感器控制部42與測色傳感器3連接。而且，測色傳感器控制部42根據(jù)例如使用者的設(shè)定輸入來設(shè)定測色傳感器3接收的光的波長，并向測色傳感器3輸出內(nèi)容為檢測該波長的光的受光量的控制信號。于是，測色傳感器3的電壓控制單元6根據(jù)控制信號設(shè)定對靜電致動器M施加的電壓，以僅透過使用者期望的光的波長。測色處理部43控制測色傳感器控制部42，改變標(biāo)準(zhǔn)具5的反射膜間間隙從而使透過標(biāo)準(zhǔn)具5的光的波長變化。另外，測色處理部43根據(jù)從檢測部31輸入的受光信號取得透過標(biāo)準(zhǔn)具5的光的光量。而且，測色處理部43基于如上所述地獲得的各波長的光的受光量計算被檢查對象A反射的光的色度。
5.標(biāo)準(zhǔn)具的制造方法第一基板51的鏡片固定部512等以及第二基板52的可動部521等通過對作為制造素材的玻璃基板實施蝕刻加工而形成。對于蝕刻加工后的第一基板51，在成膜純銀膜561后，不是暴露在空氣中，而是在純銀膜561上用濺射法形成銀合金膜562。同樣地，對于蝕刻加工后的第二基板52，在成膜純銀膜571后，不是暴露在空氣中，而是用濺射法形成銀合金膜572。于是形成固定鏡片56 及可動鏡片57。將濺射成膜后的固定鏡片56及可動鏡片57圖案化為期望形狀的圖案化處理中使用濕蝕刻法。在濕蝕刻法中實施例如以下的處理。(A)以期望的圖案在銀合金膜562、572上形成作為蝕刻掩膜的抗蝕掩膜。在硬化抗蝕劑時合金膜暴露在高溫下。此時，由于純銀膜561、571被銀合金膜562、572覆蓋，故沒有暴露在高溫氣體中。(B)用有機(jī)抗蝕劑剝離液剝離抗蝕膜。此時，銀合金膜562、572暴露在有機(jī)溶劑中。此時，由于純銀膜561、571被銀合金膜562、572覆蓋，故沒有暴露在有機(jī)溶劑中。由于銀合金膜562、572被暴露在這樣的狀況中，所以銀合金膜562、572需要有耐高溫性或耐有機(jī)溶劑性。此外，銀合金膜562、572需要有耐高溫高濕性、耐硫化性、耐鹵性等各種耐性。以下，存在將標(biāo)準(zhǔn)具的制造工序中的銀合金膜562、572所需要的耐性統(tǒng)稱為耐處理性的情況，特別地存在將圖案化工序中的合金膜需要的耐性稱為耐圖案化處理性的情況。經(jīng)過這樣的濕蝕刻加工，在第一基板51及第二基板52上分別形成了固定鏡片56 及可動鏡片57。隨后，使第一基板51及第二基板52接合，得到標(biāo)準(zhǔn)具5。在接合工序中，例如分別在接合面514、5M上成膜等離子體聚合膜，并通過粘合該等離子體聚合膜來接合第一基板 51與第二基板52。6.第一實施方式的作用效果由于標(biāo)準(zhǔn)具5中固定鏡片56及可動鏡片57都包含純銀膜561、571與銀合金膜 562、572，因此，與僅用銀合金膜構(gòu)成固定鏡片及可動鏡片的情況相比，能提高反射率。然而，由于對純銀膜561、571層疊了耐高溫性或耐處理性比純銀更好的銀合金膜562、572，所以純銀膜561、571的表面被銀合金膜562、572覆蓋。故與僅用純銀膜構(gòu)成固定鏡片及可動鏡片的情況相比，處理加工或隨時間變化所引起的反射率下降變小，抑制了標(biāo)準(zhǔn)具5的性能下降。另外，標(biāo)準(zhǔn)具5的固定鏡片56及可動鏡片57的厚度為30nm以上SOnm以下，且銀合金膜562、572的厚度為IOnm以上。因此，固定鏡片56及可動鏡片57的膜厚不會過厚， 從而可抑制透射率的下降并防止干涉濾光片的性能下降。另外，由于固定鏡片56及可動鏡片57因銀合金膜562、572而具備耐高溫性或耐處理性，所以處理后或隨時間變化所引起的反射率及透射率的變化也得到抑制。結(jié)果，抑制了標(biāo)準(zhǔn)具5的反射膜所需要的光的反射及透過這兩個特性的下降。而且，由于標(biāo)準(zhǔn)具5的銀合金膜562、572的組成在前述的范圍內(nèi)，故因處理加工或隨時間變化而引起的反射率下降變得更小，更可靠地抑制了標(biāo)準(zhǔn)具5的性能下降。
第二實施方式接著，說明本發(fā)明涉及的第二實施方式。這里，為省略或簡化說明，用相同的符號標(biāo)記第二實施方式的說明中與第一實施方式相同的結(jié)構(gòu)要素。第二實施方式中，在標(biāo)準(zhǔn)具5A的固定鏡片56及可動鏡片57包含介電膜563、573、 純銀膜561、571以及銀合金膜562、572這一點上與第一實施方式的標(biāo)準(zhǔn)具5不同。銀合金膜562、572是第一實施方式所示的Ag-Sm-Cu合金膜、Ag-Bi-Nd合金膜、Ag-Au合金膜、 Ag-Cu合金膜、Ag-Au-Cu合金膜、Ag-Si-Cu合金膜、Ag-P-Cu合金膜、Ag-P-In-Cu合金膜、 Ag-Te-Cu合金膜、Ag-Ga-Cu合金膜、Ag-h-Sn合金膜的任一種。如圖4所示，在第一基板51上，從第一基板51開始依次設(shè)置介電膜563、純銀膜 561及銀合金膜562。即介電膜563設(shè)置在第一基板51與純銀膜561之間。同樣地，在第二基板52中，從第二基板52開始依次設(shè)置介電膜573、純銀膜571及銀合金膜572。即介電膜573設(shè)置在第二基板52與純銀膜571之間。介電膜563、573是氧化鈦(TiO2)的單層膜，或者是層疊了氧化鈦(TiO2)或五氧化鉭(Ta2O5)的層與氧化硅(SiO2)或氟化鎂(MgF2)的層而得的多層膜。若是后者的介電體多層膜的情況，層疊高折射率材料(TiOyTii2O5)的層與低折射率材料(Si02、MgF2)的層。基于需要的光學(xué)特性適當(dāng)?shù)卦O(shè)定單層膜或者多層膜的各層的厚度與層數(shù)。第二實施方式的作用效果根據(jù)第二實施方式涉及的標(biāo)準(zhǔn)具5A，由于固定鏡片56及可動鏡片57通過層疊上述的介電膜563、573，純銀膜561、571及銀合金膜562、572而構(gòu)成，與如第一實施方式那樣僅由純銀膜561、571及銀合金膜562、572構(gòu)成的情況相比，可見光范圍的短波長側(cè)的反射率提高。結(jié)果，能進(jìn)一步擴(kuò)大表現(xiàn)出高反射率的波長區(qū)域，從而能得到具備在整個可見光范圍內(nèi)具有高反射率的固定鏡片56及可動鏡片57的標(biāo)準(zhǔn)具5A。另外，由于介電膜563、573與純銀膜561、571的緊貼性良好，與玻璃基板的緊貼性也比純銀膜561、571好，抑制因貼緊力不足而引起的標(biāo)準(zhǔn)具5A的性能下降。第三實施方式接著說明本發(fā)明涉及的第三實施方式。這里，為省略或簡化說明，用相同的符號標(biāo)記第三實施方式的說明中與第一實施方式及第二實施方式相同的結(jié)構(gòu)要素。在第三實施方式中，在標(biāo)準(zhǔn)具5B的固定鏡片56及可動鏡片57除了介電膜563、 573，純銀膜561、571及銀合金膜562、572以外還包含保護(hù)膜564、574這一點上，與第一實施方式的標(biāo)準(zhǔn)具5及第二實施方式的標(biāo)準(zhǔn)具5A不同。銀合金膜562、572是第一實施方式所示的Ag-Sm-Cu合金膜、Ag-Bi-Nd合金膜、Ag-Au合金膜、Ag-Cu合金膜、Ag-Au-Cu合金膜、Ag-Si-Cu 合金膜、Ag-P-Cu 合金膜、Ag-P-In-Cu 合金膜、Ag-Te-Cu 合金膜、Ag-Ga-Cu 合金膜、Ag-h-Sn合金膜的任一種。介電膜563、573與第二實施方式所示的相同。如圖5所示，在第一基板51上，從第一基板51開始依次設(shè)置介電膜563、純銀膜 561、銀合金膜562及保護(hù)膜564。即保護(hù)膜564相對于銀合金膜562設(shè)置在純銀膜561的相反側(cè)。同樣地，在第二基板52中，從第二基板52開始依次設(shè)置介電膜573、純銀膜571、 銀合金膜572、保護(hù)膜574。保護(hù)膜574相對于銀合金膜572設(shè)置在純銀膜571的相反側(cè)。
保護(hù)膜564、574含有氧化硅(SiO2)、氮氧化硅(SiON)、氮化硅(SiN)、ΙΤ0或鋁。保護(hù)膜564、574的厚度優(yōu)選為IOnm以上20nm以下。通過設(shè)定在這樣的范圍內(nèi)，能夠不降低反射率及透射率并保護(hù)固定鏡片56及可動鏡片57。此外，若進(jìn)一步增大保護(hù)膜564、574的厚度，雖然純銀膜561、571的各種耐性有所提高，但也會成為反射率及透射率下降的主要因素。因此，在形成保護(hù)膜564、574的情況下，為了不降低反射率及透射率并賦予其各種耐性，期望不使保護(hù)膜過厚地層疊純銀膜 561,571與銀合金膜562,5720第三實施方式的作用效果根據(jù)第三實施方式涉及的標(biāo)準(zhǔn)具5Β，利用保護(hù)膜564、574來保護(hù)介電膜563、573、 純銀膜561、571及銀合金膜562、572，所以處理加工或隨時間變化所引起的純銀膜561、571 及銀合金膜562、572的反射率下降被抑制，從而更可靠地防止干涉濾光片的性能下降。其他的實施方式此外，本發(fā)明并不限定于前述的實施方式，在能達(dá)到本發(fā)明的目的的范圍內(nèi)的變形、改良等都包含在本發(fā)明中。在上述實施方式中例示了俯視正方形的標(biāo)準(zhǔn)具，但不限于此，也可形成為例如俯視圓形、俯視多邊形。另外，也可不用相同的銀合金膜形成固定鏡片56及可動鏡片57。例如，可以設(shè)固定鏡片56側(cè)的銀合金膜562為Ag-Sm-Cu合金膜，可動鏡片57側(cè)的銀合金膜572為 Ag-Bi-Nd合金膜。而且，在上述實施方式中，雖然以標(biāo)準(zhǔn)具5作為波長可變干涉濾光片進(jìn)行了說明， 但并不限于此。即使對不改變鏡片間的間隙的大小的干涉濾光片也能適用由上述合金膜形成的一對鏡片。另外，電極固定面511Α及鏡片固定面512Α的高度位置，是根據(jù)固定在鏡片固定面 512Α上的固定鏡片56及形成在第二基板52上的可動鏡片57之間的鏡片間間隙G的尺寸、 第一位移用電極541及第二位移用電極542之間的尺寸、固定鏡片56或可動鏡片57的厚度尺寸來適當(dāng)設(shè)定的，并不限于上述實施方式那樣的結(jié)構(gòu)。例如在固定鏡片56及可動鏡片 57中包含介電體多層膜從而其厚度尺寸增大的情況下，也可以是將電極固定面511Α與鏡片固定面512Α形成在同一面上的結(jié)構(gòu)，或者是在電極固定面511Α的中心部形成圓柱凹槽狀的鏡片固定槽并在該鏡片固定槽的底面形成鏡片固定面512Α的結(jié)構(gòu)等。在上述實施方式中，例示了對第一位移用電極541設(shè)置一對引出電極的結(jié)構(gòu)，但并不限于此。還可進(jìn)一步增設(shè)引出電極。在此情況下，可將兩個引出電極中的一個用作向第一位移用電極541施加電壓的電壓施加用端子，另一個用作檢測第一位移用電極Ml中保持的電荷的電荷檢測用端子。這對于第二位移用電極542也是同樣的。另外，在上述實施方式中，例示了能通過靜電致動器M調(diào)整鏡片間間隙G的標(biāo)準(zhǔn)具5的結(jié)構(gòu)，但也可構(gòu)成為通過其他的驅(qū)動部件調(diào)整鏡片間間隙G。例如可構(gòu)成為在第二基板52的第一基板51的相反側(cè)設(shè)置通過斥力按壓第二基板52的靜電致動器或壓電部件。而且，不限于對上述第三實施方式中說明的基板層疊介電膜、純銀膜、銀合金膜及保護(hù)膜而得的結(jié)構(gòu)，也可以是不設(shè)置介電膜并對基板層疊純銀膜、銀合金膜及保護(hù)膜的結(jié)構(gòu)。
此外，實施本發(fā)明時的具體構(gòu)造及次序在能達(dá)到本發(fā)明的目的的范圍內(nèi)能做適當(dāng)?shù)母淖儭嵤├又?，舉例說明上述合金膜的耐高溫性或耐處理性，以更詳細(xì)地說明本發(fā)明，但本發(fā)明并不受這些例子所述的內(nèi)容的任何限制。1.耐高溫性1-1首先，評價純銀膜及銀合金膜的耐高溫性。比較作為實施例的層疊純銀膜與銀合金膜的情況(實施例1、幻以及作為比較例的用純銀膜形成的單層的情況(比較例1)和用銀合金膜形成的單層的情況(比較例2 4)。 使用純銀膜用的靶材料及具有如下所示的合金組成的銀合金膜用的靶材料，在平滑的玻璃基板上通過濺射法成膜純銀膜及銀合金膜。Ag-C 含有5. 0原子％ C，剩余部分實際上是Ag ；Ag-Sm-Cu 含有0. 5原子％ Sm，含有0. 5原子％ Cu，剩余部分實際上是Ag ；Ag-Bi-Nd 含有1. 0原子％ Bi，含有0. 5原子％ Nd，剩余部分實際上是Ag。設(shè)單層的情況下膜的厚度為40nm。至于層疊的情況下的膜的厚度，純銀膜的厚度為30nm，銀合金膜的厚度為lOnm。作為耐高溫性，通過對純銀膜、上述合金膜及層疊膜比較成膜后初期的反射率以及在大氣環(huán)境下實施250°C、1小時的加熱處理后(高溫試驗后)的反射率來進(jìn)行。使用分光測色計測定作為可見光范圍的波長400nm以上700nm以下的反射率。表1中示出400nm、550nm及700nm中的純銀膜、上述合金膜及層疊膜的初期反射率(單位％)及加熱處理后的反射率(單位％)。而且表1中將從初期反射率減去高溫試驗后的反射率的值作為反射率的變化量(減少量)(單位％)示出。此外，在以下所述的表中的膜結(jié)構(gòu)中，設(shè)例如(純銀)/(Ag-Sm-Cu)表示層疊純銀膜與Ag-Sm-Cu合金膜而成的膜。其他表中與此相同。表權(quán)利要求
1.一種干涉濾光片，其特征在于，具有隔著間隙對置的2個反射膜以及支撐所述反射膜的基板，其中，所述反射膜包含純銀膜及銀合金膜，在所述基板上，從所述基板側(cè)開始依次設(shè)置所述純銀膜及所述銀合金膜， 所述銀合金膜是含有銀(Ag)、釤(Sm)及銅(Cu)的Ag-Sm-Cu合金膜，或者是含有銀 (Ag)、鉍(Bi)及釹(Nd)的 Ag-Bi-Nd 合金膜。
2.一種干涉濾光片，其特征在于，具有隔著間隙對置的2個反射膜以及支撐所述反射膜的基板，其中，所述反射膜包含純銀膜與銀合金膜，在所述基板上，從所述基板側(cè)開始依次設(shè)置所述純銀膜及所述銀合金膜， 所述銀合金膜是以下的任一種含有銀(Ag)及金(Au)的Ag-Au合金膜、含有銀(Ag) 及銅(Cu)的Ag-Cu合金膜、含有銀(Ag)、金(Au)及銅(Cu)的Ag-Au-Cu合金膜、含有銀 (Ag)、硅(Si)及銅(Cu)的Ag-Si-Cu合金膜、含有銀(Ag)、磷(P)及銅(Cu)的Ag-P-Cu合金膜、含有銀(Ag)、磷(P)、銦(In)及銅(Cu)的Ag-P-In-Cu合金膜、含有銀(Ag)、碲(Te) 及銅(Cu)的Ag-Te-Cu合金膜、含有銀(Ag)、鎵(Ga)及銅(Cu)的Ag-Ga-Cu合金膜以及含有銀(Ag)、銦(In)及錫(Sn)的Ag-In-Sn合金膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的干涉濾光片，其特征在于， 所述反射膜的厚度為30nm以上SOnm以下，所述銀合金膜的厚度為IOnm以上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的干涉濾光片，其特征在于， 所述銀合金膜是Ag-Sm-Cu合金膜，所述Ag-Sm-Cu合金膜中，Sm的含量為0. 1原子％以上0. 5原子％以下，Cu的含量為 0. 1原子％以上0.5原子％以下，Sm及Cu的合計含量為1原子％以下。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的干涉濾光片，其特征在于， 所述銀合金膜是所述Ag-Bi-Nd合金膜，所述Ag-Bi-Nd合金膜中，Bi的含量為0. 1原子％以上3原子％以下，Nd的含量為0. 1 原子％以上5原子％以下。
6.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的干涉濾光片，其特征在于，在所述銀合金膜是所述Ag-Au合金膜的情況下，Au的含量為0. 1原子％以上10原子％ 以下；在所述銀合金膜是所述Ag-Cu合金膜的情況下，Cu的含量為0. 1原子％以上10原子％ 以下；在所述銀合金膜是所述Ag-Au-Cu合金膜的情況下，Au的含量為0. 1原子％以上，Cu的含量為0. 1原子％以上，且Au及Cu的合計含量為10原子％以下；在所述銀合金膜是所述Ag-Si-Cu合金膜的情況下，Si的含量為0. 1原子％以上，Cu的含量為0. 1原子％以上，且Si及Cu的合計含量為10原子％以下；在所述銀合金膜是所述Ag-P-Cu合金膜的情況下，P的含量為0. 1原子％以上，Cu的含量為0. 1原子％以上，且P及Cu的合計含量為10原子％以下；在所述銀合金膜是所述Ag-P-In-Cu合金膜的情況下，P的含量為0. 1原子％以上，In的含量為0. 1原子％以上，Cu的含量為0. 1原子％以上，且PUn及Cu的合計含量為10原子％以下；在所述銀合金膜是所述Ag-Te-Cu合金膜的情況下，Te的含量為0. 1原子％以上，Cu的含量為0. 1原子％以上，且Te及Cu的合計含量為10原子％以下；在所述銀合金膜是所述Ag-Ga-Cu合金膜的情況下，( 的含量為0. 1原子％以上，Cu的含量為0. 1原子％以上，且( 及Cu的合計含量為10原子％以下；在所述銀合金膜是所述Ag-In-Sn的情況下，In的含量為0. 1原子％以上，Sn的含量為 0. 1原子％以上，且In及Sn的合計含量為10原子％以下。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6的任一項所述的干涉濾光片，其特征在于， 所述反射膜包含介電膜、所述純銀膜及所述銀合金膜，在所述基板上，從所述基板側(cè)開始依次設(shè)置所述介電膜、所述純銀膜及所述銀合金膜。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的干涉濾光片，其特征在于，所述介電膜是氧化鈦(TiO2)單層膜、或者是層疊了氧化鈦(TiO2)或五氧化鉭(Tii2O5) 的層與氧化硅(SiO2)或氟化鎂(MgF2)的層的多層膜。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的干涉濾光片，其特征在于， 所述反射膜包含所述介電膜、所述純銀膜、所述銀合金膜及保護(hù)膜，所述基板上，從所述基板側(cè)開始依次設(shè)置所述介電膜、所述純銀膜、所述銀合金膜及所述保護(hù)膜。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的干涉濾光片，其特征在于，所述保護(hù)膜含有氧化硅(SiO2)、氮氧化硅(SiON)、氮化硅(SiN)及氧化鋁中的任一種。
11.一種光模塊，其特征在于，具有權(quán)利要求1至10中的任一項所述的干涉濾光片；以及檢測通過該干涉濾光片提取的光的光量的檢測部。
12.—種分析裝置，其特征在于，具有 權(quán)利要求11所述的光模塊；以及根據(jù)所述檢測部檢測到的光的光量實施光分析處理的處理部。
13.一種干涉濾光片，其特征在于，具有 反射器；基板，支撐所述反射器，其中，在所述基板上，從所述基板側(cè)開始依次層疊純銀及銀合金作為所述反射器， 所述銀合金是含有銀(Ag)、釤(Sm)及銅(Cu)的Ag-Sm-Cu合金，或者是含有銀(Ag)、 鉍(Bi)及釹(Nd)的Ag-Bi-Nd合金。
14.一種干涉濾光片，其特征在于，具有 反射器；基板，支撐所述反射器，其中，在所述基板上，從所述基板側(cè)開始依次層疊純銀及銀合金作為所述反射器， 所述銀合金是以下的任一種含有銀(Ag)及金(Au)的Ag-Au合金、含有銀(Ag)及銅 (Cu)的Ag-Cu合金、含有銀(Ag)、金(Au)及銅(Cu)的Ag-Au-Cu合金、含有銀(Ag)、硅(Si) 及銅(Cu)的Ag-Si-Cu合金、含有銀(Ag)、磷(P)及銅(Cu)的Ag-P-Cu合金、含有銀(Ag)、磷(P)、銦(In)及銅(Cu)的 Ag-P-In-Cu 合金、含有銀(Ag)、碲(Te)及銅(Cu)的 Ag-Te-Cu 合金、含有銀(Ag)、鎵(Ga)及銅(Cu)的Ag-Ga-Cu合金以及含有銀(Ag)JB (In)及錫(Sn) 的Ag-In-Sn合金。
全文摘要
本發(fā)明提供一種干涉濾光片、光模塊及分析裝置。該干涉濾光片的特征在于，包括隔著間隙對置的2個反射膜以及支撐所述反射膜的基板，其中，所述反射膜包含純銀膜及銀合金膜，在所述基板上，從所述基板側(cè)開始依次設(shè)置所述純銀膜及所述銀合金膜，所述銀合金膜是含有銀(Ag)、釤(Sm)及銅(Cu)的Ag-Sm-Cu合金膜，或者是含有銀(Ag)、鉍(Bi)及釹(Nd)的Ag-Bi-Nd合金膜。
文檔編號G01N21/25GK102375173SQ201110237058
公開日2012年3月14日 申請日期2011年8月17日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月18日
發(fā)明者北原浩司, 新東晉 申請人:精工愛普生株式會社