專利名稱：粒度分布測定裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種粒度分布測定裝置。
背景技術：
以往，此類的粒度分布測定裝置在粒度分布測定時，用于判斷用于設定測定條件的設定項目(例如，試樣的循環(huán)速度和超聲波的施加時間等)及測定結果是否妥當?shù)膮?shù) (例如，平均粒徑、眾數(shù)徑(mode diameter)等粒度等)非常多。因此，對試樣設定最佳的測定條件以及對該測定條件進行評價是極其困難的。其中，作為使用于設定測定條件的設定項目的輸入容易的方法，如專利文獻1所示，公開了一種方法，對各設定項目按照每一個設定項目進行引導顯示，操作員根據(jù)該引導顯示設定最適合的測定條件，從而能夠進行粒度分布測定。但是，即使把測定條件的設定項目的輸入簡單化，該測定條件對于試樣是否是最佳的，也例如必須要根據(jù)所述測定條件與包含平均粒徑、眾數(shù)徑等粒度的測定結果的關系來進行判斷。因此，仍然存在為了得到最佳的測定結果需要不斷摸索地設定測定條件，并且該設定也是困難的問題。專利文獻1 日本專利公開公報特開2003-194702號。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于所述問題，本發(fā)明所要解決的主要問題在于使測定條件的評價變得容易，該測定條件的評價用于對各試樣設定最佳的測定條件。S卩，本發(fā)明的粒度分布測定裝置包括裝置主體，進行試樣的粒度分布測定；以及界面設備，接收來自操作員的輸入并對所述裝置主體進行驅(qū)動控制，并且接收來自所述裝置主體的測定結果并進行顯示，所述界面設備用圖表示用于進行粒度分布測定所應該設定的操作參數(shù)的值與對應于所述操作參數(shù)的各值的、利用所述裝置主體的測定結果得到的評價參數(shù)的值的關系。其中，操作參數(shù)是操作員進行輸入操作應該輸入的參數(shù)，包括測定條件參數(shù)，決定用于進行粒度分布測定的裝置主體的測定條件；以及計算條件參數(shù)，用于計算測定結果。 測定條件參數(shù)例如是試樣的循環(huán)速度、超聲波振蕩器的動作時間(超聲波的施加時間)、超聲波的強度、數(shù)據(jù)的獲取次數(shù)、測定中的超聲波振蕩器是否動作以及試樣濃度等，計算條件參數(shù)例如是試樣(粒子、溶劑)的折射率等。此外，評價參數(shù)是用于判斷測定條件對于各試樣是否是最佳的，評價參數(shù)例如是平均粒徑、中值粒徑和眾數(shù)徑等粒度；粒度分布的標準偏差；粒度分布的殘差平方和以及分布函數(shù)(例如，具有規(guī)定粒度的粒子的比例)等。按照所述的粒度分布測定裝置，通過將操作參數(shù)的值與對應于所述操作參數(shù)的各值的評價參數(shù)的值的關系用圖表示，根據(jù)在圖上顯示的評價參數(shù)的值，能夠容易地評價哪個操作參數(shù)的值是最佳的。因此，對各個操作參數(shù)按照每一個操作參數(shù)用圖表示每個操作參數(shù)與評價參數(shù)之間關系，根據(jù)評價參數(shù)的值來選擇各操作參數(shù)的最佳值，從而可以容易地設定每個試樣的最佳的測定條件。此外，優(yōu)選的是，所述界面設備能夠改變用圖表示的所述操作參數(shù)的種類和/或所述評價參數(shù)的種類。按照所述構成，通過改變操作參數(shù)的種類，無需對各個操作參數(shù)按照每一個操作參數(shù)來顯示圖，從而可以減少畫面上顯示的圖的數(shù)量，提高易辨認性。此外，通過改變評價參數(shù)，可以對各操作參數(shù)按照每一個操作參數(shù)顯示操作參數(shù)與容易評價的評價參數(shù)之間的關系，從而可以便于選擇最佳值。此外，優(yōu)選的是，所述界面設備在同一個畫面上顯示來自所述裝置主體的測定結果及所述圖，使得能夠邊掌握測定結果的整體邊進行操作參數(shù)的評價，從而使操作員進行的評價變得容易。按照本發(fā)明的所述構成，可以使測定條件的評價變得容易，該測定條件的評價用于決定對各試樣的最佳的測定條件。


圖1是表示本發(fā)明的一個實施方式的粒度分布測定裝置的整體和界面設備的功能部件的概要圖。圖2是表示所述實施方式的裝置主體的各部分的裝置主體概要圖。圖3是所述實施方式的信息處理裝置的硬件結構圖。圖4是表示所述實施方式的圖概要(graph summary)顯示畫面的圖。圖5是表示所述實施方式的測定結果圖顯示畫面(粒度分布圖)的圖。圖6是表示所述實施方式的評價用圖顯示畫面(百分比粒徑圖)的圖。圖7是表示所述實施方式的評價用圖顯示畫面(殘差參數(shù)圖)的圖。圖8是表示變形實施方式的評價用圖的圖。附圖標記說明1…粒度分布測定裝置2…裝置主體3…界面設備Gl…測定結果圖G2、G3…評價用圖
具體實施例方式下面，參照附圖對本發(fā)明的粒度分布測定裝置的一個實施方式進行說明。本實施方式的粒度分布測定裝置1包括裝置主體2，測定對試樣照射光時產(chǎn)生的衍射光和散射光的強度的角度分布與波動，并根據(jù)多普勒原理和MIE散射理論對得到的測定結果進行計算，從而測定試樣中所含有的粒子群的粒度分布，并進行實際測定所涉及的各種處理；以及界面設備3，以可以通信的方式與所述裝置主體2相連，控制所述裝置主體 2的所述各種處理的內(nèi)容及處理步驟，并且接收來自所述裝置主體2的測定結果并進行顯示。首先，對裝置主體2的各部分進行說明。如圖2所示，裝置主體2具備試樣池21，內(nèi)部分散有作為測定對象的粒子群；作為光源的半導體激光器23，通過透鏡22對所述粒子群照射光；多個檢測器對，檢測透射過試樣池21的透射光以及在試樣池21衍射和/或散射的衍射散射光的強度分布；以及專用的主體一側(cè)計算機，至少根據(jù)從各檢測器M輸出的光強度信號計算粒度分布、對所述裝置主體2內(nèi)的所述各設備進行監(jiān)視和控制、或者與所述界面設備3之間進行各種數(shù)據(jù)的發(fā)送或接收，裝置主體2是所謂的衍射、散射式的裝置。試樣池21是用于容納將作為測定對象的粒子群分散在水等分散介質(zhì)中而構成的試樣的透明的部件，試樣池21由未圖示的試樣池托架等以可以裝拆的方式安裝在試樣池容納室(未圖示)的規(guī)定位置。在本實施方式中，所述試樣池21采用循環(huán)濕式型的，設置在未圖示的試樣循環(huán)流道上。在該試樣循環(huán)流道上設置有攪拌用電動機、循環(huán)泵、粒子群裝料口等(未圖示)，使試樣池21內(nèi)部的試樣循環(huán)。半導體激光器23發(fā)出相干光，并可以調(diào)節(jié)光軸和照射光的強度。檢測器M以多個分離的方式設置在半導體激光器23的光軸上以及在以試樣池21 為中心的、與光軸成規(guī)定角度范圍內(nèi)的例如同一圓周上。檢測器M檢測在光軸上直進的透射光及由試樣向各個角度散射的散射光的在每個角度的強度。各檢測器M輸出與入射光的強度對應的光強度信號。主體一側(cè)計算機是在結構上包括CPU、存儲器、A/D轉(zhuǎn)換器、I/O接口、通信接口等的專用計算機，根據(jù)在所述存儲器中存儲的規(guī)定程序，所述CPU和外圍設備進行動作，從而發(fā)揮作為主體一側(cè)控制部沈和主體一側(cè)發(fā)送或接收部25的功能。主體一側(cè)控制部沈具備解釋功能，解釋從后述的界面設備3發(fā)送來的指令；監(jiān)視控制功能，根據(jù)接收到的解釋結果等，對檢測器M、半導體激光器23、所述攪拌用電動機、循環(huán)泵等進行監(jiān)視、控制；以及粒度分布計算功能，接收從各檢測器M輸出的光強度信號，根據(jù)所得到的值按照以MIE散射理論為基礎的算法計算表示粒度分布的粒度分布數(shù)據(jù)寸。由所述通信接口構成主體一側(cè)發(fā)送或接收部25，該主體一側(cè)發(fā)送或接收部25從主體一側(cè)控制部26接收所述粒度分布數(shù)據(jù)，并向界面設備3發(fā)送；接收來自界面設備3的指令，并發(fā)送到所述主體一側(cè)控制部沈，用于進行半導體激光器23的光軸調(diào)節(jié)及所述攪拌用電動機的轉(zhuǎn)動控制等。接著，對界面設備3進行說明。界面設備3是例如個人計算機等通用計算機，如圖3所示，在結構上具備CPU301 ； 存儲器302 ；用于連接通信網(wǎng)絡和所述主體一側(cè)計算機的USB接口、調(diào)制解調(diào)器等通信接口 303 ；顯示器304 ；以及鼠標和鍵盤等輸入設備305等。把規(guī)定的程序安裝到所述存儲器302中，根據(jù)所述程序，CPU301和外圍設備協(xié)同動作，如圖1所示，界面設備3作為發(fā)送或接收部31、數(shù)據(jù)管理部32、顯示部33、參數(shù)數(shù)據(jù)存儲部34等發(fā)揮功能。下面，對發(fā)送或接收部31、數(shù)據(jù)管理部32、顯示部33、參數(shù)數(shù)據(jù)存儲部34進行說明。利用所述通信接口 303構成發(fā)送或接收部31，在裝置主體2每次進行處理(步驟) 時，將構成所述步驟的一個或多個指令(構成步驟的處理要素(例如，通過對所述攪拌用電動機的轉(zhuǎn)數(shù)的設定和對所述循環(huán)泵的控制從而達成的對流速的設定等))與對應的參數(shù)一起發(fā)送給所述裝置主體2，并且接收表示所述裝置主體2根據(jù)發(fā)送來的所述指令進行的處理(步驟)的結果的結果數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)管理部32從發(fā)送或接收部31獲得在由操作員預先設定的初始的測定條件 (初始的參數(shù)值)下得到的測定結果數(shù)據(jù)，利用該測定結果數(shù)據(jù)，按照每個操作參數(shù)使所述各值變化，計算在各值下的測定結果數(shù)據(jù)。然后，向顯示部33輸出所述計算出的數(shù)據(jù)(表示操作參數(shù)的各值和對應于所述各值的評價參數(shù)的值)。此外，數(shù)據(jù)管理部32接收操作員通過操作輸入設備305輸入的操作參數(shù)的輸入值 (操作員選擇值)，并輸出到參數(shù)數(shù)據(jù)存儲部34，存儲在參數(shù)數(shù)據(jù)存儲部34中，或者在規(guī)定值已經(jīng)被存儲的情況下，將該規(guī)定值更新為所述操作員選擇值并存儲。另外，所述數(shù)據(jù)管理部32對各種數(shù)據(jù)進行下述管理，即從所述序列(sequence) 數(shù)據(jù)存儲部(未圖示)獲得由操作員選擇的或預先決定的序列數(shù)據(jù)；獲得在輸入畫面(未圖示)中所設定的參數(shù)的值并附加上指令；或者將在輸入畫面中新設定的序列數(shù)據(jù)新存儲或更新存儲在所述序列數(shù)據(jù)存儲部中，等等。其中，所述序列數(shù)據(jù)是表示裝置主體2進行的處理步驟的數(shù)據(jù)。參數(shù)數(shù)據(jù)存儲部34設置在存儲器302的規(guī)定區(qū)域，用于存儲表示所述操作員通過對輸入設備305的操作而輸入的操作參數(shù)的參數(shù)值的數(shù)據(jù)。詳細地說，參數(shù)數(shù)據(jù)存儲部34 使表示與各試樣對應的測定條件的操作參數(shù)的參數(shù)值與所述試樣對應進行存儲。例如，參數(shù)數(shù)據(jù)存儲部；34把試樣X的標識符附加在操作參數(shù)a的參數(shù)值a (X)、操作參數(shù)b的參數(shù)值 b (X)、操作參數(shù)c的參數(shù)值c (X)等參數(shù)值的組上作為對試樣X的操作條件進行存儲。操作參數(shù)是操作員進行輸入操作的參數(shù)，操作參數(shù)包括測定條件參數(shù)，決定用于進行粒度分布測定的裝置主體的測定條件；以及計算條件參數(shù)，用于計算測定結果。測定條件參數(shù)例如包括試樣的循環(huán)速度(循環(huán)泵速度)、超聲波振蕩器的動作時間(超聲波的施加時間)、超聲波的強度、測定時超聲波振蕩器是否動作、數(shù)據(jù)的獲取次數(shù)以及試樣濃度，等等。另外，所謂有關超聲波振蕩器是否動作的參數(shù)值是指“有動作”或“無動作”。另一方面，評價參數(shù)用于判斷測定條件對于各試樣是否是最佳的，評價參數(shù)例如包括平均粒徑、中值粒徑和眾數(shù)徑等粒度；粒度分布的標準偏差；粒度分布的殘差平方和；以及分布函數(shù)(例如，具有規(guī)定粒度的粒子的比例)等。顯示部33用于控制顯示器304，具有輸入畫面顯示功能(作為輸入畫面顯示部的功能)和結果顯示功能(作為結果顯示部的功能)等。輸入畫面顯示功能可以顯示用于輸入用于設定測定條件的所需要的參數(shù)的輸入畫面。結果顯示功能能夠以規(guī)定形式顯示從裝置主體2發(fā)送來的粒度分布數(shù)據(jù)等測定結果數(shù)據(jù)的內(nèi)容。在此，對結果顯示功能進行說明。顯示部33將通過從發(fā)送或接收部31獲得的測定結果數(shù)據(jù)得到的粒度分布圖在顯示器304的畫面上顯示，并且將根據(jù)所述測定結果數(shù)據(jù)得到的評價用圖在顯示器304的畫面上顯示。詳細地說，顯示部33可以切換地在顯示器304上顯示如圖4所示的一覽顯示粒度分布圖等測定結果圖Gl以及一個或多個評價用圖G2、G3的圖概要顯示畫面Wl ；如圖5 所示的單獨顯示測定結果圖Gl的測定結果圖顯示畫面W2 ；以及如圖6或圖7所示的單獨顯示評價用圖G2、G3的評價用圖顯示畫面W3、W4。本實施方式的評價用圖G2、G3是二維圖，把一個軸(例如橫軸)作為規(guī)定的操作參數(shù)，把另一個軸(例如縱軸)作為規(guī)定的評價參數(shù)，在操作參數(shù)的各值中，把與所述值對應的評價參數(shù)(例如粒徑)的計算值顯示在圖上，從而構成評價用圖G2、G3。圖概要顯示畫面Wl將一個測定結果圖(粒度分布圖)G1和兩個評價用圖G2、G3 一覽顯示在同一個畫面上。在圖概要顯示中顯示在左下方的評價用圖G2是表示粒度分布特性的二維圖，表示把橫軸作為折射率，把縱軸作為粒徑，顯示百分比粒徑(粒度D10、D50、 D90)的情況。即，在表示粒徑與通過部分累計量(通過分積算度)(％)的關系的粒度分布圖中，是對通過部分累計量為10% (粒度DlO (代表小粒徑))時的粒徑、通過部分累計量為50% (粒度D50(代表中值粒徑))時的粒徑、通過部分累計量為90% (粒度D90(代表大粒徑))時的粒徑分別按照指定的折射率計算出的結果。通過在粒度D10、粒度D50、粒度 D90對粒徑的值進行比較，可以評價哪個折射率適合。通過部分累計量(％)的值優(yōu)選的是 10<%、50%、90%，但不限于此，也可以改變代表粒徑(在將粒度分布數(shù)據(jù)以累積分布圖形式表示時，在圖上的規(guī)定的各點的粒徑)，此外所述點的個數(shù)也不限于三點，也可以減少或進一步增加。另外，在右下方顯示的評價用圖G3是表示計算結果特性的二維圖，表示在把折射率表示為橫軸，把殘差平方和(R參數(shù))表示為縱軸的情況。殘差平方和表示在把X軸作為光強度分布、把Y軸作為粒度分布時，粒度分布值離根據(jù)回歸方程式求出的Y’的值的偏差， 所述值越小表示回歸方程式越適合。在本實施方式中，顯示所述兩個評價用圖G2、G3，是為了用于顯示評價性質(zhì)不同的圖。此外，操作員通過操作光標(鼠標指針等)，點擊未圖示的顯示切換按鈕，顯示部 33從顯示圖概要顯示畫面Wl切換到僅單獨地顯示在所述圖概要顯示畫面Wl上顯示的各圖 Gl G3。詳細地說，顯示部33從圖概要顯示畫面Wl (參照圖4)切換到測定結果圖顯示畫面W2 (參照圖5)、評價用圖顯示畫面W3、W4 (參照圖6或圖7)，并放大顯示所述測定結果圖 Gl或評價用圖G2、G3。另外，顯示部33構成為，在評價用圖G2中，可以改變操作參數(shù)的種類和評價參數(shù)的種類進行顯示。詳細地說，操作員通過對光標(鼠標指針等)進行操作，點擊未圖示的操作參數(shù)改變按鈕，按順序改變操作參數(shù)。此外，另一方面，操作員通過對光標(鼠標指針等) 進行操作，點擊未圖示的評價參數(shù)改變按鈕，按順序改變評價參數(shù)。另外，例如，也可以在操作參數(shù)的顯示改變和評價參數(shù)的顯示改變中，通過點擊參數(shù)改變按鈕，顯示可以選擇性地輸入多個參數(shù)名的下拉式明細表，可以從該下拉式明細表中選擇操作參數(shù)或評價參數(shù)。下面，對于利用本實施方式的粒度分布測定裝置1的測定條件的評定進行說明。首先，操作員在界面設備3的顯示器304上顯示的初始畫面(未圖示)上選擇序列等，進行所需的初始操作。然后，數(shù)據(jù)管理部32從序列數(shù)據(jù)存儲部34獲得由操作員選擇的序列數(shù)據(jù)。此外，當操作員使用輸入設備輸入在所述序列中應設定的各操作參數(shù)的初始值時，數(shù)據(jù)管理部32把該初始值附加在所述指令上。另外，附加在所述指令上的初始值是由操作員輸入的，但也可以是預先存儲在參數(shù)數(shù)據(jù)存儲部；34中的以前使用過的參數(shù)值。然后，發(fā)送或接收部31將附加有參數(shù)的所述指令發(fā)送給裝置主體2。在裝置主體2中，主體一側(cè)發(fā)送或接收部25接收發(fā)送來的所述指令等，主體一側(cè)控制部沈?qū)χ噶畹冗M行解釋，并監(jiān)視、控制檢測器M、半導體激光器23、所述攪拌用電動機以及循環(huán)泵等。此外，接收從各檢測器M輸出的光強度信號，并根據(jù)所述值，按照以MIE散射理論為基礎的算法至少計算出表示粒度分布的粒度分布數(shù)據(jù)。然后，將包含所述粒度分布數(shù)據(jù)的測定結果數(shù)據(jù)回復給界面設備3。接收到所述測定結果數(shù)據(jù)的發(fā)送或接收部31將所述測定結果數(shù)據(jù)向數(shù)據(jù)管理部 32和顯示部33輸出。于是，數(shù)據(jù)管理部32利用測定結果數(shù)據(jù)，使各操作參數(shù)的值在規(guī)定范圍內(nèi)變化， 計算所述各操作參數(shù)的值的評價參數(shù)的值。然后，把將各操作參數(shù)的各值與各評價參數(shù)的計算值取得關聯(lián)的計算數(shù)據(jù)向顯示部33輸出。然后，接收到測定結果數(shù)據(jù)和計算數(shù)據(jù)的顯示部33在圖概要顯示畫面Wl上顯示測定結果圖Gl和評價用圖G2、G3。此時，在圖概要顯示畫面Wl上顯示的測定結果圖Gl不限于粒度分布圖，也可以是其它的圖，例如表示各檢測器M的光強度的光強度分布圖，也可以使所述各圖可以切換地進行顯示。此外，評價用圖G2、G3可以適當?shù)剡x擇初始顯示的圖的種類。此外，如果操作員進行畫面顯示切換操作，則顯示部33在圖概要顯示畫面W1、測定結果圖顯示畫面W2或評價用圖顯示畫面W3、W4之間互相切換地進行顯示。根據(jù)圖概要顯示畫面Wl上的評價用圖G2、G3或單獨顯示的評價用圖G2、G3，操作員通過點擊評價參數(shù)改變按鈕，來改變評價參數(shù)的種類，并且將最佳的操作參數(shù)的值通過未圖示的輸入畫面輸入。所述被輸入的值通過數(shù)據(jù)管理部32存儲到參數(shù)數(shù)據(jù)存儲部34中。 接著，操作員通過點擊操作參數(shù)改變按鈕，顯示部33改變評價用圖G2、G3的橫軸的操作參數(shù)的種類并進行顯示。邊按照所述方式改變?nèi)康牟僮鲄?shù)，邊對各操作參數(shù)的每一個選擇最佳的值并輸入。然后，通過利用所述操作給每個試樣選擇各操作參數(shù)的最佳值，可以對每個試樣得出最佳的測定條件。按照所述方式得出的測定條件在下次以后的對應試樣的測定中，作為附加在序列的指令上的參數(shù)而被使用?！幢緦嵤┓绞降男Ч蛋凑杖缟纤鰳嫵傻谋緦嵤┓绞降牧６确植紲y定裝置1，通過用圖顯示操作參數(shù)的值與對應于該操作參數(shù)的各值的評價參數(shù)的值之間的關系，根據(jù)圖上顯示的評價參數(shù)的值，可以容易地評價哪個操作參數(shù)的值是最佳的。因此，對于各個操作參數(shù)用圖顯示該各個操作參數(shù)與評價參數(shù)的關系，并根據(jù)評價參數(shù)的值，選擇各操作參數(shù)的最佳值，從而對每個試樣可以容易地設定最佳的測定條件。<其它的變形實施方式>另外，本發(fā)明不限于所述實施方式。例如，在所述實施方式中，評價用圖是二維圖，此外，如圖8所示，也可以采取如下結構，例如對于兩個軸取不同種類的操作參數(shù)的值，對剩下的一個軸取評價參數(shù)的值。在這種情況下可以認為通過使三維圖的顯示角度可以改變，能夠使操作員容易評價。作為三維圖的三軸的設定也可以對兩個軸取不同的評價參數(shù)的值，對剩下的一個軸取操作參數(shù)的值。此外，如所述實施方式所述，在一個評價用圖上可以改變操作參數(shù)和/或評價參數(shù)的種類，但是也可以在一個評價用圖上不改變操作參數(shù)和/或評價參數(shù)，而是對各個操作參數(shù)和/或各個評價參數(shù)按照每個參數(shù)分別顯示評價用圖。
另外，在圖概要顯示畫面中，也可以顯示兩個以上不同的測定結果圖，評價用圖的數(shù)量也不限于兩個，可以是一個，也可以是三個以上。而且，在所述實施方式中，利用測定結果數(shù)據(jù)，通過在規(guī)定范圍內(nèi)改變操作參數(shù)的值，來計算評價參數(shù)的值，然而也可以通過將操作參數(shù)的值變化為一點或多點的代表值，來計算評價參數(shù)的值。而且，所述粒度分布測定裝置只要在整體上具備作為界面設備與裝置主體的功能即可，界面設備與裝置主體在物理上也可以是一體的，即使是分開成兩個或兩個以上的設備也可以起到與所述實施方式相同的作用效果。另外，本發(fā)明不限于所述實施方式，在不脫離所述主旨的范圍內(nèi)當然還可以進行各種變形。
權利要求
1.一種粒度分布測定裝置，其特征在于，該粒度分布測定裝置包括裝置主體，進行試樣的粒度分布測定；以及界面設備，接收來自操作員的輸入并對所述裝置主體進行驅(qū)動控制，并且接收來自所述裝置主體的測定結果并進行顯示，所述界面設備用圖表示用于進行粒度分布測定所應該設定的操作參數(shù)的值與對應于所述操作參數(shù)的各值的、利用所述裝置主體的測定結果得到的評價參數(shù)的值的關系。
2.根據(jù)權利要求1所述的粒度分布測定裝置，其特征在于，所述界面設備能夠改變用圖表示的所述操作參數(shù)的種類和/或所述評價參數(shù)的種類。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的粒度分布測定裝置，其特征在于，所述界面設備在同一個畫面上顯示來自所述裝置主體的測定結果及所述圖。
全文摘要
本發(fā)明提供一種粒度分布測定裝置，可以使測定條件的評價變得容易，該測定條件的評價用于對各個試樣設定最佳的測定條件。所述粒度分布測定裝置包括裝置主體，進行試樣的粒度分布測定；以及界面設備，接收來自操作員的輸入并對裝置主體進行驅(qū)動控制，并且接收來自裝置主體的測定結果并進行顯示，界面設備用圖表示用于進行粒度分布測定所應該設定的操作參數(shù)的值與對應于操作參數(shù)的各值的、利用裝置主體的測定結果得到的評價參數(shù)的值的關系。
文檔編號G01N15/02GK102192868SQ20111003578
公開日2011年9月21日 申請日期2011年2月10日 優(yōu)先權日2010年2月26日
發(fā)明者菅澤央昌 申請人:株式會社堀場制作所