專利名稱：光照測(cè)試裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種光照測(cè)試裝置，特別涉及一種測(cè)試光盤片對(duì)光照的耐久性的光照測(cè)試裝置。
背景技術(shù)：
近年來，使用光盤片來儲(chǔ)存資料已經(jīng)是越來越普及的資料儲(chǔ)存方式，相對(duì)而言，光盤片的生產(chǎn)量也越來越大，由此，光盤片的品質(zhì)便是大量生產(chǎn)的一個(gè)重要指標(biāo)；光盤片必須經(jīng)過多項(xiàng)嚴(yán)厲的環(huán)境測(cè)試，才能生產(chǎn)出品質(zhì)優(yōu)良的光盤片。光盤片的環(huán)境測(cè)試范圍很廣，例如耐沖擊性、重復(fù)讀寫性等，而其中一個(gè)重要的環(huán)境測(cè)試便是光照測(cè)試，其測(cè)試光盤片對(duì)光照的耐久性(light durability)測(cè)試。
在現(xiàn)有技術(shù)的光照測(cè)試中，通常僅利用簡(jiǎn)單的光照測(cè)試設(shè)備來進(jìn)行光盤片的光照測(cè)試；請(qǐng)參照?qǐng)D1所示，現(xiàn)有技術(shù)的光照測(cè)試設(shè)備1包括一支撐架11、數(shù)個(gè)光源12以及一承載部13，其中光源12設(shè)置在支撐架11上，并且與承載部13相對(duì)而設(shè)。
承上所述，當(dāng)利用現(xiàn)有技術(shù)的光照測(cè)試設(shè)備1進(jìn)行光盤片2的光照測(cè)試時(shí)，光盤片2設(shè)置于承載部13上，并以光源12發(fā)出的光來照射光盤片2。然而，由于支撐架11為一開放式的空間，因此在進(jìn)行光照測(cè)試的同時(shí)會(huì)受到光源12以外的環(huán)境光的干擾，例如，放置光照測(cè)試設(shè)備1的測(cè)試房間的燈光、從測(cè)試房間外照射進(jìn)來的燈光或陽光等，均會(huì)影響光照測(cè)試數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。
另外，由于光源12與承載部13相對(duì)而設(shè)，亦即是光源12所發(fā)出的光僅自上方照射承載部13，因此會(huì)造成承載部13上的數(shù)個(gè)光盤片2接收光照的角度不同，結(jié)果使得各光盤片2光照的程度不均勻，進(jìn)一步會(huì)影響光照測(cè)試的結(jié)果。
因此，如何提供一種能夠避免環(huán)境光的干擾、以及增加各光盤片照光的均勻度的光照測(cè)試裝置，實(shí)為目前最需改進(jìn)的課題之一。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于上述課題，本實(shí)用新型的目的在于提供一種能夠解決環(huán)境光干擾的光照測(cè)試裝置。
本實(shí)用新型的另一目的在于提供一種能夠提高光盤片的受光均勻度的光照測(cè)試裝置。
由此，為達(dá)上述目的，本實(shí)用新型的光照測(cè)試裝置包括一殼體以及數(shù)個(gè)光源。在本實(shí)用新型中，殼體是由數(shù)個(gè)正多邊形的殼面所組成；光源設(shè)置于由殼面所構(gòu)成的密閉空間中，且與待測(cè)試的數(shù)個(gè)光盤片分別設(shè)置于各殼面上，以用來進(jìn)行光盤片的光照測(cè)試。
承上所述，因依據(jù)本實(shí)用新型的光照測(cè)試設(shè)備具有一密閉空間，可阻擋環(huán)境光，進(jìn)而提升光照測(cè)試的數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性；另外，因依據(jù)本實(shí)用新型的光照測(cè)試設(shè)備為一正多而體，且于各殼面設(shè)置光源，所以各光盤片光照程度相同，因而能使光盤片受到均勻且相等的光照。


圖1為一示意圖，顯示現(xiàn)有技術(shù)的光照測(cè)試設(shè)備的示意圖；圖2為一示意圖，顯示依據(jù)本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的光照測(cè)試設(shè)備剖面圖的示意圖；以及圖3為一示意圖，顯示依據(jù)本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的光照測(cè)試設(shè)備展開圖的示意圖。
圖中符號(hào)說明1 光照測(cè)試設(shè)備11支撐架12光源13承載部2 光盤片3 光照測(cè)試裝置31殼面32光源33密閉空間具體實(shí)施方式
以下將參照相關(guān)附圖，說明依據(jù)本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的光照測(cè)試裝置，其中相同的組件將以相同的參照符號(hào)加以說明。
請(qǐng)參照?qǐng)D2所示，依據(jù)本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的光照測(cè)試裝置3包括數(shù)個(gè)正方形殼面31以及數(shù)個(gè)光源32。在本實(shí)施例中，六個(gè)正方形殼面31組成一密閉空間33，且六個(gè)光源32分別設(shè)置于密閉空間33中的六個(gè)正方形殼面31上。需注意者，本實(shí)施例所示的光照測(cè)試裝置3為一正立方體，除此之外，光照測(cè)試裝置3亦可以是其它類型的正多面體，例如為正四面體(圖中未顯示)；另外，若光照測(cè)試裝置3為正N面體，且N趨近于無限大，則光照測(cè)試裝置3為一圓球體。
本實(shí)施例的正方形殼面31可以為一反射面，使光盤片2不僅接收到光源32的光，更另外吸收到由殼面31所反射的光，以縮短光盤片2測(cè)試的時(shí)間。此外，正方形殼面31亦可以是吸光面，其能夠吸收光源32所發(fā)出的光，以避免光在密閉空間33中反射，因此能夠使測(cè)試更加穩(wěn)定。
本實(shí)施例的光源32可以是點(diǎn)光源，其能夠縮小光照測(cè)試裝置3的體積，或增加待測(cè)試光盤片2的數(shù)目。此外，光源32可為日光燈，可仿真日常的環(huán)境光對(duì)光盤片2的影響；光源32亦可為高能量的紫外光，以便加快光盤片2的測(cè)試時(shí)間。
為使本實(shí)用新型的內(nèi)容更容易理解，以下將參照?qǐng)D3說明依據(jù)本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的光照測(cè)試設(shè)備3的展開圖。
如圖3所示，光照測(cè)試設(shè)備3由六個(gè)正方形殼面31所組成，而各光源32對(duì)稱地設(shè)置于各殼面31上，亦即是分別于殼面31中心點(diǎn)上裝置光源32，在本實(shí)施例中其為相等亮度、相同大小的點(diǎn)光源，且將光盤片2分別放置于和光源32距離相等，且于正方形殼面31的對(duì)角線上(如圖所示)的位置。由于光照測(cè)試設(shè)備3為一正立方體，故各光盤片2與各光源32的相對(duì)應(yīng)位置與角度皆相同，請(qǐng)參照?qǐng)D2，因此各光盤片2所接收到來自各光源32的總光線照射量相同。
綜上所述，因依據(jù)本實(shí)用新型的光照測(cè)試設(shè)備為一密閉空間，可將環(huán)境光阻擋在殼面外，進(jìn)而能夠提高光照測(cè)試的數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性；另外，因依據(jù)本實(shí)用新型的光照測(cè)試設(shè)備為一正多面體，且將等亮度的光源設(shè)置于各殼面的中心點(diǎn)上，所以能使光盤片受到均勻且相等的光照，以便改善光照測(cè)試的準(zhǔn)確性。
以上所述僅為舉例性，而非為限制性者。任何未脫離本實(shí)用新型的精神與范疇，而對(duì)其進(jìn)行的等效修改或變更，均應(yīng)包含于所述的申請(qǐng)專利范圍中。
權(quán)利要求1.一種光照測(cè)試裝置，其用以測(cè)試數(shù)個(gè)光盤片，其特征在于，包含一殼體，其由數(shù)個(gè)正多邊形的殼面所構(gòu)成，且具有一密閉空間；以及數(shù)個(gè)光源，其設(shè)置于該密閉空間中，且分別設(shè)置于該等殼面，并面向該密閉空間的一側(cè)面上，而該等光盤片設(shè)置于該殼面的該側(cè)面上以進(jìn)行光照測(cè)試。
2.如權(quán)利要求1所述的光照測(cè)試裝置，其特征在于，該等光源分別對(duì)稱地設(shè)置于該等殼面上。
3.如權(quán)利要求1所述的光照測(cè)試裝置，其特征在于，該等光源具有相等亮度。
4.如權(quán)利要求1所述的光照測(cè)試裝置，其特征在于，各光源為一點(diǎn)光源。
5.如權(quán)利要求1所述的光照測(cè)試裝置，其特征在于，各光源為一日光燈。
6.如權(quán)利要求1所述的光照測(cè)試裝置，其特征在于，各光源為一紫外光源。
7.如權(quán)利要求1所述的光照測(cè)試裝置，其特征在于，各殼面的該側(cè)面為一反射面。
8.如權(quán)利要求1所述的光照測(cè)試裝置，其特征在于，各殼面的該側(cè)面為一吸光面。
9.如權(quán)利要求1所述的光照測(cè)試裝置，其特征在于，該殼體為正多面體。
10.如權(quán)利要求9所述的光照測(cè)試裝置，其特征在于，該殼體為正立方體、或圓球體。
專利摘要一種光照測(cè)試裝置，其用以測(cè)試數(shù)個(gè)光盤片，且包括一殼體及數(shù)個(gè)光源。其中，該殼體是由數(shù)個(gè)正多邊形的殼面所構(gòu)成，且形成一密閉空間；該等光源設(shè)置于密閉空間中，且分別設(shè)置于各殼面，并面向密閉空間的一側(cè)面上，而光盤片放置于各殼面的側(cè)面上，以便進(jìn)行光盤片的光照測(cè)試。該實(shí)用新型能夠避免環(huán)境光的干擾、以及增加各光盤片照光的均勻度的光照測(cè)試裝置，
文檔編號(hào)G01N17/00GK2639878SQ03204819
公開日2004年9月8日 申請(qǐng)日期2003年7月28日 優(yōu)先權(quán)日2003年7月28日
發(fā)明者賴昭平 申請(qǐng)人:精碟科技股份有限公司