本技術涉及閥門，具體涉及一種用于半導體設備的降壓閥。

背景技術：

1、降壓閥作為一種自動調壓裝置，能夠調節(jié)管道中的壓力，在一定的范圍內保持流體壓力的穩(wěn)定性；在相關技術中，現(xiàn)有的降壓閥在調節(jié)壓力過程中，通常是以恒定的壓力進行降壓，在需要微調壓力時，難以更為精確地進行調節(jié)，調節(jié)不方便。

技術實現(xiàn)思路

1、本實用新型旨在至少在一定程度上解決相關技術中的技術問題之一。為此，本實用新型的一個目的在于提出一種用于半導體設備的降壓閥，包括：

2、閥體，所述閥體具有第一內腔；

3、第一調節(jié)件，所述第一調節(jié)件可移動地設在所述第一內腔，以調節(jié)所述第一內腔的內腔壓力，且所述第一調節(jié)件包括第二內腔，所述第二內腔與所述第一內腔之間可相互連通或相互封閉，所述第一內腔的容積大于所述第二內腔的容積；

4、調節(jié)組件，所述調節(jié)組件設在所述閥體內，并與所述第二內腔相連，以調節(jié)所述第二內腔和所述第一內腔相互連通或相互封閉。

5、優(yōu)選地，所述閥體包括底殼和上殼，所述調節(jié)組件的一端設于所述底殼內，另一端設于所述上殼內。

6、優(yōu)選地，所述底殼的內周壁具有止擋部，且所述止擋部位于所述第一內腔的頂部，用于限制所述第一調節(jié)件的移動位置。

7、優(yōu)選地，所述第一調節(jié)件底部具有貫穿孔，所述貫穿孔將所述第一內腔和所述第二內腔相互導通。

8、優(yōu)選地，所述調節(jié)組件包括：

9、驅動件，所述驅動件設在所述上殼內；

10、第二調節(jié)件，所述第二調節(jié)件的一端與所述驅動件相連，另一端延伸至與所述第二內腔滑動連接。

11、優(yōu)選地，所述第二調節(jié)件包括：

12、連接桿，所述連接桿的一端與所述驅動件相連；

13、橡膠頭，所述橡膠頭設于所述連接桿的另一端，且所述橡膠頭與所述第二內腔過盈配合。

14、優(yōu)選地，所述上殼頂部設有操作件，所述操作件與所述第二調節(jié)件相連，用于驅動所述第二調節(jié)件軸向移動。

15、優(yōu)選地，所述底殼和所述上殼之間設有密封圈，所述密封圈用于密封所述底殼和所述上殼之間的間隙。

16、優(yōu)選地，所述底殼的底部設有輸入通道，且所述底殼的側面設有輸出通道，所述輸入通道和所述輸出通道共同連通于所述第一內腔。

17、本實用新型的上述方案至少包括以下有益效果：

18、本實用新型提供的用于半導體設備的降壓閥，在調節(jié)壓力時，可以通過調節(jié)組件帶動第一調節(jié)件移動，使第一調節(jié)件調節(jié)后可以降低第一內腔的壓力，在第一內腔的壓力降低至最低后，第一調節(jié)件可以被限位進而通過調節(jié)組件對第二內腔進行微調，使得第一內腔和第二內腔連通后的壓力可以共同降低，從而可以更精確地進行調節(jié)降壓，調節(jié)更簡單方便。

19、本實用新型的附加方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本實用新型的實踐了解到。

技術特征：

1.一種用于半導體設備的降壓閥，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權利要求1所述的用于半導體設備的降壓閥，其特征在于，所述閥體包括底殼和上殼，所述調節(jié)組件的一端設于所述底殼內，另一端設于所述上殼內。

3.根據(jù)權利要求2所述的用于半導體設備的降壓閥，其特征在于，所述底殼的內周壁具有止擋部，且所述止擋部位于所述第一內腔的頂部，用于限制所述第一調節(jié)件的移動位置。

4.根據(jù)權利要求2所述的用于半導體設備的降壓閥，其特征在于，所述第一調節(jié)件底部具有貫穿孔，所述貫穿孔將所述第一內腔和所述第二內腔相互導通。

5.根據(jù)權利要求2所述的用于半導體設備的降壓閥，其特征在于，所述調節(jié)組件包括：

6.根據(jù)權利要求5所述的用于半導體設備的降壓閥，其特征在于，所述第二調節(jié)件包括：

7.根據(jù)權利要求5所述的用于半導體設備的降壓閥，其特征在于，所述上殼頂部設有操作件，所述操作件與所述第二調節(jié)件相連，用于驅動所述第二調節(jié)件軸向移動。

8.根據(jù)權利要求2所述的用于半導體設備的降壓閥，其特征在于，所述底殼和所述上殼之間設有密封圈，所述密封圈用于密封所述底殼和所述上殼之間的間隙。

9.根據(jù)權利要求2所述的用于半導體設備的降壓閥，其特征在于，所述底殼的底部設有輸入通道，且所述底殼的側面設有輸出通道，所述輸入通道和所述輸出通道共同連通于所述第一內腔。

技術總結
本技術公開了一種用于半導體設備的降壓閥，包括閥體、第一調節(jié)件及調節(jié)組件，所述閥體具有第一內腔；所述第一調節(jié)件可移動地設在所述第一內腔，以調節(jié)所述第一內腔的內腔壓力，且所述第一調節(jié)件包括第二內腔，所述第二內腔與所述第一內腔之間可相互連通或相互封閉；所述調節(jié)組件設在所述閥體內，并與所述第二內腔滑動連接，以調節(jié)所述第二內腔和所述第一內腔相互連通或相互封閉。本技術可以更精確地進行調節(jié)降壓，調節(jié)更簡單方便。

技術研發(fā)人員：楊潔輝
受保護的技術使用者：深圳市立興高精科技有限公司
技術研發(fā)日：20240530
技術公布日：2025/1/9