本實(shí)用新型涉及機(jī)械密封領(lǐng)域，特別涉及一種高溫高壓釜及其密封環(huán)套件。

背景技術(shù)：

在進(jìn)行石油地質(zhì)研究時(shí)，為了認(rèn)識(shí)油氣從烴源巖中生成、排驅(qū)以及運(yùn)移介質(zhì)巖石的成巖演化過程，需要利用高溫高壓釜進(jìn)行模擬實(shí)驗(yàn)。具體的，由于巖石無機(jī)反應(yīng)和有機(jī)質(zhì)化學(xué)反應(yīng)速率受溫度的影響最大，高溫可以節(jié)省實(shí)驗(yàn)時(shí)間；加之原油裂解和甲烷高溫裂解碳化研究的需要，實(shí)驗(yàn)溫壓條件要求達(dá)到700℃，同時(shí)流體壓力可達(dá)到80MPa以上。釜體內(nèi)外壓差非常高、釜體流體產(chǎn)物的相態(tài)非常易于泄漏、釜體內(nèi)各部件更易于變形，這給反應(yīng)釜的密封提出了新要求。再加上隨著模擬地層受靜巖壓力的研究需求，需要在釜體一端動(dòng)態(tài)地對(duì)密封在釜體內(nèi)的樣品施加機(jī)械壓力，更是讓密封難上加難。因此釜體密封的好壞直接決定了實(shí)驗(yàn)效率、安全性及實(shí)驗(yàn)精度。

然而，現(xiàn)有技術(shù)中的釜體所使用的密封部件都存在一定的缺陷，無法完全滿足嚴(yán)苛的實(shí)驗(yàn)需求。

因此，有必要針對(duì)高溫高壓釜提出一種可靠的密封環(huán)套件，以較好地滿足高溫高壓的實(shí)驗(yàn)需要。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的是提供一種高溫高壓釜及其密封環(huán)套件，能夠較好地保證釜體的密封性，以滿足高溫高壓的實(shí)驗(yàn)需求。

本實(shí)用新型的上述目的可采用下列技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)：

一種密封環(huán)套件，包括相配套的密封環(huán)和密封施壓環(huán)；其中，

所述密封環(huán)整體呈圓環(huán)狀，具有相對(duì)的第一端面和第二端面，在所述第一端面和第二端面向內(nèi)分別形成有凹槽；所述凹槽具有光潔度滿足預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)的相對(duì)的外側(cè)壁面和內(nèi)側(cè)壁面，所述凹槽的深度大于所述密封施壓環(huán)能夠潛入的深度；

所述密封施壓環(huán)整體呈圓環(huán)狀，其設(shè)置有與所述密封環(huán)的凹槽相配合的配合部，在所述配合部上形成有與所述外側(cè)壁面配合的第一配合面，及與所述第一配合面相對(duì)的用于和所述內(nèi)側(cè)壁面配合的第二配合面，所述第一配合面與所述外側(cè)壁面配合后能形成至少一道線密封和一道面密封，所述第二配合面與所述內(nèi)側(cè)壁面配合后能形成多道線密封。

在優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述凹槽的深度大于所述密封施壓環(huán)能夠潛入的深度的2毫米至4毫米。

在優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述密封環(huán)的內(nèi)側(cè)壁面向內(nèi)傾斜，其與垂直于所述密封環(huán)的軸向的縱面之間形成有第一夾角，所述第一夾角的角度為7度至13度。

在優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述內(nèi)側(cè)壁面的光潔度為9級(jí)以上，所述外側(cè)壁面的光潔度為7級(jí)以上。

在優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述密封施壓環(huán)的配合部的截面積自內(nèi)向外逐漸縮小，所述第一配合面與所述第二配合面相交于所述密封施壓環(huán)的最大外徑處。

在優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述第二配合面與所述密封施壓環(huán)的軸向垂直的縱面之間形成有第二夾角，所述第二配合面上形成有多個(gè)直角階梯。

在優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述第一夾角為10度時(shí)，所述第二夾角為12度。

在優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述直角階梯的個(gè)數(shù)為3個(gè)，所述第二配合面與所述內(nèi)側(cè)壁面配合后能形成3道至5道線密封。

在優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述密封環(huán)的材料為雜質(zhì)總質(zhì)量分?jǐn)?shù)小于0.1%的紫銅。

一種高溫高壓釜，包括如上述任一所述的密封環(huán)套件。

在優(yōu)選的實(shí)施方式中，還包括樣品腔室，所述樣品腔室整體呈圓環(huán)狀，所述樣品腔室的外圓環(huán)位置設(shè)置有與所述密封環(huán)的凹槽相配合的配合部；

所述密封環(huán)套件包括：第一密封環(huán)和第二密封環(huán)，以及第一密封施壓環(huán)第二密封施壓環(huán)。

在沿著施壓壓力的作用方向上，所述第一密封施壓環(huán)、第一密封環(huán)、樣品腔室、第二密封環(huán)以及第二密封施壓環(huán)依次配合分布。

本實(shí)用新型的特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)是：本申請(qǐng)?zhí)峁┑拿芊猸h(huán)套件包括相配套的密封環(huán)和密封施壓環(huán)，使用時(shí)，密封環(huán)受到密封施壓環(huán)的擠壓，槽形密封環(huán)的薄壁和深槽更容易被側(cè)向擠壓變形，增加了槽壁的變形量和結(jié)合度，在高溫情況下甚至還可能發(fā)生粘連，大大提高了密封環(huán)的變形性能和密封效果；設(shè)置有配合部的密封施壓件與密封環(huán)槽形斜角內(nèi)壁的配合，可以形成3～5道線密封，適用于樣品靜巖壓力施壓柱的反復(fù)相對(duì)密封環(huán)的運(yùn)動(dòng)密封；設(shè)置有配合部的密封施壓件與密封環(huán)槽形直角外壁的配合，可以形成至少1到線密封和1道面密封，適用于密封環(huán)與釜體靜密封；密封環(huán)雙向槽的設(shè)計(jì)，進(jìn)一步增加了密封的效率；進(jìn)一步的，高純度銅的材料使用，保證了在高溫階段密封面無雜質(zhì)晶體析出，免除了微滲漏的可能。

附圖說明

圖1是本申請(qǐng)實(shí)施方式中一種密封環(huán)套件中密封環(huán)的俯視圖；

圖2是本申請(qǐng)實(shí)施方式中一種密封環(huán)套件中密封環(huán)的A-A剖視圖；

圖3是本申請(qǐng)實(shí)施方式中一種密封環(huán)套件中密封施壓環(huán)的俯視圖；

圖4是本申請(qǐng)實(shí)施方式中一種密封環(huán)套件中密封施壓環(huán)的D-D剖視圖；

圖5是本申請(qǐng)實(shí)施方式中一種密封環(huán)套件的使用示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式，對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作詳細(xì)說明，應(yīng)理解這些實(shí)施方式僅用于說明本實(shí)用新型而不用于限制本實(shí)用新型的范圍，在閱讀了本實(shí)用新型之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員對(duì)本實(shí)用新型的各種等價(jià)形式的修改均落入本申請(qǐng)所附權(quán)利要求所限定的范圍內(nèi)。

需要說明的是，當(dāng)元件被稱為“設(shè)置于”另一個(gè)元件，它可以直接在另一個(gè)元件上或者也可以存在居中的元件。當(dāng)一個(gè)元件被認(rèn)為是“連接”另一個(gè)元件，它可以是直接連接到另一個(gè)元件或者可能同時(shí)存在居中元件。本文所使用的術(shù)語(yǔ)“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及類似的表述只是為了說明的目的，并不表示是唯一的實(shí)施方式。

除非另有定義，本文所使用的所有的技術(shù)和科學(xué)術(shù)語(yǔ)與屬于本申請(qǐng)的技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中在本申請(qǐng)的說明書中所使用的術(shù)語(yǔ)只是為了描述具體的實(shí)施方式的目的，不是旨在于限制本申請(qǐng)。本文所使用的術(shù)語(yǔ)“和/或”包括一個(gè)或多個(gè)相關(guān)的所列項(xiàng)目的任意的和所有的組合。

本實(shí)用新型提供一種高溫高壓釜及其密封環(huán)套件，能夠較好地保證釜體的密封性，以滿足高溫高壓的實(shí)驗(yàn)需求。

決定密封部件效果的關(guān)鍵包括：密封部件的材料、結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。從材料上來說，高溫高壓釜體常用密封件的材料有聚四氟乙烯、石墨、紫銅。從結(jié)構(gòu)上來說，可以利用機(jī)械靜、動(dòng)密封的線密封原理，使得釜體構(gòu)造和施壓套件相應(yīng)匹配。

現(xiàn)有技術(shù)中的密封部件存在密封不嚴(yán)的原因在于封環(huán)的材料選擇和結(jié)構(gòu)上，主要有以下幾個(gè)方面：

①加工密封環(huán)的銅材料不合適。在現(xiàn)有的密封產(chǎn)品一般采用的是銅純度不高，雜質(zhì)相對(duì)較高的T3型號(hào)(雜質(zhì)總質(zhì)量分?jǐn)?shù)0.3%，抗拉強(qiáng)度：200MPa，斷后伸長(zhǎng)率：45％～50％，HBS布氏硬度：35～40)紫銅，質(zhì)地過硬，在低溫階段受壓變形度不高，銅環(huán)與周圍釜體的線密封效果難以保證。特別是在高溫階段，其紫銅中的雜質(zhì)會(huì)析出和氧化，進(jìn)一步增大了線密封位置存在點(diǎn)狀泄漏點(diǎn)的幾率。

②錐形紫銅密封環(huán)的錐角度、錐尖厚度過大，導(dǎo)致紫銅環(huán)錐尖變形難度大，密封效果差。

③紫銅密封環(huán)面光潔度不高，導(dǎo)致接觸不嚴(yán)密。

④V形紫銅密封環(huán)的V形結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)不合理。V形設(shè)計(jì)使紫銅V形側(cè)面面狀受力，形成的是面密封，當(dāng)V形槽淺的情況下僅1道線密封，變形小，密封效果不佳。

請(qǐng)參閱圖1至圖4，本申請(qǐng)實(shí)施方式中提供的一種密封環(huán)套件可以包括：相配套的密封環(huán)2和密封施壓環(huán)3。

其中，所述密封環(huán)2整體呈圓環(huán)狀，具有相對(duì)的第一端面和第二端面，在所述第一端面和第二端面向內(nèi)分別形成有凹槽；所述凹槽具有光潔度滿足預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)的相對(duì)的外側(cè)壁面和內(nèi)側(cè)壁面205，所述凹槽的深度大于所述密封施壓環(huán)3能夠潛入的深度；

所述密封施壓環(huán)3整體呈圓環(huán)狀，其設(shè)置有與所述密封環(huán)的凹槽相配合的配合部，在所述配合部上形成有與所述外側(cè)壁面配合的第一配合面304，與所述第一配合面304相對(duì)的用于和所述內(nèi)側(cè)壁面205配合的第二配合面305，所述第一配合面304與所述外側(cè)壁面配合后能形成至少一道線密封和一道面密封，所述第二配合面305與所述內(nèi)側(cè)壁面205配合后能形成多道線密封。

在本實(shí)施方式中，所述密封環(huán)2外形可以呈圓環(huán)狀，其截面形狀呈雙面槽狀，大致呈H形。每面槽的深度大于密封施壓環(huán)潛入深度的2～4mm(毫米)。上述潛入的深度的預(yù)留范圍由紫銅在常溫～600℃高溫15MPa壓力下的變形度、以及樣品所處的空間大小確定。該樣品所處的空間主要由：樣品腔、密封施壓環(huán)3及本身樣品確定。試驗(yàn)表明，例如在38mm內(nèi)徑樣品尺寸下，室溫～600℃(攝氏度)不同溫度下的密封，密封成功率最高。

在本實(shí)施方式中，所述密封環(huán)2的內(nèi)側(cè)壁面205向內(nèi)傾斜，其與垂直于所述密封環(huán)2的軸向的縱面之間形成有第一夾角。所述第一夾角用于與密封施壓環(huán)3的配合部對(duì)接，利于形成線、面密封。具體的，所述第一夾角的角度可以為10°±3°，其中10°是實(shí)際應(yīng)用檢驗(yàn)過的最好密封角度。

在一個(gè)實(shí)施方式中，所述內(nèi)側(cè)壁面205的光潔度為9級(jí)以上，所述外側(cè)壁面的光潔度為7級(jí)以上。

其中，光潔度的依據(jù)是實(shí)際應(yīng)用中，30分鐘內(nèi)50MPa的流體在釜內(nèi)的壓降小于0.01MPa決定的實(shí)驗(yàn)要求確定的。由于內(nèi)側(cè)壁面205的密封時(shí)的配合面積相對(duì)比外側(cè)壁面的小，要保證一樣的面密封性能，需要提高所述內(nèi)側(cè)壁面205的光潔度，而且內(nèi)側(cè)壁面205主要為線密封，相對(duì)而言光潔度對(duì)線密封的要求較高，因此內(nèi)側(cè)壁面205的光潔度需要高于外側(cè)壁面的光潔度。

具體的，所述密封環(huán)2的凹槽內(nèi)側(cè)壁面205的光潔度可以達(dá)到GB1031-1968的9級(jí)以上，密封環(huán)2凹槽外側(cè)壁面的光潔度，要達(dá)到GB1031-1968的7級(jí)以上。當(dāng)上述密封環(huán)2的凹槽的內(nèi)側(cè)壁面205和外側(cè)壁面滿足上述光潔度要求時(shí)，其能夠在于密封施壓環(huán)3配合時(shí)保證較佳的密封效果。

在本實(shí)施方式中，所述密封環(huán)2的材料可以為雜質(zhì)總質(zhì)量分?jǐn)?shù)小于0.1%的紫銅，及T2及以上的紫銅，以保證該密封環(huán)2在使用過程中，較少的雜質(zhì)析出，從而保證密封位置的密封性能。

另外，所述紫銅制成的密封環(huán)2在拋光加工后要浸油放置，防止氧化，導(dǎo)致表面的光潔度降低，從而影響密封效果。在用之前，用二氯甲烷沖洗后即可使用。

在本實(shí)施方式中，密封施壓環(huán)3外形呈圓環(huán)狀，其設(shè)置有與所述密封環(huán)2的凹槽相配合的配合部，在所述配合部上形成有與所述外側(cè)壁面配合的第一配合面304，與所述第一配合面304相對(duì)的用于和所述內(nèi)側(cè)壁面205配合的第二配合面305，所述第一配合面304與所述外側(cè)壁面配合后能形成至少一道線密封和一道面密封，所述第二配合面305與所述內(nèi)側(cè)壁面205配合后能形成多道線密封。

具體的，所述密封施壓環(huán)3的配合部的截面積自內(nèi)向外逐漸縮小，所述第一配合面304與所述第二配合面305相交于所述密封施壓環(huán)3的最大外徑處，使得所述密封施壓環(huán)3的截面形狀大致呈V形。

在一個(gè)實(shí)施方式中，當(dāng)所述密封環(huán)2的內(nèi)側(cè)壁面205向內(nèi)傾斜，其與垂直于所述密封環(huán)2的軸向的縱面之間形成有第一夾角，所述第一夾角的角度為7度至13度時(shí)，所述第二配合面305與所述密封施壓環(huán)3的軸向垂直的縱面之間形成有第二夾角。所述第二夾角的角度與所述第一夾角的角度相匹配，例如當(dāng)所述第一夾角為10度時(shí)，所述第二夾角可以為12度，以保證配合位置的匹配度，進(jìn)而保證配合位置的密封性。

在本實(shí)施方式中，所述第二配合面305上還可以形成有多個(gè)直角階梯。具體的，所述直角階梯的個(gè)數(shù)可以為3個(gè)，使得所述第二配合面305與所述內(nèi)側(cè)壁面配合后能形成3道至5道線密封，從而達(dá)到理想的密封效果、且安裝和加工的難度都較低。

此外，除了在V形的密封施壓環(huán)截面的第二配合面305上設(shè)置3個(gè)直角階梯外，所述第二配合面305的具體形式還可以是其它結(jié)構(gòu)，本申請(qǐng)?jiān)诖瞬⒉蛔魑ㄒ幌薅ā?/p>

在本實(shí)施方式中，所述密封施壓環(huán)3可為不銹鋼件，例如可以為302不銹鋼。所述密封施壓環(huán)3的材料以能承受密封壓力為準(zhǔn)，不局限于不銹鋼單一材料。

在一個(gè)具體的實(shí)施方式中，本申請(qǐng)涉及的密封環(huán)2，如附圖1和2所示，俯視形狀呈圓環(huán)狀，其中心軸線位于圓環(huán)的中心處；縱向截面形狀大致為“H”形。該密封環(huán)在俯視圖上包括槽底面203、內(nèi)壘面204、外壘面206、內(nèi)側(cè)壁面205。該密封環(huán)截面圖形狀包括第一外環(huán)面201、第一內(nèi)環(huán)面202、槽底面203、內(nèi)壘面204、內(nèi)側(cè)壁面205、外壘面206。其中，第一外環(huán)面201的直徑為44.90mm，第一內(nèi)環(huán)面202的直徑為38.10mm，外壘面206的內(nèi)壁面直徑為43.20mm，內(nèi)側(cè)壁面205的頂端直徑為39.80mm。槽頂端寬1.70mm，槽底面203寬1.07mm，槽深3.60mm，內(nèi)側(cè)壁面205與垂線夾角為10°。所述第一外環(huán)面201、第二內(nèi)環(huán)面202和外壘面206的光潔度為GB1031-1968的8級(jí)以上。所述槽底面203、內(nèi)側(cè)壁面205和外壘206內(nèi)面的光潔度為GB1031-1968的10級(jí)以上。本申請(qǐng)涉及的密封環(huán)材質(zhì)可為工業(yè)T2紫銅。

使用時(shí)，密封環(huán)2在所述密封施壓環(huán)3的配合下，所述密封環(huán)2內(nèi)側(cè)壁面205與所述第二配合面305之間可以形成3～5道線密封，所述密封環(huán)2的外側(cè)壁面與所述第一配合面304之間可以形成1道線密封和1道面密封，以適應(yīng)動(dòng)態(tài)施壓的要求，即無論是加壓還是減壓，始終能保證形成可靠的密封。

本申請(qǐng)所述的密封環(huán)套件包括相配套的密封環(huán)2和密封施壓環(huán)3，使用時(shí)，密封環(huán)2受到密封施壓環(huán)3的擠壓，槽形密封環(huán)2的薄壁和深槽更容易被側(cè)向擠壓變形，增加了槽壁的變形量和結(jié)合度，在高溫情況下甚至還可能發(fā)生粘連，大大提高了密封環(huán)2的變形性能和密封效果；設(shè)置有配合部的密封施壓環(huán)3與密封環(huán)2槽形斜角內(nèi)壁的配合，可以形成3～5道線密封，適用于樣品靜巖壓力施壓柱的反復(fù)相對(duì)密封環(huán)2的運(yùn)動(dòng)密封；設(shè)置有配合部的密封施壓環(huán)3與密封環(huán)2槽形直角外壁的配合，可以形成至少1到線密封和1道面密封，適用于密封環(huán)2與釜體靜密封；密封環(huán)2雙向槽的設(shè)計(jì)，進(jìn)一步增加了密封的效率；進(jìn)一步的，高純度銅的材料使用，保證了在高溫階段密封面無雜質(zhì)晶體析出，免除了微滲漏的可能。

實(shí)驗(yàn)表明：本申請(qǐng)所述的密封環(huán)套件可以在溫度0～700℃、流體壓力0～150MPa(兆帕)同時(shí)達(dá)到的環(huán)境下，承受20次以上的靜巖壓力的增減，并保持20天以上無可測(cè)微滲漏。

本申請(qǐng)實(shí)施方式中還提供了一種高溫高壓釜，其包括上述實(shí)施方式中任一所述的密封環(huán)套件。

上述高溫高壓釜包括的密封環(huán)套件能夠達(dá)到上述密封環(huán)套件實(shí)施方式的技術(shù)效果，本申請(qǐng)?jiān)诖瞬辉儋樖觥?/p>

請(qǐng)參閱圖5，進(jìn)一步的，還包括樣品腔室405，所述樣品腔室405整體呈圓環(huán)狀，所述樣品腔室405的外圓環(huán)位置設(shè)置有與所述密封環(huán)的凹槽相配合的配合部；

所述密封環(huán)套件包括：第一密封環(huán)404和第二密封環(huán)409，以及第一密封施壓環(huán)403第二密封施壓環(huán)410。

在本實(shí)施方式中，所述第一密封環(huán)404與所述第二密封環(huán)409的密封環(huán)結(jié)構(gòu)可以相同，即采用多道、雙向線密封的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，以便于提高密封環(huán)的通用性，節(jié)約成本。所述第一密封施壓環(huán)403和第二密封施壓環(huán)410可以為鏡像對(duì)稱結(jié)構(gòu)。配合使用時(shí)，在沿著施壓壓力的作用方向上，所述第一密封施壓環(huán)403、第一密封環(huán)404、樣品腔室405、第二密封環(huán)409以及第二密封施壓環(huán)410依次配合分布。

本申請(qǐng)涉及的密封環(huán)套件還包括樣品腔室409，該樣品腔室409整體呈圓環(huán)狀，其具有密封作用的配合部與所述密封施壓環(huán)的配合部相同，即所述樣品腔室409與所述第一密封施壓環(huán)403和第二密封施壓環(huán)410可以具有相同的密封作用端。在一個(gè)具體的實(shí)施方式中，它們的密封作用端俯視圖和縱向截面如圖4所示。密封作用端俯視形狀呈圓環(huán)狀，其中心軸線位于圓環(huán)的中心處；縱向截面形狀大致為“V”形。所述密封作用端縱向截面形狀包括第二外環(huán)面302、第二內(nèi)環(huán)面301、頂面303、密封直斜面304(即第一配合面)和密封多階梯面305(即第二配合面)。所述頂面303在樣品室上續(xù)接的是上下對(duì)稱且相同的“V”形密封端口，如圖5所示；所述頂面303在密封施壓環(huán)上，第二內(nèi)環(huán)面301、第二外環(huán)面的高度為6.00mm。頂面303在寬度為2.80mm。密封多階梯面305外接線與垂線夾角為12°。所述密封直斜面304和密封多階梯面305的光潔度為GB1031-1968的10級(jí)以上。所述第二外環(huán)面302、第二內(nèi)環(huán)面301的光潔度為GB1031-1968的8級(jí)以上。本申請(qǐng)涉及的密封施壓件材質(zhì)為302不銹鋼，以能承受密封壓力為準(zhǔn)，但不局限于不銹鋼單一材料。

在38mm直徑在高溫高壓釜體上在使用如圖5所示。該圖上示出了包括釜體406、樣品腔室405、第一密封環(huán)404和第二密封409、第一密封施壓環(huán)403和第二密封施壓環(huán)410、樣品414、過濾用的金屬顆粒燒結(jié)板413和407、施壓密封壓頭402和靜巖壓力柱體408。使用過程中，先在施壓密封壓頭402上依次套裝密封施壓環(huán)403和密封環(huán)404，然后平行放入釜體406大口端，之后整體豎起，再?gòu)纳隙艘来畏湃霕悠非皇?05、燒結(jié)板413、第二密封環(huán)409、第二密封環(huán)施壓環(huán)410、樣品414、燒結(jié)板407，把釜體406上端空置腔擦干凈后，植入靜巖壓力柱體408。安裝好在套件植入加熱加壓爐腔內(nèi)，通過底端401方向的密封泵壓來推動(dòng)施壓密封壓頭402，以此推動(dòng)整體套件上行，上部的第二密封環(huán)施壓環(huán)410受到頂端411方向的反作用力，實(shí)現(xiàn)釜體406上、下端密封。

本申請(qǐng)所述的密封環(huán)套件包括相配套的密封環(huán)和密封施壓環(huán)，使用時(shí)，密封環(huán)受到密封施壓環(huán)的擠壓，槽形密封環(huán)的薄壁和深槽更容易被側(cè)向擠壓變形，增加了槽壁的變形量和結(jié)合度，在高溫情況下甚至還可能發(fā)生粘連，大大提高了密封環(huán)的變形性能和密封效果；設(shè)置有配合部的密封施壓件與密封環(huán)槽形斜角內(nèi)壁的配合，可以形成3～5道線密封，適用于樣品靜巖壓力施壓柱的反復(fù)相對(duì)密封環(huán)的運(yùn)動(dòng)密封；設(shè)置有配合部的密封施壓件與密封環(huán)槽形直角外壁的配合，可以形成至少1到線密封和1道面密封，適用于密封環(huán)與釜體靜密封；密封環(huán)雙向槽的設(shè)計(jì)，進(jìn)一步增加了密封的效率；進(jìn)一步的，高純度銅的材料使用，保證了在高溫階段密封面無雜質(zhì)晶體析出，免除了微滲漏的可能。

本申請(qǐng)適用于實(shí)驗(yàn)室內(nèi)各種涉及高溫高壓釜體及其密封，如生排烴熱模擬系統(tǒng)、成巖模擬系統(tǒng)等。使用環(huán)境條件為：溫度0～700℃，流體壓力0～150MPa，流體相態(tài)可以是液體或氣體。動(dòng)密封效果可以達(dá)到20次以上的軸向位移，密封效果保持時(shí)間在20天以上，效果為壓降小于1000帕。本申請(qǐng)的密封環(huán)及套件可以應(yīng)用于任何需要密封的低溫和高溫、高壓的腔體設(shè)備中。

本說明書中的上述各個(gè)實(shí)施方式均采用遞進(jìn)的方式描述，各個(gè)實(shí)施方式之間相同相似部分相互參照即可，每個(gè)實(shí)施方式重點(diǎn)說明的都是與其他實(shí)施方式不同之處。

以上所述僅為本實(shí)用新型的幾個(gè)實(shí)施方式，雖然本實(shí)用新型所揭露的實(shí)施方式如上，但所述內(nèi)容只是為了便于理解本實(shí)用新型而采用的實(shí)施方式，并非用于限定本實(shí)用新型。任何本實(shí)用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型所揭露的精神和范圍的前提下，可以在實(shí)施方式的形式上及細(xì)節(jié)上作任何的修改與變化，但本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍，仍須以所附權(quán)利要求書所界定的范圍為準(zhǔn)。