專利名稱：關(guān)于防混合閥的噴嘴設(shè)計的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及清洗系統(tǒng)，其用于利用清洗劑清洗在閥中的一個或者多個閥座并且用于利用清洗劑清洗所述閥的一個或者多個內(nèi)部表面，其中所述清洗系統(tǒng)優(yōu)選地配置在防混合(mixproof)閥中，防混合閥至少由閥體、一個或者多個閥座、帶有第一桿的第一閥塞和帶有第二桿的第二閥塞構(gòu)成，第二閥塞具有用于導(dǎo)引第一桿的中心中空部件。
背景技術(shù)：
在閥的各種類型中，S卩，還稱作防混合閥的雙座閥，它公知用于通過使清洗液體流過所述打開閥座來清洗閥座。清洗因為衛(wèi)生原因被執(zhí)行并且通常以帶有某時間間隔等的自動方式執(zhí)行。閥能夠在閥座完全打開時清洗，但是清洗主要利用部分打開的閥座執(zhí)行，以最小化所用的清洗液體的量并且同時部分打開的閥座還具有如下優(yōu)點，即清洗液體的流在待清洗的精確位置處涌過。待清洗的閥座可定位在流內(nèi)或者在流的一端。在已知解決方案中，這種清洗必須如上文所述地執(zhí)行或者通過手動清洗執(zhí)行，其中，閥部件盡可能有效地清洗，從而使閥內(nèi)的一些區(qū)域處于某種程度上未清洗的狀態(tài)。已知解決方案的實例在美國專利No. 4，552，167中可見，其描述了用于利用清洗劑清洗一個或者多個閥座的清洗系統(tǒng)。發(fā)明目的因此本發(fā)明的目的是提供新的并且自動的機械的和快速的系統(tǒng)，用于清洗閥的內(nèi)部并且用于清洗閥座，并且因此獲得清洗所述閥的更衛(wèi)生并且更容易的方法。

發(fā)明內(nèi)容
如上文所述，本發(fā)明公開了清洗系統(tǒng)，其用于利用清洗劑清洗在閥中的一個或者多個閥座并且用于利用清洗劑清洗所述閥的一個或者多個內(nèi)部表面，其中所述清洗系統(tǒng)具有用于創(chuàng)造兩種不同噴射(spray)模式的噴嘴裝置，所述噴嘴裝置配置在第一桿與第二閥塞的中空中心部件之間和/或配置在第一桿和第二閥塞的中空中心部件上，其中，第一噴射模式主要用于清洗所述閥的內(nèi)部表面，并且其中第二噴射模式主要用于清洗所述閥座中的一個或者多個，同時閥在生產(chǎn)區(qū)域與排出區(qū)域(drain area)之間打開。這種清洗系統(tǒng)適合用于箱閥，其中閥的內(nèi)部以及閥座必須定期清洗。通過利用根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)，能夠進行內(nèi)部表面以及閥座的有效且快速的清洗。第一噴射模式用于清洗閥的內(nèi)部表面。噴射通過噴嘴裝置沿第一桿導(dǎo)引并且撞擊第一閥塞的后側(cè)，從第一閥塞的后側(cè)清洗劑流沿其它表面在閥內(nèi)導(dǎo)引。這將在本發(fā)明的詳細描述中并且通過參考相關(guān)附圖進一步討論。在第一閥塞的優(yōu)選實施例中，該后側(cè)定形狀成帶有從第一桿的凹面并且由此能夠沿它的表面并且進一步沿第二桿的內(nèi)表面導(dǎo)引加壓清洗劑。這些細節(jié)同樣將在詳細描述中描述。在根據(jù)本發(fā)明的清洗系統(tǒng)的優(yōu)選實施例中，對于用于清洗內(nèi)部表面的第一噴射模式，噴嘴裝置具有一個或者多個開孔，優(yōu)選地帶有在第一桿與第二閥塞的中空中心部件之間并且沿第一桿和第二閥塞的中空中心部件的環(huán)形間隙，其中具有一個或者多個開孔的所述噴嘴裝置連接到加壓清洗劑的供應(yīng)，并且其中一個或者多個開孔的方向和因此的第一噴射模式的方向沿第一桿并且朝向第一閥塞的內(nèi)部后側(cè)。如所述，噴嘴裝置能夠構(gòu)造成帶有一個或者多個開孔并且在最簡單的狀態(tài)中它構(gòu)造成環(huán)形間隙，其沿表面引導(dǎo)清洗劑膜。通過具有一個或者多個開孔，若干射流能夠被創(chuàng)造并且在待清洗的表面上引導(dǎo)。在根據(jù)本發(fā)明的清洗系統(tǒng)的另一優(yōu)選實施例中，對于用于清洗所述閥座中的一個或者多個的第二噴射模式，噴嘴裝置具有對第一桿成角度的一個或者多個開孔，并且優(yōu)選地具有帶有錐形環(huán)間隙的噴嘴裝置，其中具有一個或者多個開孔的所述噴嘴裝置連接到清洗劑的加壓供應(yīng)，并且其中，一個或者多個開孔的方向和因此的第二噴射模式的方向具有對桿的角度并且朝向第一閥塞的閥座和閥體。如所述，這通過使一個或者多個開孔具有對桿的角度而獲得。因此，能夠具有指向待清洗的閥座的清洗劑的加壓膜或射流。在噴嘴裝置中的開孔的角度設(shè)計成具有期望方向。如上文所述，根據(jù)本發(fā)明的清洗系統(tǒng)具有兩種不同的噴射模式，其通過改變第一閥塞與第二閥塞之間(或者反過來)的相對位置而獲得，因為在第一閥塞的第一桿和第二閥塞的中空中心部件的區(qū)域中的噴嘴裝置的部分或者被遮蔽用于創(chuàng)造第一噴射模式或者由于所述相對運動不被遮蔽用于創(chuàng)造第二噴射模式。在第一桿和第二閥塞的中空中心部件之間，噴嘴裝置被設(shè)置并且具有雙重功能， 即與第二閥塞的中空中心部件有關(guān)的第一桿的一個位置沿第一桿并且進一步沿閥的內(nèi)部表面導(dǎo)引清洗劑流。所述部件的另一相對位置允許清洗劑的更直接射流在第一閥塞與閥殼體之間的開口處飛濺并且通過第一閥塞與閥殼體之間的開口，由此清洗該閥座。根據(jù)本發(fā)明的清洗系統(tǒng)可具有噴嘴裝置，其具有圍繞第一桿的圓周均勻配置的一個或者多個開孔。這可具有在噴嘴裝置中的孔或者切口的形狀或者具有環(huán)形間隙的形狀。 通過使一個或者多個開孔沿第一桿或者噴嘴裝置的圓周均勻分配，當(dāng)表面暴露于清洗劑的均勻的量和壓力時獲得均勻清洗。在本發(fā)明的另一實施例中，清洗系統(tǒng)具有噴嘴裝置，其具有一個或者多個開孔，其中所述一個或者多個開孔的中心線穿過第一桿的中心軸線，從而一個或者多個開孔創(chuàng)造關(guān)于桿的中心線的扭轉(zhuǎn)。通過使用帶有關(guān)于桿扭轉(zhuǎn)的方向的開孔，加壓清洗劑流也將具有該扭轉(zhuǎn)，從而允許在清洗劑與待清洗的表面之間的更長接觸。在一些應(yīng)用中，這將導(dǎo)致更好的清洗。為了盡可能確保完美的清洗系統(tǒng)，所述噴嘴裝置可進一步具有在噴嘴裝置中的開孔的邊緣處的一個或者多個底切(undercut)裝置，從而引起加壓清洗劑的更好的離開，其中這些底切裝置至少在創(chuàng)造第二噴射模式時起作用。在創(chuàng)造第二噴射模式時，清洗劑的直接并且有力的射流是優(yōu)選的并且因此重要的是使清洗劑盡可能完美地離開噴嘴裝置。這通過將圍繞開孔或者多個開孔的區(qū)域定形狀成帶有相對尖的邊緣，通過使所述底切裝置靠近間隙的開口而獲得。在詳細描述中，這將進一步討論。在本發(fā)明的優(yōu)選實施例中，當(dāng)一個或者多個開孔在第一桿與另一噴嘴部件之間創(chuàng)造時，所述第一桿是所述噴嘴裝置的一部分。這種方式創(chuàng)造了簡單且穩(wěn)固的解決方案，這易于維護和操作。
因此根據(jù)本發(fā)明的清洗系統(tǒng)能夠在靠近一個或者多個開孔的區(qū)域中具有一個或者多個底切裝置，從而同樣如上文所述地引起加壓清洗劑的更好的離開。這些底切裝置至少在創(chuàng)造第二噴射模式時起作用。根據(jù)本發(fā)明的清洗系統(tǒng)還可與所述噴嘴裝置構(gòu)造為帶有某些特性/性質(zhì)的單元， 其中所述噴嘴裝置由于磨損或者其它原因而更換。該實施例應(yīng)用到如下兩種情形噴嘴裝置合并第一桿；或者噴嘴裝置是單獨單元。通過使噴嘴裝置帶有從一個用途到另一個用途不同的某些特性/性質(zhì)，簡單地通過改變噴嘴裝置或者作為單元的噴嘴裝置的部件，容易改變噴嘴裝置并且因此容易改變噴射模式、它的容積、方向或者壓力。通過利用根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)，獲得表面和閥座的非常迅速并且可靠的清洗，并且同時實現(xiàn)對于衛(wèi)生解決方案的需求。


本發(fā)明現(xiàn)在將參考附圖解釋，其中圖1示出雙座箱閥，圖2示出在第一相對位置中的閥塞的部件，其中箭頭示出清洗劑流，圖3示出如在圖2中的相同部件，但是其中閥塞的部件在第二相對位置，圖4示出如在圖3中的噴嘴裝置的細節(jié)，圖5示出如在圖2和圖3中的相同部件，但是其中閥塞的部件在第三相對位置，圖6示出閥的清洗，其中閥部件在第四相對位置。
具體實施例方式在圖1中示出雙座箱閥1。在下文中，這稱作閥1。閥1包括閥體2，其具有凸緣3 用于裝配到未示出的在箱上的相應(yīng)凸緣。閥1還具有第一閥塞4、第一閥座5和第一閥桿6。 第一閥桿6連接到在所述第一閥桿6的端部7的促動器(未示出)。閥還包括第二閥塞8、 第二閥座9、第二閥桿10并且還包括中空中心部件11。中空中心部件11經(jīng)由若干支柱12 剛性連接到第二閥桿10并且在端部13處中空中心部件11還連接到促動器(未示出)。在閥體2中，存在生產(chǎn)區(qū)域14和排出區(qū)域15。通過使第一閥塞4起動進入箱，在箱中的媒介能夠引導(dǎo)到排出區(qū)域15。類似地，通過使第一閥塞4封閉在第一閥座5中，同時第二閥塞8 起動以打開第二閥座9，能夠?qū)⒚浇閺纳a(chǎn)區(qū)域14引導(dǎo)到排出區(qū)域15。根據(jù)本發(fā)明，清洗劑的加壓供應(yīng)通過中空中心部件11供給，從而進入閥1的內(nèi)部 16。在第一閥桿6與中空中心部件11之間配置噴嘴裝置17。在下圖中，這些噴嘴裝置將進一步詳細討論，并且將通過放大的剖面示出，其中僅僅示出閥1的一些部件。在圖2中，示出閥1的剖面。通過箭頭18示出的清洗劑涌過環(huán)形間隙19，其在第一閥桿6與在中空中心部件11的端部處的噴嘴裝置17之間。因為在第一閥塞4和第二閥塞8的該相對位置中的噴嘴裝置創(chuàng)造定形狀為柱形壁的間隙19，所以清洗劑18沿第一閥桿 6射出并且通過第一閥塞4的后側(cè)的凹形引導(dǎo)到第一閥塞4和第二閥塞8的全部內(nèi)部16。 在圖2中，還可看出清洗劑流18從不直接指向閥座，因為第一閥塞4具有小曲率20，其將清洗劑引導(dǎo)為遠離閥座5。
在圖3中，示出閥1，其中第一閥塞4和第二閥塞8在另一相對位置中，其中第一閥塞4從閥座5中提升。通過將第一閥塞4移動到該位置，噴嘴裝置17還彼此相對移動，從而現(xiàn)在使清洗劑流18直接指向打開的閥座5并且因此清洗閥座5。通過在第一閥塞4與第二閥塞8之間的相對移動，如上所述，噴嘴裝置17還彼此相對移動，由此定形狀成柱形壁的先前間隙19阻塞并且新的錐形間隙21打開。在圖4中，噴嘴裝置17在更大的放大圖片中示出。錐形間隙21以與間隙21相同的方向引導(dǎo)清洗劑流18，并且該方向?qū)μ囟ㄩy1設(shè)計，并且意圖具有如圖3所示的對著閥座 5的方向。在該圖中，噴嘴裝置17包括第一閥桿6、中空中心部件11的前部22和配置在第一閥桿6上的噴嘴單元23。在噴嘴裝置17的邊緣，更精確地在第一閥桿6并且在噴嘴單元 23上，提供底切裝置M。這些底切裝置可為圍繞第一閥桿6或者圍繞噴嘴單元23的溝槽， 或者底切裝置M可以為成排的凹坑。不考慮底切裝置的外形，該功能是為了確保清洗劑流以有力的方式離開噴嘴裝置，這通過具有帶有窄邊緣25的孔口 21的類型最佳地獲得。在圖5中，第二閥座9關(guān)閉并且清洗劑18沿第一閥桿6涌過并且清洗閥部件的內(nèi)部。在圖6中，閥1處于如在圖5中相同的位置，但現(xiàn)在清洗劑18從生產(chǎn)區(qū)域14涌過閥座9并且因此利用沿與使用噴嘴裝置17相對的方向的清洗劑流18清洗閥部件的內(nèi)部。本發(fā)明不受限于上文所述并且在附圖上示出的實施例，而是可在通過所附權(quán)利要求限定的本發(fā)明的范圍內(nèi)以任何方式補充和修改。部件列表
1閥
2閥體
3凸緣
4第一閥塞
5第一閥座
6第一閥桿
7第一閥桿的端部
8第二閥塞
9第二閥座
10第二閥桿
11中空中心部件
12支柱
13中空中心部件的端部
14生產(chǎn)區(qū)域
15排出區(qū)域
16閥部件的內(nèi)部
17噴嘴裝置
18清洗劑流
19環(huán)形間隙
20第一閥塞上的曲率
21錐形間隙
22中空中心部件的前部
23噴嘴單元
24底切裝置
25窄邊緣
權(quán)利要求
1.一種清洗系統(tǒng)，其用于利用清洗劑清洗在閥中的一個或者多個閥座并且用于利用清洗劑清洗所述閥的一個或者多個內(nèi)部表面，其中，所述清洗系統(tǒng)優(yōu)選地配置在防混合閥(1) 中，所述防混合閥(1)至少由閥體O)、一個或者多個閥座(5，9)、帶有第一桿(6)的第一閥塞(4)和帶有第二桿(10)的第二閥塞(8)構(gòu)成，所述第二閥塞(8)具有用于導(dǎo)引所述第一桿(6)的中心中空部件(11)，其特征在于，所述清洗系統(tǒng)具有用于創(chuàng)造兩種不同噴射模式的噴嘴裝置(17)，所述噴嘴裝置(17)配置在所述第一桿(6)與所述第二閥塞(8)的中空中心部件(11)之間和/或配置在所述第一桿(6)和所述第二閥塞(8)的中空中心部件(11) 上，其中，第一噴射模式主要用于清洗所述閥(1)的內(nèi)部表面，并且其中，第二噴射模式主要用于清洗所述閥座(5，9)中的一個或者多個，同時所述閥(1)在生產(chǎn)區(qū)域(14)與排出區(qū)域(15)之間打開。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗系統(tǒng)，其特征在于，對于用于清洗所述內(nèi)部表面的所述第一噴射模式，所述噴嘴裝置(17)具有一個或者多個開孔(19)，優(yōu)選地帶有在所述第一桿 (6)與所述第二閥塞的中空中心部件(11)之間并且沿所述第一桿(6)和所述第二閥塞的中空中心部件(11)的環(huán)形間隙，其中，具有一個或者多個開孔(19)的所述噴嘴裝置連接到加壓清洗劑的供應(yīng)，并且其中，所述一個或者多個開孔(19)的方向和因此的所述第一噴射模式的方向沿所述第一桿并且朝向所述第一閥塞的內(nèi)部后側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1和2中的任一項所述的清洗系統(tǒng)，其特征在于，對于用于清洗所述閥座中的一個或者多個的所述第二噴射模式，所述噴嘴裝置(17)具有對所述第一桿成角度的一個或者多個開孔，并且優(yōu)選地具有帶有錐形環(huán)間隙的噴嘴裝置，其中，具有一個或者多個開孔的所述噴嘴裝置連接到清洗劑的加壓供應(yīng)，并且其中，所述一個或者多個開孔的方向和因此的所述第二噴射模式的方向具有對所述桿的角度并且朝向所述第一閥塞的閥座和所述閥體。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求1到3中的任一項所述的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述兩種不同噴射模式通過改變在所述第一閥塞(4)與所述第二閥塞(8)之間(或者反過來)的相對位置而獲得，因為在所述第一閥塞的第一桿(6)和所述第二閥塞(8)的中空中心部件(11) 的區(qū)域中的所述噴嘴裝置(17)的部分或者被遮蔽用于創(chuàng)造所述第一噴射模式或者由于所述相對移動不被遮蔽用于創(chuàng)造所述第二噴射模式。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求1到4中的任一項所述的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述噴嘴裝置 (17)具有一個或者多個開孔，其圍繞所述第一桿的圓周均勻配置。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求1到5中的任一項所述的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述噴嘴裝置 (17)具有一個或者多個開孔，其中，所述一個或者多個開孔的中心線穿過所述第一桿(6) 的中心軸線，從而所述一個或者多個開孔創(chuàng)造關(guān)于所述桿的中心軸線的扭轉(zhuǎn)。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求1到6中的任一項所述的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述噴嘴裝置 (17)進一步具有在所述噴嘴裝置中的開孔的邊緣處的一個或者多個底切裝置(M)，從而引起加壓清洗劑的更好的離開，其中，這些底切裝置至少在創(chuàng)造所述第二噴射模式時起作用。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求1到7中的任一項所述的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述第一桿(6) 是所述噴嘴裝置(17)的一部分。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求1到8中的任一項所述的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述第一桿(6)具有在靠近所述一個或者多個開孔的區(qū)域中的一個或者多個底切裝置(M)，從而引起加壓清洗劑的更好的離開，其中，這些底切裝置至少在創(chuàng)造所述第二噴射模式時起作用。
10.根據(jù)前述權(quán)利要求1到9中的任一項所述的清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述噴嘴裝置 (17)是帶有某些特性/性能的單元(23)，其中，所述噴嘴裝置由于磨損或者其它原因而更換。
全文摘要
一種清洗系統(tǒng)，其用于利用清洗劑清洗在閥中的一個或者多個閥座并且用于利用清洗劑清洗所述閥的一個或者多個內(nèi)部表面，其中所述清洗系統(tǒng)優(yōu)選地配置在防混合閥(1)中，防混合閥(1)至少由閥體(2)、一個或者多個閥座(5，9)、帶有第一桿(6)的第一閥塞(4)和帶有第二桿(10)的第二閥塞(8)構(gòu)成，第二閥塞具有用于導(dǎo)引第一桿的中心中空部件(11)。所述清洗系統(tǒng)具有用于創(chuàng)造兩種不同噴射模式的噴嘴裝置(17)，所述噴嘴裝置配置在第一桿與第二閥塞的中空中心部件之間和/或配置在第一桿和第二閥塞的中空中心部件上，其中第一噴射模式主要用于清洗所述閥的內(nèi)部表面，并且其中第二噴射模式主要用于清洗所述閥座中的一個或者多個，同時閥在生產(chǎn)區(qū)域(14)與排出區(qū)域(15)之間打開。
文檔編號F16K1/44GK102575778SQ201080044931
公開日2012年7月11日 申請日期2010年9月30日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月2日
發(fā)明者J·B·尼爾森 申請人:阿爾法拉瓦爾股份有限公司