抽真空設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明抽真空設(shè)備，屬于抽真空設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的高度發(fā)展，在工業(yè)、商業(yè)、科學(xué)以及研宄機(jī)構(gòu)中使用的密封容器越來越大，由于制造工藝不可能完美無缺，密封點(diǎn)成千上萬，密封裝置不可避免存在泄漏可能，在生產(chǎn)研制過程中，設(shè)備經(jīng)常在材料質(zhì)量、安裝、零件疲勞和結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上出現(xiàn)問題，降低了系統(tǒng)的密封性，導(dǎo)致系統(tǒng)漏氣，致使工件氧化報(bào)廢，影響工業(yè)生產(chǎn)，同時(shí)，傳統(tǒng)的設(shè)備精度較低，無法保證成品率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明克服了現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，提供了抽真空設(shè)備，通過工作實(shí)踐改進(jìn)真空系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，增加過濾閥，降低氣體內(nèi)部殘留物對(duì)高壓真空泵浦的影響，加入低真空計(jì)和高真空計(jì)對(duì)系統(tǒng)內(nèi)部進(jìn)行精確測量，控制設(shè)備精度，同時(shí)運(yùn)用多閥門串聯(lián)方式，保證進(jìn)氣穩(wěn)定性，選擇合適的密封方式，來提高真空系統(tǒng)密封性，從而降低了系統(tǒng)漏氣率，提升設(shè)備安全性能。
[0004]為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案為:抽真空設(shè)備，包括真空腔體、制程系統(tǒng)、破真空系統(tǒng)、低真空系統(tǒng)和高真空系統(tǒng)，所述低真空系統(tǒng)包括第一低真空泵浦和低真空計(jì)，所述第一低真空泵浦和低真空計(jì)均通過管路與真空腔體連接，所述第一低真空泵浦與真空腔體之間設(shè)置有第一電磁閥，所述低真空計(jì)與真空腔體之間設(shè)置有第一隔斷閥；
所述高真空系統(tǒng)包括高真空泵浦和高真空計(jì)，所述高真空泵浦和高真空計(jì)均通過管路與真空腔體連接，所述高真空泵浦與真空腔體之間設(shè)置有第二電磁閥，所述高真空計(jì)與真空腔體之間設(shè)置有第二隔斷閥，所述高真空泵浦與第一低真空泵浦之間設(shè)有第三電磁閥；所述制程系統(tǒng)包括第二低真空泵浦和制程進(jìn)氣管路，所述第二低真空泵浦與真空腔體通過管路連接，所述第二低真空泵浦與真空腔體之間設(shè)置有可調(diào)節(jié)閥件開度的蝴蝶閥和第四電磁閥，所述制程進(jìn)氣管路與真空腔體連接，所述制程進(jìn)氣管路上設(shè)置有控制閥；
所述破真空系統(tǒng)包括第一進(jìn)氣管路和第二進(jìn)氣管路，所述第一進(jìn)氣管路和第二進(jìn)氣管路均與真空腔體連接，所述第一進(jìn)氣管路上設(shè)置有第一進(jìn)氣電磁閥，所述第二進(jìn)氣管路上設(shè)置有用于緩慢進(jìn)氣的針閥和第二進(jìn)氣電磁閥；
所述真空腔體上連接有空氣管路，所述空氣管路上設(shè)置有第三進(jìn)氣電磁閥。
[0005]所述高真空泵浦的進(jìn)氣口和出氣口均設(shè)置有用于過濾氣體的過濾閥。
[0006]所述制程進(jìn)氣管路為一條或兩條。
[0007]所述各個(gè)管路均采用圓弧過渡。
[0008]所述各個(gè)管路之間采用無縫焊接進(jìn)行連接。
[0009]所述真空腔體內(nèi)表面做拋光處理。
[0010]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有的有益效果是:
1、在真空系統(tǒng)中加入低真空計(jì)和高真空計(jì)，分別監(jiān)控抽低真空和抽高真空時(shí)的真空室內(nèi)壓強(qiáng)，確保設(shè)備的精度。
[0011]2、在制程系統(tǒng)中采用蝴蝶閥與電磁閥串聯(lián)結(jié)構(gòu)，通過蝴蝶閥的控制，來控制設(shè)備抽氣量。
[0012]3、在破真空系統(tǒng)中采用針閥與電磁閥串聯(lián)結(jié)構(gòu)，針閥使得氮?dú)饪梢跃徛M(jìn)入真空腔體內(nèi)，避免高真空下突然有大量氣體進(jìn)入損壞內(nèi)部設(shè)備。
[0013]4、在高真空泵浦的進(jìn)氣與出去口均設(shè)置過濾閥，避免因氣體內(nèi)部殘留物滯留在高真空泵浦內(nèi)。
[0014]5、各個(gè)管路均采用圓弧過渡，不留死角，使氣體暢通無阻，有利于打磨拋光和清洗清掃，與此同時(shí)，各個(gè)管路之間采用無縫焊接進(jìn)行連接使氣體通暢，降低系統(tǒng)的漏氣率，提升設(shè)備的安全性能。
[0015]6、打磨拋光真空腔體內(nèi)表面，使其表面光亮如鏡，表面越光亮就越不易氣體吸附，越容易獲得真空。
【附圖說明】
[0016]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的說明。
[0017]圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]圖中，I為真空腔體、2為制程系統(tǒng)、3為破真空系統(tǒng)、4為低真空系統(tǒng)、5為高真空系統(tǒng)、6為空氣管路、21位第二低真空泵浦、22位制程進(jìn)氣管路、23為蝴蝶閥、24為第四電磁閥、25為控制閥、31為第一進(jìn)氣管路、32為第二進(jìn)氣管路、33為第一進(jìn)氣電磁閥、34為針閥、35為第二進(jìn)氣電磁閥、41為第一低真空泵浦、42為低真空計(jì)、43為第一電磁閥、44為第一隔斷閥、51為高真空泵浦、52為高真空計(jì)、53為第二電磁閥、54為第二隔斷閥、55為第三電磁閥、56為過濾閥、61為第三進(jìn)氣電磁閥。
【具體實(shí)施方式】
[0019]如圖1所示，本發(fā)明抽真空設(shè)備，包括真空腔體1、制程系統(tǒng)2、破真空系統(tǒng)3、低真空系統(tǒng)4和高真空系統(tǒng)5，所述低真空系統(tǒng)4包括第一低真空泵浦41和低真空計(jì)42，所述第一低真空泵浦41和低真空計(jì)42均通過管路與真空腔體I連接，所述第一低真空泵浦41與真空腔體I之間設(shè)置有第一電磁閥43，所述低真空計(jì)42與真空腔體I之間設(shè)置有第一隔斷閥44 ；
所述高真空系統(tǒng)5包括高真空泵浦51和高真空計(jì)52，所述高真空泵浦51和高真空計(jì)52均通過管路與真空腔體I連接，所述高真空泵浦51與真空腔體I之間設(shè)置有第二電磁閥53，所述高真空計(jì)52與真空腔體I之間設(shè)置有第二隔斷閥54，所述高真空泵浦51與第一低真空泵浦41之間設(shè)有第三電磁閥55 ;
所述制程系統(tǒng)2包括第二低真空泵浦21和制程進(jìn)氣管路22，所述第二低真空泵浦21與真空腔體I通過管路連接，所述第二低真空泵浦21與真空腔體I之間設(shè)置有可調(diào)節(jié)閥件開度的蝴蝶閥23和第四電磁閥24，所述制程進(jìn)氣管路22與真空腔體I連接，所述制程進(jìn)氣管路22上設(shè)置有控制閥25 ；所述破真空系統(tǒng)3包括第一進(jìn)氣管路31和第二進(jìn)氣管路32，所述第一進(jìn)氣管路31和第二進(jìn)氣管路32均與真空腔體1連接，所述第一進(jìn)氣管路31上設(shè)置有第一進(jìn)氣電磁閥33，所述第二進(jìn)氣管路32上設(shè)置有用于緩慢進(jìn)氣的針閥34和第二進(jìn)氣電磁閥35 ;
所述真空腔體上連接有空氣管路6，所述空氣管路上6設(shè)置有第三進(jìn)氣電磁閥61。
[0020]所述高真空泵浦的進(jìn)氣口和出氣口均設(shè)置有用于過濾氣體的過濾閥56。
[0021]所述制程進(jìn)氣管路22為一條或兩條。
[0022]所述各個(gè)管路均采用圓弧過渡。
[0023]所述各個(gè)管路之間采用無縫焊接進(jìn)行連接。
[0024]所述真空腔體1內(nèi)表面做拋光處理。
[0025]具體工作過程:
將工作件放入真空腔體1內(nèi)，開啟低真空系統(tǒng)4，啟動(dòng)第一低真空泵浦41，打開第一電磁閥43，氣體從真空腔體1中抽出，打開第一隔斷閥44使低真空計(jì)42顯示腔體的氣壓；當(dāng)腔體進(jìn)入低真空狀態(tài)后，開啟高真空系統(tǒng)5，關(guān)閉第一電磁閥43，打開第三電磁閥55，啟動(dòng)高真空泵浦51，打開第二電磁閥53，對(duì)真空腔室1進(jìn)行抽高真空，打開第二隔斷閥54使高真空計(jì)52顯示腔體氣壓，至此，完成將腔體由低真空抽至高真空的過程；關(guān)閉第一電磁閥43和第二電磁閥53，開啟制程系統(tǒng)2，啟動(dòng)第二低真空泵浦21，打開蝴蝶閥23和第四電磁閥24，對(duì)真空腔體1進(jìn)行制程抽氣，調(diào)整控制閥25對(duì)腔體內(nèi)氣壓進(jìn)行調(diào)節(jié)；制程完成后，關(guān)閉制程系統(tǒng)2，關(guān)閉第一隔斷閥44和第二隔斷閥54，啟動(dòng)破真空系統(tǒng)3，打開針閥34和第二進(jìn)氣電磁閥35，將氮?dú)饩徛ㄈ胝婵涨惑w1內(nèi)，進(jìn)氣5到10秒后，打開第一進(jìn)氣電磁閥33并完成破真空。
[0026]設(shè)備上設(shè)置有空氣管路6，當(dāng)需要向系統(tǒng)內(nèi)注入空氣時(shí)，打開第三進(jìn)氣電磁閥61即可將空氣進(jìn)入真空腔體1中。
[0027]上面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例作了詳細(xì)說明，但是本發(fā)明并不限于上述實(shí)施例，在本領(lǐng)域普通技術(shù)人員所具備的知識(shí)范圍內(nèi)，還可以在不脫離本發(fā)明宗旨的前提下作出各種變化。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.抽真空設(shè)備，其特征在于:包括真空腔體(1)、制程系統(tǒng)(2)、破真空系統(tǒng)(3)、低真空系統(tǒng)(4)和高真空系統(tǒng)(5)，所述低真空系統(tǒng)(4)包括第一低真空泵浦(41)和低真空計(jì)(42)，所述第一低真空泵浦(41)和低真空計(jì)(42)均通過管路與真空腔體(I)連接，所述第一低真空泵浦(41)與真空腔體(I)之間設(shè)置有第一電磁閥(43)，所述低真空計(jì)(42)與真空腔體(I)之間設(shè)置有第一隔斷閥(44 ); 所述高真空系統(tǒng)(5)包括高真空泵浦(51)和高真空計(jì)(52)，所述高真空泵浦(51)和高真空計(jì)(52)均通過管路與真空腔體(I)連接，所述高真空泵浦(51)與真空腔體(I)之間設(shè)置有第二電磁閥(53)，所述高真空計(jì)(52)與真空腔體(I)之間設(shè)置有第二隔斷閥(54)，所述高真空泵浦(51)與第一低真空泵浦(41)之間設(shè)有第三電磁閥(55); 所述制程系統(tǒng)(2)包括第二低真空泵浦(21)和制程進(jìn)氣管路(22)，所述第二低真空泵浦(21)與真空腔體(I)通過管路連接，所述第二低真空泵浦(21)與真空腔體(I)之間設(shè)置有可調(diào)節(jié)閥件開度的蝴蝶閥(23)和第四電磁閥(24)，所述制程進(jìn)氣管路(22)與真空腔體(I)連接，所述制程進(jìn)氣管路(22 )上設(shè)置有控制閥(25 ); 所述破真空系統(tǒng)(3)包括第一進(jìn)氣管路(31)和第二進(jìn)氣管路(32)，所述第一進(jìn)氣管路(31)和第二進(jìn)氣管路(32)均與真空腔體(I)連接，所述第一進(jìn)氣管路(31)上設(shè)置有第一進(jìn)氣電磁閥(33)，所述第二進(jìn)氣管路(32)上設(shè)置有用于緩慢進(jìn)氣的針閥(34)和第二進(jìn)氣電磁閥(35)； 所述真空腔體上連接有空氣管路(6)，所述空氣管路上(6)設(shè)置有第三進(jìn)氣電磁閥(61)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述抽真空設(shè)備，其特征在于:所述高真空泵浦的進(jìn)氣口和出氣口均設(shè)置有用于過濾氣體的過濾閥(56)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述抽真空設(shè)備，其特征在于:所述制程進(jìn)氣管路(22)為一條或兩條。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述抽真空設(shè)備，其特征在于:所述各個(gè)管路均采用圓弧過渡。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述抽真空設(shè)備，其特征在于:所述各個(gè)管路之間采用無縫焊接進(jìn)行連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述抽真空設(shè)備，其特征在于:所述真空腔體(I)內(nèi)表面做拋光處理。
【專利摘要】本發(fā)明抽真空設(shè)備，屬于抽真空設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域；解決的技術(shù)問題是提供了抽真空設(shè)備，通過工作實(shí)踐改進(jìn)真空系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，增加過濾閥，降低氣體內(nèi)部殘留物對(duì)高壓真空泵浦的影響，加入低真空計(jì)和高真空計(jì)對(duì)系統(tǒng)內(nèi)部進(jìn)行精確測量，控制設(shè)備精度，同時(shí)運(yùn)用多閥門串聯(lián)方式，保證進(jìn)氣穩(wěn)定性，選擇合適的密封方式，來提高真空系統(tǒng)密封性，從而降低了系統(tǒng)漏氣率，提升設(shè)備安全性能；采用的技術(shù)方案為：抽真空設(shè)備，包括真空腔體、制程系統(tǒng)、破真空系統(tǒng)、低真空系統(tǒng)和高真空系統(tǒng)，各個(gè)系統(tǒng)分別與真空腔體連接，實(shí)現(xiàn)抽低真空，抽高真空，制程進(jìn)氣和破真空的工作過程；本發(fā)明可廣泛應(yīng)用于抽真空設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。
【IPC分類】F04B37-14, F04B53-16, F04B49-22, F04B51-00, F04B53-00
【公開號(hào)】CN104832398
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510174401
【發(fā)明人】袁建清
【申請(qǐng)人】山西南燁立碁光電有限公司
【公開日】2015年8月12日
【申請(qǐng)日】2015年4月14日