大型中、高真空抽氣機組及其抽氣工藝的制作方法
【專利摘要】一種大型中、高真空抽氣機組及其抽氣工藝，采用并聯(lián)抽氣的深冷水汽泵、牽引分子泵和化學吸附泵機組，取代傳統(tǒng)串聯(lián)抽氣的擴散泵+羅茨泵機組。其中，牽引分子泵用于抽除壓強幾百Pa~幾Pa區(qū)段的氣體；深冷水汽泵和牽引分子泵并聯(lián)，用于抽除壓強幾Pa~10-2Pa區(qū)段的氣體；牽引分子泵、深冷水汽泵和化學吸附泵并聯(lián)，用于抽除≤10-2Pa區(qū)段的氣體；從而實現(xiàn)提高中、高真空交接區(qū)段的抽氣能力，降低抽氣能耗和運行成本，消除油蒸汽污染和提高真空產品質量。
【專利說明】大型中、高真空抽氣機組及其抽氣工藝【技術領域】
[0001]本發(fā)明屬于真空鍍膜【技術領域】，尤其涉及一種大型中、高真空抽氣機組及其抽氣工藝。
【背景技術】
[0002]傳統(tǒng)大型中、高真空抽氣機組采用擴散泵+羅茨泵+粗抽泵機組(簡稱擴散泵機組)抽氣，其存在如下缺點:
1.能耗高。擴散泵、羅茨泵都是高能耗泵，一臺有效抽速I萬L/S的擴散泵機組，標稱能耗超過40kW，年耗電超過30萬度。
[0003]2.擴散泵利用油蒸汽射流抽氣，油蒸汽污染嚴重，影響真空產品的質量。
[0004]3.擴散泵啟動時間長(約60min)，抽氣利用率低，并且進一步增加了抽氣能耗。
[0005]上述缺點是當今大型中、高真空設備亟待解決，但一直未能攻克的難題。
[0006]近年來，多項專利，例如
專利號:ZL 201010100309.X (大型中、高真空抽氣機組)
專利號:201210170072.1 (一種抽氣系統(tǒng)及工藝)
專利號:201310241954.7 (真空爐抽氣系統(tǒng)及其抽氣工藝)
專利號:201310242244.6 (蒸發(fā)鍍膜設備及其抽氣工藝)
專利號:201310241939.2 (等離子體鍍膜設備及其抽氣工藝)
專利號:2013106902616 (并聯(lián)環(huán)流泵、組合環(huán)流泵、復合環(huán)流泵及其抽氣機組)
提出了由牽引分子泵+化學吸附泵組成的多種新型抽氣機組，在中真空和高真空區(qū)段獲得了相當不錯的抽氣能力，但在中、高真空的交接(幾Pa~10_2Pa)區(qū)段，抽速偏低，影響了抽氣機組的整體性能，限制了這些機組的推廣應用。

【發(fā)明內容】

[0007]本發(fā)明的目的在于克服上述現(xiàn)有技術的不足，提供一種大型中、高真空抽氣機組，該抽氣機組能顯著提高幾P aKr2Pa區(qū)段的抽速，降低抽氣能耗，消除油蒸汽污染，提高真
空產品質量。
[0008]本發(fā)明是這樣實現(xiàn)的，一種大型中、高真空抽氣機組，包括真空室，所述真空室分別與一粗抽泵、一牽引分子泵、一深冷水汽泵和一化學吸附泵連接，所述牽引分子泵的排氣口與一前級泵連接。
[0009]具體地，所述真空室和粗抽泵之間設有一第一真空閥，所述真空室和牽引分子泵之間設有一第二真空閥，所述真空室和深冷水汽泵之間設有一第三真空閥，所述真空室和化學吸附泵之間設有一第四真空閥，所述牽引分子泵的排氣口和前級泵之間設有一第五真空閥。
[0010]為了清晰地了解本發(fā)明的優(yōu)點，以下將本發(fā)明的抽氣機組與尺寸大體相同的傳統(tǒng)擴散泵機組的抽速(已扣除擋油阱的損耗)作比較。[0011]粗抽區(qū)段:本發(fā)明與傳統(tǒng)抽氣機組相同，均由粗抽泵抽氣；
中真空階段:傳統(tǒng)抽氣機組由羅茨泵抽氣，其平均抽速較低，約1，000 L/s，而且，抽速隨壓強降低顯著下降，與真空設備的要求“壓強越低，要求抽速越高”正好相反，因此，抽氣效率較低；本發(fā)明的抽氣機組采用牽引分子泵抽氣，牽引分子泵在本區(qū)段的平均抽速約1，500 L/s,高出羅茨泵50%，加上抽速隨壓強降低迅速增大，與真空設備的要求相符，實際抽氣效率顯著優(yōu)于羅茨泵。
[0012]中、高真空交接區(qū)段:該區(qū)段中，真空設備的氣體負載主要來自真空室內壁以及工件表面吸附氣體的解吸，氣體總量較大(其中水蒸汽約90%)。該區(qū)段，傳統(tǒng)抽氣機組由擴散泵抽氣，該區(qū)段壓強大部分超過0.1Pa (擴散泵正常運行的最高壓強)，因此，抽氣效率低下，平均抽速不到10，000 L/s，成為當今真空獲得技術中的一大瓶頸。本發(fā)明的抽氣機組采用深冷水汽泵和牽引分子泵并聯(lián)抽氣，其中牽引分子泵抽速為3，OOOL/s，深冷水汽泵(冷凝面面積約0.2m2)對可凝氣體的抽速為20，OOOL/s，深冷水汽泵和牽引分子泵并聯(lián)的抽速，約為擴散泵機組的2倍。
[0013]高真空階段:傳統(tǒng)抽氣機組由擴散泵抽氣,抽速約15，000L/s ;本發(fā)明的抽氣機組采用化學吸附泵、深冷水汽泵和牽引分子泵并聯(lián)抽氣。其中牽引分子泵抽速為3，OOOL/s，深冷水汽泵對可凝氣體的抽速為20，OOOL/s，但本區(qū)段普遍采用烘烤除氣工藝，可凝氣體比率約為10%，因此，深冷水汽泵的有效抽速僅為2，OOOL/s;然而，化學吸附泵利用化學反應抽氣，抽除氣體分子數(shù)總量恒定，因此，壓強越低，單位體積中的分子數(shù)少，抽速就越大，在本區(qū)段的抽速可達20，OOOL/s， 牽引分子泵、深冷水汽泵和化學吸附泵并聯(lián)，合計抽速約為擴散泵機組的1.6倍。
[0014]本發(fā)明的抽氣機組的優(yōu)化抽氣工藝如下:
(1)粗抽階段(IO5Pa~幾百Pa):由粗抽泵抽氣；
(2)中真空階段(幾百Pa~幾Pa):由牽引分子泵或牽引分子泵+前級泵抽氣；
(3)高真空階段(幾Pa~10_2Pa):由深冷水汽泵和牽引分子泵并聯(lián)抽氣；
(4)高真空階段(10_2Pa~所需的壓強):由化學吸附泵、深冷水汽泵和牽引分子泵并聯(lián)抽氣。
[0015]本發(fā)明還包括所述抽氣機組的典型應用:大型蒸發(fā)鍍膜設備和真空爐。本發(fā)明所述應用設備與傳統(tǒng)設備相比，節(jié)省抽氣能耗，降低運行費用，還能消除油蒸汽污染，提高真
空產品的質量。
[0016]本發(fā)明的深冷水汽泵長時間運行(約幾十小時)，其冷凝面會出現(xiàn)可凝氣體吸附飽和現(xiàn)象，抽速顯著下降，此時，深冷水汽泵需要再生(即清除吸附可凝氣體)。
[0017]再生方法:深冷水汽泵由制冷轉換成制熱，清除吸附氣體；或者關閉深冷水汽泵，利用真空升華(不需要加熱)清除吸附氣體。
[0018]本發(fā)明的化學吸附泵長時間運行(約幾百小時)，需定期補充，替換吸附材料，以及清除化學吸附生成的固相物質。
[0019]本發(fā)明的優(yōu)點如下:
(I)抽氣能力強，抽速約為傳統(tǒng)抽氣機組的1.5^2倍。
[0020](2)能耗低，相同抽速情況下，能耗僅為傳統(tǒng)抽氣機組的1/10-?/4，每臺抽氣機組平均節(jié)電25萬度/年。[0021](3)消除油蒸汽污染，提高真空產品質量。
[0022](4)抽氣利用率高，啟動時間短，僅幾分鐘，僅為擴散泵的1/10。
[0023](5)粗抽泵運行時間短，一套粗抽泵可供5~10臺真空機組共用，節(jié)省設備、費用和占地空間。
[0024](6)資金回收快。一年節(jié)省的運行費用，即可收回增加的設備費用。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0025]為了更清楚地說明本發(fā)明的技術方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0026]圖1是本發(fā)明實施例一提供的一種大型中、高真空抽氣機組的示意圖。
[0027]圖2是本發(fā)明實施例二提供的一種大型中、高真空抽氣機組的示意圖。
[0028]圖3是本發(fā)明實施例三提供的一種大型中、高真空抽氣機組的示意圖。
【具體實施方式】
[0029]下面將結合本發(fā)明實 施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述。
[0030]實施例一
如圖1所示，本發(fā)明實施例一提供的一種大型中、高真空抽氣機組，包括真空室10，真空室10分別與一粗抽泵11、一牽引分子泵12、一深冷水汽泵13和一化學吸附泵14連接，牽引分子泵12的排氣口與一前級泵15連接。其中，真空室10和粗抽泵11之間設有一第一真空閥16，真空室10和牽引分子泵12之間設有一第二真空閥17，真空室10和深冷水汽泵13之間設有一第三真空閥18，真空室10和化學吸附泵14之間設有一第四真空閥19，牽引分子泵12的排氣口和前級泵15之間設有一第五真空閥110。
[0031]本實施例一提供的大型中、高真空抽氣機組的抽氣工藝和深冷水汽泵的再生工藝具體如下:
1.首次抽氣步驟:
(1)準備階段:真空室10裝料完畢，關閉真空室10，關閉第一真空閥16、第二真空閥17、第三真空閥18、第四真空閥19和第五真空閥110，粗抽泵11、牽引分子泵12、深冷水汽泵13、化學吸附泵14和前級泵15均置于停止狀態(tài)；
(2)開啟前級泵15，打開真空閥110，啟動牽引分子泵12；
(3)依次開啟粗抽泵11，打開第一真空閥16、第三真空閥18和第四真空閥19，真空室10、深冷水汽泵13和化學吸附泵14由粗抽泵11抽氣；
(4)當真空室10的壓強降至幾百Pa，并且牽引分子泵12已啟動完畢時，依次關閉第一真空閥16和粗抽泵11，打開第二真空閥17，真空室10、深冷水汽泵13和化學吸附泵14由牽引分子泵12抽氣；
(5)當真空室10的壓強降至幾Pa時，啟動深冷水汽泵13(若深冷水汽泵13啟動時間較長，應適當提前啟動)，牽引分子泵12和深冷水汽泵13并聯(lián)抽氣；
(6)當真空室10的壓強降至≤0.1 Pa時，啟動吸化學吸附泵14，牽引分子泵12、深冷水汽泵13和化學吸附泵14并聯(lián)抽氣，直至真空室10達到所需的真空度。
[0032]2.停止抽氣步驟:
(1)依次關閉第二真空閥17、第三真空閥18和第四真空閥19，關閉化學吸附泵14、深冷水汽泵13和牽引分子泵12;
(2)向真空室10注入大氣，打開真空室10，取出工件。
[0033](3)關閉真空室10，依次開啟粗抽泵11，打開第一真空閥16，真空室10由粗抽泵11抽至幾十Pa，依次關閉第一真空閥16和粗抽泵11，抽氣機組終止運行，真空室10保持在真空狀態(tài)。
[0034]需要注意的是，在化學吸附泵14的吸附材料未冷卻之前，應避免暴露于大氣，從而減少吸附材料損耗，縮短化學吸附泵14隨后運行的啟動時間。
[0035]3.深冷水汽泵13的再生:
將深冷水汽泵13由制冷模式切換成制熱模式，即可清除冷凝面上吸附的可凝氣體，完成深冷水汽泵13的再生。
[0036]實施例二
如圖2所示，本發(fā)明實施例二提供了一種蒸發(fā)鍍膜設備，其采用實施例一所述的抽氣機組抽氣。
[0037]本實施例二與實施例一基本相同，其差別在于實施例一中的真空室10由鍍膜室20取代。具體如下:本實施例二蒸發(fā)鍍膜設備包括鍍膜室20，鍍膜室20分別與一粗抽泵21、一牽引分子泵22、一深冷水汽泵23和一化學吸附泵24連接，牽引分子泵22的排氣口與一前級泵25連接。
[0038]其中，鍍膜室20和粗抽泵21之間設有一第一真空閥26，鍍膜室20和牽引分子泵22之間設有一第二真空閥27，鍍膜室20和深冷水汽泵23之間設有一第三真空閥28，鍍膜室20和化學吸附泵24之間設有一第四真空閥29，牽引分子泵22的排氣口和前級泵25之間設有一第五真空閥210。
[0039]本實施例二提供的蒸發(fā)鍍膜設備的抽氣工藝和深冷水汽泵的再生工藝具體如下:
1.首次鍍膜抽氣步驟:
(1)鍍膜室20裝料完畢，關閉鍍膜室20，關閉第一真空閥26、第二真空閥27、第三真空閥28、第四真空閥29和第五真空閥210，粗抽泵21、牽引分子泵22、深冷水汽泵23、化學吸附泵24和前級泵25均置于停止狀態(tài)；
(2)依次開啟前級泵25，打開真空閥210，啟動牽引分子泵22；
(3)依次開啟粗抽泵21，打開第一真空閥26、第三真空閥28和第四真空閥29，鍍膜室20、深冷水汽泵23和化學吸附泵24由粗抽泵21抽氣；
(4)當鍍膜室20的壓強降至100Pa，并且，牽引分子泵22已啟動完畢時，依次關閉第一真空閥26和粗抽泵21，打開第二真空閥27，鍍膜室20、深冷水汽泵23和化學吸附泵14由牽引分子泵22抽氣；
(5)當鍍膜室20的壓強降至IPa時，開啟深冷水汽泵23 (若深冷水汽泵23啟動時間較長，應適當提前啟動)，鍍膜室20和化學吸附泵24由牽引分子泵22和深冷水汽泵23并聯(lián)抽氣； (7)當鍍膜室20的壓強降至0.3 Pa時，關閉第四真空閥29，啟動化學吸附泵24 ；
(8)當鍍膜室20的壓強降至<0.1 Pa，并且化學吸附泵24已開始抽氣時，打開第四真空閥29，鍍膜室20由牽引分子泵22、深冷水汽泵23和化學吸附泵24并聯(lián)抽氣；
(9)當鍍膜室20壓強降至蒸發(fā)鍍膜的要求(通常為5X10_2Pa)時，開始鍍膜；
(10)鍍膜完成，依次關閉第二真空閥27、第三真空閥28、第四真空閥29，關閉化學吸附栗栗24 ；
(11)向鍍膜室20注入大氣，打開鍍膜室20，取出工件，完成本次鍍膜周期。
[0040]2.終止鍍膜步驟:
上述鍍膜周期完成后，若需終止運行，按下述步驟操作:
(O依次關閉牽引分子泵22和深冷水汽泵23 ；
(2)關閉鍍膜室20，開啟粗抽泵21，打開第一真空閥26，鍍膜室20由粗抽泵21抽氣，當鍍膜室20的壓強抽至<幾十Pa時，依次關閉第一真空閥26和粗抽泵21，鍍膜室20保持真空狀態(tài)；
(3)牽引分子泵22停止后，依次關閉第五真空閥210和前級泵25。
[0041]3.繼續(xù)鍍膜步驟:
上述鍍膜完成后，若緊接著進行下一次鍍膜，則上述首次鍍膜步驟(11)完成后，按下述步驟繼續(xù)操作:
(1)鍍膜室20重新裝料，關閉鍍膜室20；
(2)開啟粗抽泵21，打開第五真空閥210；
(3)當鍍膜室20的壓強降至約100Pa時，依次關閉第五真空閥210和粗抽泵21，打開第二真空閥27，鍍膜室20由牽引分子泵22抽氣；
(4)當鍍膜室20的壓強降至幾Pa時，打開第三真空閥28，鍍膜室20由牽引分子泵22和深冷水汽泵13并聯(lián)抽氣；
(5)當鍍膜室20壓強降至約0.1Pa時，依次開啟化學吸附泵24和真空閥第四真空閥29，鍍膜室20由牽引分子泵22、深冷水汽泵23和化學吸附泵24并聯(lián)抽氣；
(6)當鍍膜室20壓強降至蒸發(fā)鍍膜要求的壓強(通常為5X10_2Pa)時，開始鍍膜；
(7)鍍膜結束，依次關閉第二真空閥27、第三真空閥28、第四真空閥29，關閉化學吸附栗栗24 ；
(8)向鍍膜室20注入大氣，打開鍍膜室20，取出工件，完成本次鍍膜周期。
[0042]4.深冷水汽泵23再生步驟:
深冷水汽泵23長時間運行(約完成鍍膜周期幾十次后)，其冷凝面會出現(xiàn)吸附飽和現(xiàn)象，抽速顯著下降，此時，深冷水汽泵23需要再生，清除深冷水汽泵23冷凝表面吸附的水分子。由于蒸發(fā)鍍膜的運行周期較短，其再生工藝可安排在兩次鍍膜之間，利用真空升華完成，具體操作步驟如下:
(1)鍍膜周期完成后，依次關閉鍍膜室20和深冷水汽泵23、然后，開啟粗抽泵21，打開第一真空閥26和第三真空閥28，深冷水汽泵23由粗抽泵21抽氣；
(2)深冷水汽泵23的冷凝面上吸附的水分子升華清除完畢(約10min)，即完成深冷水汽泵23的再生。
[0043]實施例三如圖3所示，本發(fā)明實施例三提供的一種真空爐，采用實施例一所述的抽氣機組抽氣。
[0044]本實施例三與實施例二的結構類似，包括粗抽泵31、牽引分子泵32、深冷水汽泵33、化學吸附泵34、前級泵35、第一真空閥36、第二真空閥37、第三真空閥38、第四真空閥39和第五真空閥310，其差別在于實施例二中的鍍膜室20由真空爐腔30取代；深冷水汽泵33經第六真空閥311與小型清潔高真空泵(例如牽引分子泵)312相連，小型清潔高真空泵312的排氣口經第七真空閥313與小型粗抽泵314相連，構成深冷水汽泵33專用的再生裝置。
[0045]本實施例三提供的真空爐的抽氣工藝以及深冷水汽泵的再生工藝如下:
1.真空爐的抽氣步驟:
(1)真空爐腔30裝料完畢，關閉真空爐腔30，關閉第一真空閥36、第二真空閥37、第三真空閥38、第四真空閥39、第五真空閥310、第六真空閥311和第七真空閥313，粗抽泵31、牽引分子泵32，粗抽泵31、牽引分子泵32、深冷水汽泵33、化學吸附泵34、前級泵35、小型清潔高真空泵312和小型粗抽泵314均置于停止狀態(tài)；
(2)開啟前級泵35，打開第五真空閥310，啟動牽引分子泵32；
(3)依次開啟粗抽泵31， 打開第一真空閥36、第三真空閥38和第四真空閥39，真空爐腔30、深冷水汽泵33和化學吸附泵34由粗抽泵31抽氣；
(4)當真空爐腔30的壓強降至約100Pa時，并且，牽引分子泵32已啟動完畢時，依次關閉第一真空閥36和粗抽泵31，打開第二真空閥37，真空爐腔30、深冷水汽泵33和化學吸附泵34由牽引分子泵32抽氣；
(5)當真空爐腔30的壓強降至幾Pa時，開啟深冷水汽泵33(若深冷水汽泵33啟動時間較長，可提前啟動)，真空爐腔30和化學吸附泵34由牽引分子泵32和深冷水汽泵33并聯(lián)抽氣；
(6)當真空爐腔30的壓強降至約0.3 Pa時，關閉第四真空閥39，啟動化學吸附泵34 ；
(7)當真空爐腔30的壓強<0.1 Pa，并且化學吸附泵34已開始抽氣(化學吸附泵34的吸附材料表面氧化嚴重時，啟動時間約3~5分鐘，氧化輕微時，約f 5秒)時，打開第四真空閥39，真空爐腔30由牽引分子泵32、深冷水汽泵33和化學吸附泵34并聯(lián)抽氣，直至抽到真空爐腔30所需的真空度；
(8)真空爐完成全部操作后，依次關閉第二真空閥37、第三真空閥38和第四真空閥39，關閉化學吸附泵34、深冷水汽泵33和牽引分子泵32。
[0046](9)向真空爐腔30注入大氣，打開真空爐腔30，取出工件，真空爐完成本次運行周期。
[0047]2.真空爐停止運行步驟:
(1)關閉真空爐腔30，開啟粗抽泵31，打開第一真空閥36，真空爐腔30由粗抽泵31抽
氣;
(2)當真空爐腔30的壓強抽至≤幾十Pa時，依次關閉第一真空閥36和粗抽泵31；
(3)牽引分子泵32停止后，依次關閉第五真空閥310和前級泵35；
(4)真空爐終止運行，真空室腔30保持真空狀態(tài)。
[0048]3.深冷水汽泵的再生步驟:
真空爐的運行周期普遍較長，真空爐運行過程中，深冷水汽泵33冷凝面吸附飽和現(xiàn)象時有發(fā)生，因此，本實施例三的深冷水汽泵33需采用如下不影響真空爐正常抽氣的再生工藝:
(1)當深冷水汽泵33冷凝面出現(xiàn)吸附飽和時，依次關閉第三真空閥38和深冷水汽泵
33 ；
(2)依次開啟粗抽泵31、打開第六真空閥311，開啟小型清潔高真空泵312，打開第七真空閥313，深冷水汽泵33由小型清潔高真空泵和粗抽泵31組成的串聯(lián)機組抽氣，實施真空升華再生；
(3)當深冷水汽泵33冷凝板上吸附的可凝氣體全部清除(約10min)，啟動深冷水汽泵33。
[0049](4)深冷水汽泵33啟動完畢(壓強降至≤10_2Pa)時，依次關閉第七真空閥313、小型清潔高真空泵312、第六真空閥311和粗抽泵31，完成再生；
(5)打開第三真空閥38，深冷水汽泵33重新進入真空爐腔30的抽氣機組。
[0050]以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應當指出，對于本【技術領域】的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也視為本發(fā)明的保護范圍。
【權利要求】
1.一種大型中、高真空抽氣機組，包括真空室，其特征在于，所述真空室分別與一粗抽泵、一牽引分子泵、一深冷水汽泵和一化學吸附泵連接，所述牽引分子泵的排氣口與一前級泵連接。
2.根據(jù)權利要求1所述的大型中、高真空抽氣機組，其特征在于，所述真空室和粗抽泵之間設有一第一真空閥，所述真空室和牽引分子泵之間設有一第二真空閥，所述真空室和深冷水汽泵之間設有一第三真空閥，所述真空室和化學吸附泵之間設有一第四真空閥，所述牽引分子泵的排氣口和前級泵之間設有一第五真空閥。
3.一種蒸發(fā)鍍膜設備，其特征在于，采用權利要求1或2所述的抽氣機組抽氣。
4.根據(jù)權利要求3所述的蒸發(fā)鍍膜設備，其特征在于，利用相鄰兩次鍍膜周期之間的間隔，采用所述蒸發(fā)鍍膜設備中的粗抽泵對深冷水汽泵實施真空升華再生。
5.一種真空爐，其特征在于，采用權利要求1或2所述的抽氣機組抽氣。
6.一種權利要求5所述的真空爐，其特征在于，在不中斷真空抽氣的條件下，利用真空抽氣機組，對深冷水汽泵實施真空升華再生。
7.—種如權利要求1或2所述的大型中、高真空抽氣機組的抽氣工藝，其特征在于包括如下步驟， (1)粗抽階段(IO5Pa?幾百Pa):由粗抽泵抽氣； (2)中真空階段(幾百Pa?幾Pa):由牽引分子泵或牽引分子泵+前級泵抽氣； (3)高真空階段(幾Pa?10_2Pa):由深冷水汽泵和牽引分子泵并聯(lián)抽氣； (4)高真空階段(10_2Pa?所需的壓強):由化學吸附泵、深冷水汽泵和牽引分子泵并聯(lián)抽氣。
【文檔編號】F04B37/14GK103758733SQ201410043412
【公開日】2014年4月30日 申請日期:2014年1月29日 優(yōu)先權日:2014年1月29日
【發(fā)明者】儲繼國 申請人:儲繼國