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一種單極式離子膜電解槽的制作方法

文檔序號(hào):10994472閱讀:896來源:國知局
一種單極式離子膜電解槽的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型的目的在于提供一種單極式離子膜電解槽,該裝置包括陰極槽、陰極支撐底網(wǎng)、舌簧片單元、R陰極網(wǎng)、離子膜、陽極網(wǎng)、陽極槽;其中,離子膜把電解槽隔成陰極槽和陽極槽;離子膜在陰極支撐底網(wǎng)與陽極網(wǎng)之間;陰極支撐底網(wǎng)(即為原電解槽陰極)位于陰極槽一邊,平行于離子膜設(shè)置,并與離子膜之間留有間隙;舌簧片單元由若干個(gè)舌簧片組成,舌簧片與舌簧片之間留有間隙,所有舌簧片設(shè)置于陰極支撐底網(wǎng)和離子膜之間,其一端焊于陰極支撐底網(wǎng)上;R陰極網(wǎng)作為陰極,設(shè)置于舌簧片和離子膜之間,并與離子膜緊密貼合;陽極網(wǎng)位于陽極槽一邊,與離子膜緊密貼合設(shè)置。該裝置提供了一種新的節(jié)能方式,同時(shí)便于后期維護(hù),適合推廣應(yīng)用。
【專利說明】
一種單極式離子膜電解槽
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及具有膜的各種電解裝置,尤其適合于氯堿行業(yè)技術(shù)領(lǐng)域,特別提供了一種節(jié)能效果顯著的單極式離子膜電解槽。
【背景技術(shù)】
[0002]在氯堿行業(yè)生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域中,如在離子膜電解槽中,分陽極槽和陰極槽,陽極槽下端通Nacl精制鹽水,陰極槽下端通水,在通直流電情況下,食鹽水被電解,陽極槽上端有氯氣排出,陰極槽上端有氫氣和NaOH排出。以往電解槽大多為有極距電解槽,即陰、陽極距通常在2?3mm之間。在電化學(xué)反應(yīng)中,這個(gè)極距出現(xiàn)了嚴(yán)重的耗能,同時(shí)原陰極網(wǎng)再重涂時(shí)因拆卸和安裝也帶來了復(fù)雜的維修。
[0003]在有膜的電解裝置中因考慮到其加工制造和安裝方便,在現(xiàn)有設(shè)計(jì)中陰極和陽極之間有一定距離,本實(shí)用新型所述裝置為達(dá)到膜極距特作如下改進(jìn),即把原陰極網(wǎng)變成陰極支撐底網(wǎng)(維修時(shí)不再涂制),在其上焊有布滿多條具有彈性的舌簧片,然后在舌簧片上覆蓋R陰極網(wǎng),采用R陰極網(wǎng)作為新陰極,通過原來膜與原陽極緊密貼合以達(dá)到膜極距改造的目的。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型的目的在于提供一種節(jié)能效果顯著的單極式離子膜電解槽,該裝置提供了一種新的節(jié)能方式,同時(shí)便于后期維護(hù),適合推廣應(yīng)用。
[0005]本實(shí)用新型具體提供了一種單極式離子膜電解槽,其特征在于:包括陰極槽1、陰極支撐底網(wǎng)2、舌簧片單元3、R陰極網(wǎng)4、離子膜5、陽極網(wǎng)6、陽極槽7;
[0006]其中,離子膜5把電解槽隔成陰極槽I和陽極槽7;離子膜5在陰極支撐底網(wǎng)2與陽極網(wǎng)6之間;陰極支撐底網(wǎng)2(即為原電解槽陰極)位于陰極槽I一邊,平行于離子膜5設(shè)置,并與離子膜5之間留有間隙;舌簧片單元3由若干個(gè)(通常為10-30個(gè))舌簧片組成,舌簧片與舌簧片之間留有間隙,所有舌簧片設(shè)置于陰極支撐底網(wǎng)2和離子膜5之間,其一端焊于陰極支撐底網(wǎng)2上;R陰極網(wǎng)4作為陰極,設(shè)置于舌簧片和離子膜5之間,并與離子膜5緊密貼合;陽極網(wǎng)6位于陽極槽7—邊,與離子膜5緊密貼合設(shè)置。
[0007]其中,所述舌簧片寬52-68mm(優(yōu)選60mm),其每條長(zhǎng)度和布置數(shù)量視裝置尺寸而定,舌簧片單元3中每個(gè)舌簧片之間間隔為4.2-4.5mm(優(yōu)選4.2mm)。
[0008]所述舌簧片單元3中每條舌簧片設(shè)有若干個(gè)舌片31,相鄰舌片31相對(duì)交錯(cuò)對(duì)應(yīng)布置,每條舌片31長(zhǎng)為32?38mm(優(yōu)選35mm),寬為3.5?4.5mm(優(yōu)選4.Imm),厚度為0.15?
0.3mm(優(yōu)選0.2mm);每條舌片31之間留有0.5?Imm(優(yōu)選lmm)的間隙以防止運(yùn)動(dòng)時(shí)干涉,舌片31自然高度5?7mm(優(yōu)選6.6mm)。圖2、3為舌簧片的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0009]本實(shí)用新型所述單極式離子膜電解槽,其特征在于:所述R陰極網(wǎng)4由鎳絲編織網(wǎng)制成;所述舌簧片為耐堿腐蝕的鎳材或310S不銹鋼制成的舌簧片,具有較高硬度,用氬弧焊或電阻焊焊于陰極支撐底網(wǎng)2上。
[0010]本實(shí)用新型所述單極式離子膜電解槽,其特征在于:所述R陰極網(wǎng)4平鋪于舌簧片單元3上面,其四邊通過使用四氟線縫織在陰極支撐底網(wǎng)2上固定。
[0011]本實(shí)用新型的特點(diǎn)在于:
[0012]1、由于采用具有很好彈性的舌簧片,使彈性始終保持不變,故長(zhǎng)期使陰極與陽極保持膜極距狀態(tài),進(jìn)而節(jié)能效果明顯、長(zhǎng)期、穩(wěn)定、可靠。
[0013]2、由于舌簧片的舌片是相對(duì)交錯(cuò)對(duì)應(yīng)布置,在工作狀態(tài)時(shí),不會(huì)使離子膜發(fā)生整體偏移,故不會(huì)發(fā)生離子膜受力破損。
[0014]3、R陰極網(wǎng)是由鎳絲編織而成,具有柔軟性,一方面能保證膜極距處于最佳狀態(tài),同時(shí)也具有裝拆方便利于平整的特征,故可多次重涂和使用,安裝也非常便捷、省時(shí),省力,給后期維護(hù)帶來了方便。
[0015]4、每條舌簧片都平焊于陰極支撐底網(wǎng)上,施工方便,且與壓紋編織網(wǎng)相比,舌簧片用料少,成本低。
[0016]5、舌簧片高度,每條長(zhǎng)度和布置數(shù)量隨改造裝置的結(jié)構(gòu)尺寸而進(jìn)行調(diào)整,無需更換舌簧片的沖壓模具,這給不同裝置的改造帶來了方便條件。
【附圖說明】
[0017]圖1單極式離子膜電解槽結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]圖2舌簧片側(cè)視圖。
[0019]圖3舌簧片主視圖。
[0020]圖4舌簧片在陰極支撐底網(wǎng)上平面布置圖。
【具體實(shí)施方式】
[0021]實(shí)施例1
[0022]單極式離子膜電解槽結(jié)構(gòu)如圖1-4所示,所述電解槽包括:包括陰極槽1、陰極支撐底網(wǎng)2、舌簧片單元3、R陰極網(wǎng)4、離子膜5、陽極網(wǎng)6、陽極槽7;
[0023]其中,離子膜5把電解槽隔成陰極槽I和陽極槽7;離子膜5在陰極支撐底網(wǎng)2與陽極網(wǎng)6之間;陰極支撐底網(wǎng)2(即為原電解槽陰極)位于陰極槽I一邊,平行于離子膜5設(shè)置,并與離子膜5之間留有間隙;舌簧片單元3由若干個(gè)舌簧片組成,舌簧片與舌簧片之間留有間隙,所有舌簧片設(shè)置于陰極支撐底網(wǎng)2和離子膜5之間,其一端焊于陰極支撐底網(wǎng)2上;R陰極網(wǎng)4作為陰極,設(shè)置于舌簧片和離子膜5之間,并與離子膜5緊密貼合;陽極網(wǎng)6位于陽極槽7 —邊,與離子膜5緊密貼合設(shè)置。
[0024]舌簧片單元3的條寬為60mm,條厚(材質(zhì)厚度)為0.2mm,數(shù)量為40條,材質(zhì)為N6,維氏硬度為230kg/mm2,每段舌簧片的寬為60mm,長(zhǎng)為120mm,高度為6.6mm;舌簧片上相鄰舌片31相對(duì)交錯(cuò)對(duì)應(yīng)布置(如圖3所示),每條舌片31長(zhǎng)為35mm,寬為4.1mm,每條舌片31之間留有
0.8mm的間隙。由于舌簧片均布焊于陰極支撐底網(wǎng)2上,保持極好的彈性,其上面平鋪R陰極網(wǎng)4,以達(dá)到膜極距,保證了節(jié)能和提高產(chǎn)品質(zhì)量的目的。
[0025]本實(shí)施例中原電解槽陰極網(wǎng)(即陰極支撐底網(wǎng)2)和陽極網(wǎng)的結(jié)構(gòu)均保持原來的形式,不做任何形式的變動(dòng),僅增加了舌簧片及R陰極網(wǎng)。
[0026]每條舌簧片均用氬弧焊或電阻焊焊在陰極支撐底網(wǎng)2上,焊點(diǎn)不少于72個(gè),保證了優(yōu)良的通電性能。每條舌簧片單元3是由18段舌簧片組成,每段尺寸及形狀均由精密沖床沖裁和壓型所完成。
[0027]R陰極網(wǎng)4是用Φ0.16mm的N6鎳絲編織而成,目數(shù)為38目,其有效工作面積為1140X1500。
[0028]R陰極網(wǎng)4在平鋪于舌簧片上時(shí),需用750 X 1500 X δ30厚電木板壓于其上,使舌簧片略微壓縮,保證R陰極網(wǎng)4上平面與其電槽密封面距離(即陰極極高)為3mm,以達(dá)到R陰極網(wǎng)4平整和繃緊狀態(tài)。然后用四氟線將R陰極網(wǎng)4邊緣縫織在陰極支撐底網(wǎng)2上固定,從而保證了優(yōu)良的導(dǎo)電和膜極距。
[0029]上述實(shí)施例只為說明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn),其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施,并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本實(shí)用新型精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾,都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種單極式離子膜電解槽,其特征在于:包括陰極槽(I)、陰極支撐底網(wǎng)(2)、舌簧片單元(3)、R陰極網(wǎng)(4)、離子膜(5)、陽極網(wǎng)(6)、陽極槽(7); 其中,離子膜(5)把電解槽隔成陰極槽(I)和陽極槽(7);離子膜(5)在陰極支撐底網(wǎng)(2)與陽極網(wǎng)(6)之間;陰極支撐底網(wǎng)(2)位于陰極槽(I)一邊,平行于離子膜(5)設(shè)置,并與離子膜(5)之間留有間隙;舌簧片單元(3)由若干個(gè)舌簧片組成,舌簧片與舌簧片之間留有間隙,所有舌簧片設(shè)置于陰極支撐底網(wǎng)(2)和離子膜(5)之間,其一端焊于陰極支撐底網(wǎng)(2)上;R陰極網(wǎng)(4)作為陰極,設(shè)置于舌簧片和離子膜(5)之間,并與離子膜(5)緊密貼合;陽極網(wǎng)(6)位于陽極槽(7) —邊,與離子膜(5)緊密貼合設(shè)置。2.按照權(quán)利要求1所述單極式離子膜電解槽,其特征在于:所述舌簧片寬52-68mm,舌簧片單元(3)中每個(gè)舌簧片之間間隔為4.2-4.5_。3.按照權(quán)利要求1或2所述單極式離子膜電解槽,其特征在于:所述舌簧片單元(3)中每條舌簧片設(shè)有若干個(gè)舌片(31),相鄰舌片(31)相對(duì)交錯(cuò)對(duì)應(yīng)布置,每條舌片(31)長(zhǎng)為32?38mm,寬為3.5?5.0mm,厚度為0.15?0.3mm;每條舌片(31)之間留有0.5?Imm的間隙,舌片(31)自然高度5?7mm。4.按照權(quán)利要求1所述單極式離子膜電解槽,其特征在于:所述R陰極網(wǎng)(4)由鎳絲編織網(wǎng)制成。5.按照權(quán)利要求1所述單極式離子膜電解槽,其特征在于:所述舌簧片為鎳材或310S不銹鋼制成的舌簧片。6.按照權(quán)利要求1所述單極式離子膜電解槽,其特征在于:所述R陰極網(wǎng)(4)的四邊通過四氟線縫織在陰極支撐底網(wǎng)(2)上固定。
【文檔編號(hào)】C25B9/02GK205688024SQ201620653001
【公開日】2016年11月16日
【申請(qǐng)日】2016年6月28日 公開號(hào)201620653001.0, CN 201620653001, CN 205688024 U, CN 205688024U, CN-U-205688024, CN201620653001, CN201620653001.0, CN205688024 U, CN205688024U
【發(fā)明人】姚立廣, 修淑蘭, 王全武, 于曉光, 王大彧, 宋廣民
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