一種真空滅弧室的刷鍍?cè)O(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種刷鍍?cè)O(shè)備，特別是一種真空滅弧室的刷鍍?cè)O(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]刷鍍也稱為涂鍍或者無槽電鍍，屬于電鍍工藝的范疇，在真空滅弧室的制造過程中，常常需要用到刷鍍工藝，在滅弧室的表面刷鍍上一層金屬。現(xiàn)有的真空滅弧室刷鍍?cè)O(shè)備中，通常是先將刷鍍藥水倒在刷鍍槽內(nèi)后，操作人員手持刷鍍刷電極，將真空滅弧室器件放置在專用夾具上，使用刷鍍電極沾取鍍液進(jìn)行刷鍍，但是，由于為了操作方便，鍍液槽在設(shè)計(jì)時(shí)通常是設(shè)計(jì)成寬口寬底的鍍液槽，這種鍍液槽在使用時(shí)需要向槽內(nèi)倒入大量的刷鍍藥水，造成了浪費(fèi)，同時(shí)，刷鍍時(shí)需要操作人員手持鍍件，邊刷鍍邊旋轉(zhuǎn)鍍件，費(fèi)時(shí)費(fèi)力，使用很不方便，刷鍍效率較低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的在于，提供一種真空滅弧室的刷鍍?cè)O(shè)備。本實(shí)用新型具有節(jié)約刷鍍藥水，使用方便，刷鍍效率高的特點(diǎn)。
[0004]本實(shí)用新型的技術(shù)方案:一種真空滅弧室的刷鍍?cè)O(shè)備，包括有殼體，殼體中設(shè)有上大下小的鍍液槽，鍍液槽一側(cè)的槽壁上設(shè)有斜槽，斜槽較低的一端與所述鍍液槽連通，斜槽的上下兩端分別設(shè)有上夾具和下夾具，上夾具和下夾具之間設(shè)有兩根平行的轉(zhuǎn)動(dòng)軸。
[0005]前述的真空滅弧室的刷鍍?cè)O(shè)備，所述的斜槽與水平面的夾角為O度-90度。
[0006]前述的真空滅弧室的刷鍍?cè)O(shè)備，所述的斜槽與水平面的夾角為30度-45度。
[0007]前述的真空滅弧室的刷鍍?cè)O(shè)備，所述的轉(zhuǎn)動(dòng)軸的一端伸出上夾具，并在其伸出端連接有電機(jī)。
[0008]前述的真空滅弧室的刷鍍?cè)O(shè)備，所述的鍍液槽的橫截面為三角形或倒梯形。
[0009]本實(shí)用新型的有益效果:本實(shí)用新型通過將鍍液槽設(shè)計(jì)成上大下小的形狀，刷鍍藥水集中在下方較小的區(qū)域內(nèi)，使用時(shí)不需要倒入大量的刷鍍藥水同樣可以方便刷鍍，節(jié)約了刷鍍藥水。同時(shí)，本實(shí)用新型通過在鍍液槽一側(cè)的槽壁上設(shè)置一個(gè)斜槽，并在斜槽的上下兩端分別設(shè)置一個(gè)上夾具和下夾具，上下夾具之間設(shè)置兩根平行的轉(zhuǎn)動(dòng)軸，使用時(shí)將真空滅弧室放在轉(zhuǎn)動(dòng)軸上，利用上下夾具將真空滅弧室夾住，利用刷鍍刷在鍍液槽內(nèi)蘸取刷鍍藥水后對(duì)真空滅弧室進(jìn)行刷鍍，同時(shí)轉(zhuǎn)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)軸，帶動(dòng)真空滅弧室旋轉(zhuǎn)，使滅弧室的表面均能被刷到，使用非常方便，且刷鍍到真空滅弧室表面的多余的藥水從滅弧室表面掉落到斜槽內(nèi)，然后流入鍍液槽內(nèi)進(jìn)行重復(fù)利用，進(jìn)一步節(jié)約了刷鍍藥水。此外，本實(shí)用新型通過在轉(zhuǎn)動(dòng)軸的一端連接電機(jī)，利用電機(jī)帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)軸旋轉(zhuǎn)，進(jìn)一步提高了本實(shí)用新型的刷鍍效率。綜上所述，本實(shí)用新型具有節(jié)約刷鍍藥水，使用方便，刷鍍效率高的有益效果。
[0010]經(jīng)統(tǒng)計(jì):
[0011 ]生產(chǎn)相同數(shù)量的產(chǎn)品，鍍液用量可減少10%左右；同時(shí)按I天工作8小時(shí)計(jì)算，傳統(tǒng)設(shè)備每人每天刷鍍50只產(chǎn)品，而使用本實(shí)用新型后每人每天可以刷鍍100只產(chǎn)品，效率提升I倍;降低了工人的勞動(dòng)強(qiáng)度。
【附圖說明】
[0012]附圖1為本實(shí)用新型的透視圖；
[0013]附圖2為本實(shí)用新型的截面圖。
[0014]附圖標(biāo)記說明:1-殼體，2-鍍液槽，3-斜槽，4-下夾具，5-上夾具，6_轉(zhuǎn)動(dòng)軸，7_電機(jī)，8-皮帶。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明，但并不作為對(duì)本實(shí)用新型限制的依據(jù)。
[0016]本實(shí)用新型的實(shí)施例:一種真空滅弧室的刷鍍?cè)O(shè)備，如附圖1-2所示，包括有殼體I，殼體I中設(shè)有上大下小的鍍液槽2，鍍液槽2—側(cè)的槽壁上設(shè)有斜槽3，斜槽3較低的一端與所述鍍液槽2連通，斜槽3的上下兩端分別設(shè)有上夾具5和下夾具4，上夾具5和下夾具4之間設(shè)有兩根平行的轉(zhuǎn)動(dòng)軸6。
[0017]作為優(yōu)選，通過將斜槽3與水平面的夾角設(shè)計(jì)為O度-90度(最優(yōu)的是，所述的斜槽3與水平面的夾角為30度-45度)，這樣既方便刷鍍，同時(shí)也便于斜槽3內(nèi)的刷鍍藥水流回鍍液槽2內(nèi)。
[0018]作為優(yōu)選，通過電機(jī)7經(jīng)皮帶8帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)軸6轉(zhuǎn)動(dòng)，減少了人力的使用，提高了刷鍍效率。
[0019]作為優(yōu)選，所述的鍍液槽2的橫截面為三角形或倒梯形。
[0020]本實(shí)用新型工作時(shí)，首先將刷鍍藥水倒入鍍液槽2內(nèi)，然后將圓柱形的真空滅弧室放在兩個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)軸6之間，利用上夾具5和下夾具4將其夾住，蘸取鍍液槽2內(nèi)的刷鍍藥水在真空滅弧室的表面進(jìn)行刷鍍，刷鍍好一面后轉(zhuǎn)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)軸6，帶動(dòng)真空滅弧室轉(zhuǎn)動(dòng)，然后對(duì)真空滅弧室的其他面進(jìn)行刷鍍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種真空滅弧室的刷鍍?cè)O(shè)備，其特征在于:包括有殼體(1)，殼體(I)中設(shè)有上大下小的鍍液槽(2)，鍍液槽(2)—側(cè)的槽壁上設(shè)有斜槽(3)，斜槽(3)較低的一端與所述鍍液槽(2)連通，斜槽(3)的上下兩端分別設(shè)有上夾具(5)和下夾具(4)，上夾具(5)和下夾具(4)之間設(shè)有兩根平行的轉(zhuǎn)動(dòng)軸(6)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧室的刷鍍?cè)O(shè)備，其特征在于:所述的斜槽(3)與水平面的夾角為O度-90度。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空滅弧室的刷鍍?cè)O(shè)備，其特征在于:所述的斜槽(3)與水平面的夾角為30度-45度。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧室的刷鍍?cè)O(shè)備，其特征在于:所述的轉(zhuǎn)動(dòng)軸(6)的一端伸出上夾具(5)，并在其伸出端連接有電機(jī)(7)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧室的刷鍍?cè)O(shè)備，其特征在于:所述的鍍液槽(2)的橫截面為三角形或倒梯形。
【專利摘要】<b>本實(shí)用新型公開了</b><b>一種真空滅弧室的刷鍍?cè)O(shè)備</b><b>。包括有殼體（1），殼體（1）中設(shè)有上大下小的鍍液槽（2），鍍液槽（2）一側(cè)的槽壁上設(shè)有斜槽（3），斜槽（3）較低的一端與所述鍍液槽（2）連通，斜槽（3）的上下兩端分別設(shè)有上夾具（5）和下夾具（4），上夾具（5）和下夾具（4）之間設(shè)有兩根平行的轉(zhuǎn)動(dòng)軸（6）。本實(shí)用新型具有節(jié)約刷鍍藥水，使用方便，刷鍍效率高的有益效果。</b>
【IPC分類】C25D5/06
【公開號(hào)】CN205313687
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201521089696
【發(fā)明人】張毅, 王振春, 黃峰鑫
【申請(qǐng)人】中國振華電子集團(tuán)宇光電工有限公司（國營第七七一廠）
【公開日】2016年6月15日
【申請(qǐng)日】2015年12月24日