嵌銅鋁基板退鍍裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種嵌銅鋁基板退鍍裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，嵌銅鋁基板鍍高溫錫后因外觀不良需要返工退鍍，常用的方法:硝酸脫鍍，銅塊會腐蝕，用磺酸鹽脫鍍，鋁基材會變黑且腐蝕，因銅鋁兩種基材的鍍層無法在一個槽液中脫鍍，通常返鍍工藝:先用耐酸膠紙保護銅塊一脫鍍一再用鐳雕工藝去掉銅塊上的鍍層—最后整個基板重新拉絲，此流程長，成本高，關(guān)鍵尺寸無法保證，容易再次產(chǎn)生不良.【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型所旨在提供一種嵌銅鋁基板退鍍裝置，解決現(xiàn)有技術(shù)中嵌銅鋁基板退鍍返工流程長，成本高，效率低等問題。
[0004]本實用新型提供一種嵌銅鋁基板退鍍裝置，包括退鍍槽，在所述退鍍槽的上方設(shè)有掛具，嵌銅鋁基板通過所述掛具吊掛在所述退鍍槽中，在所述退鍍槽中還設(shè)有陰極板。
[0005]進一步地，所述陰極板為兩個且分別設(shè)置于所述退鍍槽的兩側(cè)。
[0006]進一步地，所述陰極板采用鉛板或者不銹鋼板。
[0007]采用本實用新型提供的嵌銅鋁基板退鍍裝置，解決了嵌銅鋁基板在同一槽中退鍍的問題，優(yōu)化了流程，降低了成本，提高了生產(chǎn)效率。
【附圖說明】
[0008]此處所說明的附圖用來提供對本實用新型的進一步理解，構(gòu)成本申請的一部分，本實用新型的示意性實施例及其說明用于解釋本實用新型，并不構(gòu)成對本實用新型的不當限定。在附圖中:
[0009]圖1示意性示意出本實用新型實施例給出的嵌銅鋁基板退鍍裝置的正視圖；
[0010]圖2示意性示意出本實用新型實施例給出的嵌銅鋁基板退鍍裝置的俯視圖。
【具體實施方式】
[0011]下面將參考附圖并結(jié)合實施例，來詳細說明本實用新型。
[0012]參照附圖，本實用新型實施例提供一種嵌銅鋁基板退鍍裝置，包括退鍍槽1，在退鍍槽1的上方設(shè)有掛具2，嵌銅鋁基板3 (需要退鍍的產(chǎn)品)通過掛具2吊掛在退鍍槽1中，在退鍍槽1中還設(shè)有陰極板4，陰極板4為兩個且分別設(shè)置于退鍍槽1的兩側(cè)，陰極板4采用鉛板或者不銹鋼板；陰極板4作為陰極，嵌銅鋁基板3作為陽極。
[0013]該嵌銅鋁基板退鍍裝置的使用方法如下:將嵌銅鋁基板3通過掛具掛在退鍍槽1中，在退鍍槽1中倒入退鍍液，退鍍液的主要成份為磷酸、硫酸及表面活性劑，退鍍液完全浸泡嵌銅鋁基板3，將退鍍槽1中的陰極板3接上電源(8-12V直流電)陰極，將退鍍槽1中的嵌銅鋁基板3接上電源的陽極，在電解脫鍍的過程中，在直流電的作用下，嵌銅鋁基板3(陽極)上發(fā)生的反應(yīng)是金屬鍍層從基體上逐漸溶解，并以離子形式進入退鍍液，陰極板4(陰極)上部分金屬離子以粉末狀還原析出，大部分生成金屬氫氧化物沉淀。
[0014]采用本實用新型實施例提供的嵌銅鋁基板退鍍裝置，解決了嵌銅鋁基板在同一槽中退鍍的問題，優(yōu)化了流程，降低了成本，提高了生產(chǎn)效率。
[0015]以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本實用新型，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.嵌銅鋁基板退鍍裝置，其特征在于，包括退鍍槽(1)，在所述退鍍槽(1)的上方設(shè)有掛具(2)，嵌銅鋁基板(3)通過所述掛具(2)吊掛在所述退鍍槽(1)中，在所述退鍍槽(1)中還設(shè)有陰極板(4)。2.如權(quán)利要求1所述的嵌銅鋁基板退鍍裝置，其特征在于，所述陰極板(4)為兩個且分別設(shè)置于所述退鍍槽(1)的兩側(cè)。3.如權(quán)利要求1所述的嵌銅鋁基板退鍍裝置，其特征在于，所述陰極板(4)采用鉛板或者不銹鋼板。
【專利摘要】本實用新型提供一種嵌銅鋁基板退鍍裝置，包括退鍍槽，在所述退鍍槽的上方設(shè)有掛具，嵌銅鋁基板通過所述掛具吊掛在所述退鍍槽中，在所述退鍍槽中還設(shè)有陰極板。采用本實用新型提供的嵌銅鋁基板退鍍裝置，解決了嵌銅鋁基板在同一槽中退鍍的問題，優(yōu)化了流程，降低了成本，提高了生產(chǎn)效率。
【IPC分類】C25F7/00, C25F5/00
【公開號】CN204959074
【申請?zhí)枴緾N201520563770
【發(fā)明人】宋永祥, 劉偉良, 常立偉
【申請人】深圳市泰日升實業(yè)有限公司
【公開日】2016年1月13日
【申請日】2015年7月30日