一種自冷卻導(dǎo)電塊系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種自冷卻導(dǎo)電塊系統(tǒng)，包括導(dǎo)電支架和兩塊設(shè)置在導(dǎo)電支架下方的導(dǎo)電塊，導(dǎo)電塊為矩形體狀，導(dǎo)電支架上設(shè)有出水口，出水口位于兩塊導(dǎo)電塊之間，出水口通過管道與水源連接，該實(shí)用新型將導(dǎo)電塊設(shè)計(jì)為矩形體狀，增加了導(dǎo)電塊與鋼帶的接觸面積，導(dǎo)電效果顯著提高，由于增加了出水口，使得導(dǎo)電塊在工作中不至于溫度過高，并且有一定的清洗作用，防止導(dǎo)電塊上藥水或者其他灰塵過多，減緩了導(dǎo)電塊的氧化，增加了導(dǎo)電塊與鋼帶的使用壽命。
【專利說明】-種自冷卻導(dǎo)電塊系統(tǒng)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及電鍍生產(chǎn)【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種自冷卻導(dǎo)電塊系統(tǒng)。

【背景技術(shù)】
[0002] 根據(jù)圖1，現(xiàn)有電鍍?cè)O(shè)備導(dǎo)電支架1上設(shè)有導(dǎo)電塊2,使用兩塊導(dǎo)電塊夾持鋼帶進(jìn) 行電鍍生產(chǎn)。生產(chǎn)時(shí)導(dǎo)電塊與鋼帶摩擦，通電后導(dǎo)電塊溫度變高，都使導(dǎo)電金屬容易被氧 化，減少了導(dǎo)電塊和鋼帶的使用壽命。導(dǎo)電塊表面容易附著灰塵等雜物，影響其導(dǎo)電效果。 現(xiàn)有電鍍?cè)O(shè)備上設(shè)置的兩塊導(dǎo)電塊合并后呈"V"型，與鋼帶接觸面積小，導(dǎo)電率差。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0003] 為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供了一種自冷卻導(dǎo)電塊系統(tǒng)，以達(dá)到延長(zhǎng)導(dǎo) 電塊和鋼帶的使用壽命，并增強(qiáng)導(dǎo)電塊導(dǎo)電效果的目的。
[0004] 為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下：
[0005] -種自冷卻導(dǎo)電塊系統(tǒng)，包括導(dǎo)電支架和兩塊設(shè)置在導(dǎo)電支架下方的導(dǎo)電塊，所 述導(dǎo)電塊為矩形體狀，所述導(dǎo)電支架上設(shè)有出水口，所述出水口位于兩塊導(dǎo)電塊之間，所述 出水口通過管道與水源連接。
[0006] 優(yōu)選的，出水口處設(shè)有霧化噴頭。
[0007] 優(yōu)選的，所述管道上設(shè)有用于控制出水口水流流量的電磁閥。
[0008] 通過上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型提供的一種自冷卻導(dǎo)電塊系統(tǒng)將導(dǎo)電塊設(shè)計(jì)為矩 形體狀，增加了導(dǎo)電塊與鋼帶的接觸面積，導(dǎo)電效果顯著提高，由于增加了出水口，使得導(dǎo) 電塊在工作中不至于溫度過高，并且有一定的清洗作用，防止導(dǎo)電塊上藥水或者其他灰塵 過多，減緩了導(dǎo)電塊的氧化，增加了導(dǎo)電塊與鋼帶的使用壽命。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0009] 為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例 或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹。
[0010] 圖1為現(xiàn)有電鍍?cè)O(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0011] 圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例所公開的一種自冷卻導(dǎo)電塊系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012] 圖中數(shù)字所表示的相應(yīng)部件名稱：
[0013] 1、導(dǎo)電支架2、導(dǎo)電塊3、導(dǎo)電支架4、導(dǎo)電塊5、導(dǎo)電線6、出水口 7、管道。

【具體實(shí)施方式】
[0014] 下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行 清楚、完整地描述。
[0015] 根據(jù)圖2,本實(shí)用新型提供了一種自冷卻導(dǎo)電塊系統(tǒng)，包括導(dǎo)電支架3和兩塊設(shè)置 在導(dǎo)電支架下方的導(dǎo)電塊4,導(dǎo)電塊為矩形體狀，每塊導(dǎo)電塊均單獨(dú)連接有一根用于為其供 電的導(dǎo)電線5，導(dǎo)電支架上設(shè)有出水口 6，出水口位于兩塊導(dǎo)電塊之間，出水口通過管道7與 水源連接。
[0016] 出水口處優(yōu)選地設(shè)有霧化噴頭,水流通過霧化噴頭噴出可以更加均勻地落在導(dǎo)電 塊表面。
[0017] 管道上優(yōu)選地設(shè)有用于控制出水口水流流量的電磁閥，視情況需要控制出水口水 流的流量。
[0018] 本實(shí)用新型使用過程中要按時(shí)查看和疏通出水口，防止出水口被水垢堵塞，并定 期清洗導(dǎo)電塊，檢查導(dǎo)電線的完整性，如有損壞要及時(shí)更換。
[0019] 本實(shí)用新型提供的一種自冷卻導(dǎo)電塊系統(tǒng)將導(dǎo)電塊設(shè)計(jì)為矩形體狀，增加了導(dǎo)電 塊與鋼帶的接觸面積，導(dǎo)電效果顯著提高，由于增加了出水口，使得導(dǎo)電塊在工作中不至于 溫度過高，并且有一定的清洗作用，防止導(dǎo)電塊上藥水或者其他灰塵過多，減緩了導(dǎo)電塊的 氧化，增加了導(dǎo)電塊與鋼帶的使用壽命。
[0020] 對(duì)所公開的一種自冷卻導(dǎo)電塊系統(tǒng)實(shí)施例的上述說明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能 夠?qū)崿F(xiàn)或使用本實(shí)用新型。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來(lái)說將是顯 而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本實(shí)用新型的精神或范圍的情況下，在 其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本實(shí)用新型將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合 與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。
【權(quán)利要求】
1. 一種自冷卻導(dǎo)電塊系統(tǒng)，其特征在于：包括導(dǎo)電支架和兩塊設(shè)置在導(dǎo)電支架下方的 導(dǎo)電塊，所述導(dǎo)電塊為矩形體狀，所述導(dǎo)電支架上設(shè)有出水口，所述出水口位于兩塊導(dǎo)電塊 之間，所述出水口通過管道與水源連接。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種自冷卻導(dǎo)電塊系統(tǒng)，其特征在于：出水口處設(shè)有霧化噴 頭。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種自冷卻導(dǎo)電塊系統(tǒng)，其特征在于：所述管道上設(shè)有用于 控制出水口水流流量的電磁閥。
【文檔編號(hào)】C25D13/16GK203999876SQ201420279730
【公開日】2014年12月10日 申請(qǐng)日期:2014年5月28日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月28日
【發(fā)明者】肖振友 申請(qǐng)人:無(wú)錫華友微電子有限公司