專利名稱：閥的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種閥裝置，該裝置適用于形狀調節(jié)閥。
近年來，諸如調節(jié)閥這類閥裝置常常用在小開孔情況下。這是因為其被調量的幅度變化范圍(即可控最大流量與可控最小流量之比)必須設定得很大。
在這類普通閥裝置中，當作為被控液體的液體在小開孔情況下被控制從而產(chǎn)生很大的壓差時，由于在壓力條件下在閥入口和出口兩側產(chǎn)生震顫，會出現(xiàn)氣窩現(xiàn)象。閥體與閥座的接觸部分和座面被局部腐蝕。因而閥門常失去其功能，鑒于此種情況，曾經(jīng)采用過許多種對策。
日本57-18070號公開專利介紹了一種常規(guī)的閥裝置，用其作為這類閥門。
這一常規(guī)閥裝置，在小開孔情況下可以防止產(chǎn)生氣窩現(xiàn)象，但不能靠開/閉閥門用閥體的流量控制部分立刻控制流量。更具體的說就是在閥體與閥座接觸部分和座面之下形成一個壓力室，在開/閉閥門時，在壓力室下面形成節(jié)流部分。其結果是閥體的軸向尺寸很大而不可能得到低形閥門。
本發(fā)明的目的是提供一種低形閥門裝置，該裝置能夠防止閥體與閥座接觸部分和座表面之間的腐蝕。
為了達到本發(fā)明的上述目的，本發(fā)明提供了一種閥裝置，該裝置包括閥座和閥體。閥座帶有液流孔，該孔將液體入口隔室和液體出口隔室相連通，閥體沿著閥座軸向往復運動來控制液流孔的開/閉。其中形成上、下節(jié)流部分，并在上、下節(jié)流部分之間形成具有預定容積的壓力室。
根據(jù)本發(fā)明在小開孔情況下，在壓力室的上流和下流的兩側形成兩個節(jié)流部分。閥體的軸向尺寸可以被減小。此外，在小開孔情況下閥體與閥座接觸部分和座面之間形成的氣窩現(xiàn)象也可以被防止。


圖1是本發(fā)明一個實施例中的閥裝置的主要部件的剖面圖;
圖2是圖1中A部分的局部放大圖;
圖3是本發(fā)明另一實施例中的閥裝置的主要部件的剖面圖;
本發(fā)明的最佳實施例詳述如下圖1和圖2是本發(fā)明一個實施例中的閥裝置。
如圖1、2所示，參考號1表示向兩個方向開口的閥體。入口隔室(下隔室)3和出口隔室(上隔室)4以閥體1中的隔室2限定。在閥體1的隔壁2上，設有向開口的環(huán)形安裝孔5。帶有液流孔6的座環(huán)7固定在環(huán)形孔5上。座環(huán)7上的液流孔6可使隔室3與隔室4相通。閥體與閥座接觸部分即接觸面7a在液流孔6上形成。參考號8表示在其末端部分帶有流量控制部分8a的閥塞。閥塞8沿座環(huán)7軸向往復運動來開/閉液流孔6。環(huán)形凹槽B限定在閥塞8的表面與作為接觸面7a的下凹面的表面之間，從而形成了小開孔狀態(tài)下具有預定內(nèi)容積的壓力室。環(huán)形槽10和11作為節(jié)流部分，設在壓力室9上流和下流立即進入的兩側。更具體地說，兩環(huán)形槽10和11具有的流域分別小于閥座接觸面7a和閥體接觸面86之間所限定的流域面積，環(huán)形槽10的軸向尺寸(節(jié)流長度)幾乎與環(huán)形槽11的相同。
在具有上述結構的閥裝置中，由于在很小開孔的情況下，閥座上流和下流兩側形成了環(huán)形槽10和11(節(jié)流部分)，閥塞8的軸向尺寸與節(jié)流部分設在閥座和壓力室之下的常規(guī)閥比較，即可減小。
此外，根據(jù)本實施例，由于有了壓力室9，與閥座接觸部分8b和座面7a之間的接觸面積也減少了。因此，在開/閉閥門時，閥塞8驅動平穩(wěn)。
本實施例中的閥門流量控制描述如下為了關閉該閥門，使與閥座接觸部分8b與座面7a貼緊，這樣通過液流孔6從入口隔室3流向出口隔室4的液流即被完全截堵。這時，入口隔室3和出口隔室4各有壓力P1(主壓)和壓力P2(次壓)，P2需滿足P1＞P2的條件。當閥塞8稍稍向上移動(即形成很小開孔的情況)時，在與閥座接觸部分8b和座面7a之間形成一個間隙。液體通過上流環(huán)形槽10、壓力室9和下流環(huán)形槽11從入口隔室3流向出口隔室4。在此種情況下，壓差被兩個節(jié)流部分(即環(huán)形槽10和11)所分擔，因而可以防止在環(huán)形通道10和11之間所形成的氣窩現(xiàn)象。如果壓力室的壓力設為Ps，那么即得到P1-P2＜Ps-P2此種狀態(tài)只是初始狀態(tài)，閥塞8向上移動即可準確控制液流。
所需控制的液體可依上述方法控制。
在上述實施例中例舉了閥門從關閉狀態(tài)開啟的操作過程。也可以依上述同樣的方式從閥門開啟狀態(tài)關閉閥門來控制液流。
在本實施例中，凹槽B設置在座面7a上，從而在閥塞8表面和液流孔6表面之間形成了壓力室9。但是，本發(fā)明并不限于此種結構。如圖3所示，環(huán)形凹槽C可以設在閥塞21的與閥座接觸部分21a上，得到的效果與上述實施例一樣。根據(jù)本發(fā)明，壓力室9和壓力室23各自形成在閥塞8和21的與閥座接觸部分8b和21b和座環(huán)7和22的表面7a和22a之間。
根據(jù)上述實施例，上、下環(huán)形通道10和11的軸向尺寸(節(jié)流長度)l1和l2幾乎相等。但下流通道11的軸向尺寸可略比上流通道10的長些。
此外，在第一實施例中，液流從座環(huán)7以下的位置向上流。而本發(fā)明并不局限于此，液流可以向下流。此外，壓力室可以同時用切割座接觸部分和座面來形成。
根據(jù)上述的本發(fā)明，在很小開孔狀態(tài)下，具有預定內(nèi)容積的壓力室形成于閥體和閥座接觸面之間。作為節(jié)流部分的環(huán)形槽在壓力室的上、下流兩側形成。因此閥體的軸向尺寸與普通技術相比可以減小，從而本發(fā)明提供了一種低形閥裝置。此外，由于在很小開孔的情況下，在閥體與閥座接觸部分和座面之間形成的氣窩現(xiàn)象被兩個節(jié)流部分所防止，所以對與閥座接觸部分和座面的腐蝕也防止了。
權利要求
1.一種閥裝置，該裝置包括一個帶有使液流入口隔室和液流出口隔室相通的液流孔的閥座；一個閥體，該閥體沿所述閥座的軸向往復運動以控制開/閉所述液流孔，其中形成上流和下流節(jié)流部分，并在所述上流和下流節(jié)流部分之間形成具有預定容積的壓力室。
2.根據(jù)權利要求1的裝置，其中所述壓力室形成于閥座一側。
3.根據(jù)權利要求1的裝置，其中所述壓力室形成于閥體與閥座接觸部分的閥體一側。
4.根據(jù)權利要求1的裝置，其中所述上流和下流節(jié)流部分各自由環(huán)形槽構成。
全文摘要
一種閥裝置包括一個帶有使液流入口隔室與液流出口隔室相通的液流孔的閥座，和一個沿閥座軸向往復運動來控制開/關液流孔的閥體，上流和下流部分形成，并在上流和下流節(jié)流部分之間形成具有預定容積的壓力室。
文檔編號F01L3/00GK1037382SQ8910238
公開日1989年11月22日 申請日期1989年4月20日 優(yōu)先權日1988年4月20日
發(fā)明者奧津良之, 坂田進 申請人:山武·霍尼韋爾公司