本發(fā)明涉及廢氣凈化裝置。更詳細(xì)而言，涉及一種用于保持選擇性還原催化裝置及氧化催化裝置的性能的廢氣凈化裝置。

背景技術(shù)：

內(nèi)燃機(jī)的廢氣處理系統(tǒng)為了減少廢氣中含有的公害物質(zhì)而可以配備諸如氧化催化裝置(Oxidation Catalyst，OC)及選擇性還原催化裝置(Selective Catalyst Reduction，SCR)等的廢氣后處理裝置。

就選擇性還原催化裝置而言，還原劑噴射模塊噴射尿素水等而使其與氮氧化物(NO_X)發(fā)生催化反應(yīng)，從而使氮氧化物還原為氮?dú)夂退?/p>

但是，如果廢氣的溫度上升或發(fā)生熄火(misfire)，則氧化催化裝置內(nèi)部的貴金屬或氧化物質(zhì)等脫離，會(huì)附著于選擇性還原催化裝置的前端。因此，會(huì)發(fā)生選擇性還原催化裝置的氮氧化物轉(zhuǎn)換效率下降的問題。

另一方面，氧化催化裝置可以使廢氣中包含的一氧化碳及碳化氫氧化。但是，在廢氣中會(huì)包含燃料燃燒過程中泄漏的發(fā)動(dòng)機(jī)油，如果是使用低品質(zhì)的燃料的情況，則還會(huì)包含硫(S)等雜質(zhì)。廢氣中的發(fā)動(dòng)機(jī)油及雜質(zhì)作為對(duì)氧化催化劑的中毒物質(zhì)進(jìn)行作用，因此，氧化催化裝置的性能會(huì)降低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

技術(shù)課題

本發(fā)明的一個(gè)目的在于提供一種用于保持選擇性還原催化裝置的性能的廢氣凈化裝置。

本發(fā)明的另一目的在于提供一種用于保持氧化催化裝置的性能的廢氣凈化裝置。

解決課題的方案

為了實(shí)現(xiàn)所述本發(fā)明的一個(gè)目的，其安裝于包括依次設(shè)置于從內(nèi)燃機(jī)排出廢氣的排氣管的氧化催化裝置及選擇性還原催化裝置的廢氣處理系統(tǒng)中，作為示例性的實(shí)施例的廢氣凈化裝置包括：至少一個(gè)載體，其能夠安裝于所述氧化催化裝置的前方或所述氧化催化裝置及所述選擇性還原催化裝置之間中的至少一個(gè)位置，供所述廢氣通過；及涂層，其涂布于所述載體表面，用于捕集所述廢氣中包含的雜質(zhì)或從所述氧化催化裝置脫落的氧化物質(zhì)。

在示例性的實(shí)施例中，所述氧化物質(zhì)可以為Pt、Pd、Rh、Ir、Ag、Sn及Ru等。

在示例性的實(shí)施例中，所述載體可以為堇青石、碳化硅、鐵碳合金、NiCrAl、NiFeCrAl等。

在示例性的實(shí)施例中，所述載體可以為蜂窩形狀。

在示例性的實(shí)施例中，所述載體可以與所述氧化催化裝置被一同罐裝。

在示例性的實(shí)施例中，所述載體可以設(shè)置于排氣管內(nèi)部。

在示例性的實(shí)施例中，所述載體可以與所述氧化催化裝置一體形成。

在示例性的實(shí)施例中，所述涂層可以為Al₂O₃、SiO₂、TiO₂、CeO₂、ZrO₂、V₂O₅、La₂O₃、沸石等。

在示例性的實(shí)施例中，所述涂層可以增加與所述廢氣的接觸面積。

在示例性的實(shí)施例中，所述涂層的表面積可以是50～60m²/g。

在示例性的實(shí)施例中，所述載體可以具有金屬纖維結(jié)構(gòu)(metal fiber structure)。

在示例性的實(shí)施例中，所述載體可以為金屬泡沫(metal foam)形狀。

在示例性的實(shí)施例中，所述雜質(zhì)可以為發(fā)動(dòng)機(jī)油。

但是，本發(fā)明要解決的課題并非限定于所述課題，在不超出本發(fā)明的思想及領(lǐng)域的范圍內(nèi)可以多樣地?cái)U(kuò)張。

發(fā)明效果

示例性的實(shí)施例的廢氣凈化裝置可以捕集從氧化催化裝置脫落的貴金屬或氧化物質(zhì)等。因此，能夠防止氧化物質(zhì)流入選擇性還原催化裝置，保持選擇性還原催化裝置的性能。

另外，在所述廢氣凈化裝置設(shè)置于比氧化催化裝置上游的情況下，通過捕集廢氣中包含的發(fā)動(dòng)機(jī)油等雜質(zhì)，可以保持氧化催化裝置的性能。

不過，本發(fā)明的效果并非限定于所述提及的效果，在不超出本發(fā)明的思想及領(lǐng)域的范圍內(nèi)可以多樣地?cái)U(kuò)張。

附圖說明

圖1是表示示例性的實(shí)施例的廢氣處理系統(tǒng)的圖。

圖2是表示圖1的廢氣凈化裝置的圖。

圖3是沿圖2的A-A'線截?cái)嗟钠拭鎴D。

圖4表示圖1的氧化催化裝置的圖。

圖5是沿圖4的B-B'線截?cái)嗟钠拭鎴D。

圖6是表示未使用廢氣凈化裝置時(shí)，選擇性還原催化裝置的NO_X轉(zhuǎn)換效率的圖表。

圖7是表示使用廢氣凈化裝置時(shí)和未使用廢氣凈化裝置時(shí)，NO_X排出量和NO_X轉(zhuǎn)換效率的圖表。

圖8是表示示例性的實(shí)施例的廢氣處理系統(tǒng)的圖。

圖9是表示示例性的實(shí)施例的廢氣處理系統(tǒng)的圖。

圖10是表示示例性的實(shí)施例的廢氣處理系統(tǒng)的圖。

圖11是沿圖10的C-C'線截?cái)嗟钠拭鎴D。

圖12是表示示例性的實(shí)施例的廢氣處理系統(tǒng)的圖。

圖13是沿圖12的D-D'線截?cái)嗟钠拭鎴D。

圖14是表示示例性的實(shí)施例的廢氣處理系統(tǒng)的圖。

圖15是表示示例性的實(shí)施例的廢氣處理系統(tǒng)的圖。

圖16是表示示例性的實(shí)施例的廢氣處理系統(tǒng)的圖。

圖17是沿圖16的E-E'線截?cái)嗟钠拭鎴D。

圖18是表示示例性的實(shí)施例的廢氣處理系統(tǒng)的圖。

具體實(shí)施方式

下面參照附圖，詳細(xì)說明本發(fā)明的具體實(shí)施例。本發(fā)明的實(shí)施例提供用于向所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員更完全地說明本發(fā)明，下述實(shí)施例可以變形為多種不同形態(tài)，本發(fā)明的范圍并非限定于下述實(shí)施例。相反，這些實(shí)施例是為了使本公開更充分、更完整，且向本領(lǐng)域技術(shù)人員完整地傳遞本發(fā)明的思想而提供的。另外，在附圖中，為了說明的便利及明確性，各層的厚度或大小被夸張。

在通篇說明書中，當(dāng)提到一個(gè)構(gòu)成要素“連接”或“連結(jié)”位于另一構(gòu)成要素“上”時(shí)，可以解釋為所述一個(gè)構(gòu)成要素直接“連接”或“連結(jié)”位于另一構(gòu)成要素“上”，或可以存在介于其之間的其它構(gòu)成要素。相反，當(dāng)提到一個(gè)構(gòu)成要素“直接連接”或“直接連結(jié)”位于另一構(gòu)成要素“上”時(shí)，解釋為不存在介于其之間的其它構(gòu)成要素。相同的標(biāo)記指稱相同的要素。正如本說明書中所使用的那樣，術(shù)語“及/或”包括相應(yīng)列舉的項(xiàng)目中某一個(gè)及一個(gè)以上的所有組合。

在本說明書中，雖然第一、第二等術(shù)語為了說明多種構(gòu)件、部件、領(lǐng)域及/或部分而使用，但這些構(gòu)件、部件、領(lǐng)域及/或部分不得被這些術(shù)語所限定，這是不言而喻的。這些術(shù)語只為了把一個(gè)構(gòu)件、部件、領(lǐng)域或部分區(qū)別于其它領(lǐng)域或部分而使用。因此，以下詳細(xì)敘述的第一構(gòu)件、部件、領(lǐng)域或部分在不超出本發(fā)明宗旨的同時(shí)，可以指稱第二構(gòu)件、部件、領(lǐng)域或部分。

另外，諸如“上的”或“上方的”及“下的”或“下方”的相對(duì)性術(shù)語，如同在附圖中圖示的一樣，在此可以為了記述某種要素相對(duì)于另一要素的關(guān)系而使用。相對(duì)性術(shù)語可以理解為旨在在附圖中描寫的方向基礎(chǔ)上追加包含裝置的其它方向。例如，在附圖中，如果裝置可以翻轉(zhuǎn)(turned over)，那么，描寫為存在于其它構(gòu)成要素的上部的面上的要素，在所述其它構(gòu)成要素的下部面上具有方向。因此，例如“上的”術(shù)語，根據(jù)附圖的特定方向，可以全部包括“下的”及“上的”方向。如果說構(gòu)成要素朝向其它方向(例如相對(duì)于其它方向旋轉(zhuǎn)90度)，則在本說明書中使用的相對(duì)性說明可據(jù)此解釋。

在本說明書中使用的術(shù)語為了說明特定實(shí)施例而使用，并非用于限制本發(fā)明。正如在本說明書中所使用的那樣，如果在文理上未明確指出不同的情形，那么，單數(shù)形態(tài)可以包括復(fù)數(shù)的形態(tài)。另外，在本說明書中使用的“包括(comprise)”及/或“包括的(comprising)”，用于對(duì)提及的形狀、數(shù)字、步驟、動(dòng)作、構(gòu)件、要素及/或它們組合的存在進(jìn)行特定，并非排除一個(gè)以上其它形狀、數(shù)字、動(dòng)作、構(gòu)件、要素及/或它們組合的存在或附加。

下面參照概略圖示本發(fā)明理想的實(shí)施例的附圖，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行說明。在附圖中，例如，根據(jù)制造技術(shù)及/或公差(tolerance)，可以預(yù)料所圖示形狀的變形。因此，本發(fā)明思想的實(shí)施例不得解釋為限定于本說明書中圖示的領(lǐng)域的特定形狀，例如，應(yīng)包括制造上導(dǎo)致的形狀變化。以下實(shí)施例也可以組合一個(gè)以或多個(gè)而構(gòu)成。

圖1是表示示例性的實(shí)施例的廢氣處理系統(tǒng)的圖。圖2是表示圖1的廢氣凈化裝置的圖。圖3是沿圖2的A-A'線截?cái)嗟钠拭鎴D。圖4是表示圖1的氧化催化裝置的圖。圖5是沿圖4的B-B'線截?cái)嗟钠拭鎴D。圖6是表示未使用廢氣凈化裝置時(shí)選擇性還原催化裝置的NO_X轉(zhuǎn)換效率的圖表。圖7是表示使用廢氣凈化裝置時(shí)和未使用廢氣凈化裝置時(shí)NO_X排出量和NO_X轉(zhuǎn)換效率的圖表。

如果參照?qǐng)D1～圖7，廢氣處理系統(tǒng)10可以包括：氧化催化裝置200(Oxidation Catalyst)，其設(shè)置于排氣管P，用于去除廢氣F中的一氧化碳及碳化氫；選擇性還原催化裝置300(Selective Catalyst Reduction)，其設(shè)置于氧化催化裝置200下游的排氣管P，使氮氧化物(NO_X)還原；及廢氣凈化裝置100，其安裝于氧化催化裝置200與選擇性還原催化裝置300之間的排氣管P，可以捕集從氧化催化裝置200脫落的顆粒。

在示例性實(shí)施例中，從內(nèi)燃機(jī)的發(fā)動(dòng)機(jī)(圖中未示出)排出的廢氣F可以沿著排氣管P依次經(jīng)過氧化催化裝置200、廢氣凈化裝置100及選擇性還原催化裝置300而排出到外部。廢氣凈化裝置100可以位于氧化催化裝置200的下游，選擇性還原催化裝置300可以位于廢氣凈化裝置100的下游。此時(shí)，位于“下游”表示在從發(fā)動(dòng)機(jī)排出的廢氣F的流路中相對(duì)靠近外部。

如圖2及圖3所示，廢氣凈化裝置100可以包括第一載體110及涂布于第一載體110上的第一涂層120。

第一載體110可以具有沿軸向延長(zhǎng)的至少一個(gè)第一通路112。所述發(fā)動(dòng)機(jī)排出的廢氣可以通過第一通路112，然后經(jīng)過選擇性還原催化裝置300排出到外部。例如，第一載體110可以擠出陶瓷材質(zhì)的原材料而形成蜂窩形狀。作為所述第一載體的示例，可以為堇青石、碳化硅、鐵碳合金、NiCrAl、NiFeCrAl等。

第一載體110由陶瓷材質(zhì)構(gòu)成，易因外部沖擊而破碎。因此，為了保護(hù)不受外部沖擊，可以用相對(duì)松軟的墊子包裹并罐裝(canning)。

不同于此，第一載體110可以利用金屬，形成得具有多孔質(zhì)結(jié)構(gòu)。例如，所述第一載體可以形成為金屬纖維(metal fiber)如網(wǎng)一樣編織的金屬纖維結(jié)構(gòu)(metal fiber structure)，或形成為具有無數(shù)多氣孔的金屬泡沫(metal foam)形狀。

第一涂層120涂布于第一載體110的第一通路112表面，可以捕集從氧化催化裝置200脫落的氧化物質(zhì)。作為所述第一涂層的示例，可以為Al₂O₃、SiO₂、TiO₂、CeO₂、ZrO₂、V₂O₅、La₂O₃、沸石等。第一涂層120可以通過把第一載體110的一端浸于涂層溶液、在另一端形成負(fù)壓，從而涂布于第一載體110表面。

在示例性的實(shí)施例中，第一載體110可以安裝于選擇性還原催化裝置300的上游。因此，廢氣凈化裝置100可以捕集從氧化催化裝置200脫落的氧化物質(zhì)的顆粒，防止流入選擇性還原催化裝置300。

具體而言，如果廢氣的溫度上升或發(fā)生熄火(misfire)，則氧化催化裝置200會(huì)暴露于850℃以上的高溫。此時(shí)，氧化物質(zhì)會(huì)從氧化催化裝置200脫落，與廢氣F一同排出到下游。所述排出的氧化物質(zhì)會(huì)在通過廢氣凈化裝置100的第一通路112的同時(shí)附著于第一涂層120表面并被去除。作為所述氧化物質(zhì)的示例，可以為Pt、Pd、Rh、Ir、Ag、Sn、Ru等。

可以通過在第一載體110的表面涂布第一涂層120而增加與廢氣F的接觸面積。例如，未涂布的第一載體的每單位重量表面積約0.00643m²/g，與此相比，在涂布所述第一涂層的情況下，每單位重量表面積可以為50～60m²/g。即，通過在第一載體110的表面涂布第一涂層120，可以使與廢氣F接觸的表面積增加約7700倍至9300倍。因此，極大增加了從氧化催化裝置200脫落的諸如所述貴金屬的氧化物質(zhì)能夠與廢氣凈化裝置100相遇的機(jī)會(huì)，能夠防止流入選擇性還原催化裝置300。

如圖4及圖5所示，氧化催化裝置200可以包括第二載體210及涂布于第二載體210上并包含氧化催化劑的第二涂層220。

第二載體210可以具有沿軸向延長(zhǎng)的至少一個(gè)第二通路212。所述發(fā)動(dòng)機(jī)排出的廢氣通過第二通路212，然后可以依次經(jīng)過廢氣凈化裝置100及選擇性還原催化裝置300而排出到外部。第二載體210可以擠出陶瓷材質(zhì)的原材料而形成蜂窩形狀。作為所述第二載體的示例，可以為堇青石、碳化硅、鐵碳合金、NiCrAl、NiFeCrAl等。

第二載體210由陶瓷材質(zhì)構(gòu)成，易因外部沖擊而破碎。因此，為了保護(hù)不受外部沖擊，可以用相對(duì)松軟的墊子包裹并罐裝。

不同于此，第二載體210可以利用金屬，形成得具有多孔質(zhì)結(jié)構(gòu)。例如，所述第二載體可以形成為金屬纖維(metal fiber)如網(wǎng)一樣編織的金屬纖維結(jié)構(gòu)(metal fiber structure)，或形成為具有無數(shù)多氣孔的金屬泡沫(metal foam)形狀。

第二涂層220可以涂布于第二載體210的第二通路212表面，可以包含氧化催化劑。作為所述氧化催化劑的例，可以為Pt、Pd、Rh、Ir、Ag、Sn、Ru等。第二涂層220可以通過把第二載體210的一端浸于涂層溶液、在另一端形成負(fù)壓，從而涂布于第二載體210表面。

從發(fā)動(dòng)機(jī)(圖中未示出)排出的廢氣F可以沿著排氣管P流入氧化催化裝置200，通過在第二載體210中形成的第二通路212。此時(shí)，第二涂層220中包含的所述氧化催化劑可以使廢氣F中的一氧化碳及碳化氫氧化為二氧化碳及水。通過氧化催化裝置200的廢氣F可以依次經(jīng)過廢氣凈化裝置100及選擇性還原催化裝置300而排出到外部。

在示例性的實(shí)施例中，氧化催化裝置200可以包括用于使柴油發(fā)動(dòng)機(jī)或壓縮天然氣發(fā)動(dòng)機(jī)的廢氣中包含的一氧化碳及碳化氫氧化的氧化催化裝置。

例如，在使用柴油發(fā)動(dòng)機(jī)的內(nèi)燃機(jī)中，為了凈化廢氣中有害的一氧化碳、碳化氫及有害性有機(jī)物質(zhì)(Soluble Organic Fraction)，可以使用柴油氧化催化裝置(Diesel Oxidation Catalyst)。

在示例性的實(shí)施例中，氧化催化裝置200可以包括用于去除廢氣F中的顆粒狀物質(zhì)的柴油顆粒過濾器(Diesel Particulate Filter)。

所述柴油顆粒過濾器可以包括具有沿軸向延長(zhǎng)的至少一個(gè)通路的載體。所述載體可以擠出陶瓷材質(zhì)的原材料而形成蜂窩形狀。作為所述載體的示例，可以為堇青石、碳化硅、鐵碳合金等。

所述柴油顆粒過濾器的所述通路可以為每隔一個(gè)交替地被堵塞的結(jié)構(gòu)。即，在為上游開放的通路的情況下，下游被堵塞，在為上游堵塞的通路的情況下，下游可以開放。因此，流入所述上游開放的通路的廢氣F可以通過在所述載體中形成的氣孔，流入相鄰的所述下游開放的通路。在此過程中，廢氣F中的顆粒狀物質(zhì)可以通過所述載體進(jìn)行過濾。

行駛既定距離之后，需要使所述柴油顆粒過濾器再生。這是因?yàn)榇嬖谶^濾器被所述過濾的顆粒狀物質(zhì)堵塞的憂慮。所述再生過程可以使用如下方式，即，使廢氣F溫度上升至作為所述顆粒狀物質(zhì)點(diǎn)火溫度的550℃以上，使所述顆粒狀物質(zhì)燃燒，或加入鈰等添加劑，使所述顆粒狀物質(zhì)的氧化溫度降低。

如圖1所示，在示例性實(shí)施例中，選擇性還原催化裝置300可以包括還原劑噴射模塊320及至少一個(gè)選擇性還原催化裝置。例如，所述選擇性還原催化裝置可以包括第一至第三選擇性還原催化裝置312、314、316。所述還原劑噴射模塊可以比所述第一至第三選擇性還原催化裝置設(shè)置于上游。

還原劑噴射模塊320可以把尿素水等的還原劑噴射于排氣管P內(nèi)。從發(fā)動(dòng)機(jī)排出的廢氣F的溫度為達(dá)到數(shù)百℃的高溫，因而噴射于排氣管P內(nèi)的所述還原劑會(huì)立即被氣化。氣化的還原劑可以與廢氣F混合，供應(yīng)給第一至第三選擇性還原催化裝置312、314、316。

第一至第三選擇性還原催化裝置312、314、316可以設(shè)置于比還原劑噴射模塊320下游，可以根據(jù)如下反應(yīng)式1至反應(yīng)式3，使氮氧化物(NO_X)還原，變換成無害人體的氮?dú)?N₂)。

[反應(yīng)式1]

(NH₂)₂CO+H₂O→CO₂+2NH₃

[反應(yīng)式2]

4NO+4NH₃+O₂→4N₂+6H₂O

[反應(yīng)式3]

6NO₂+8NH₃→7N₂+12H₂O

尿素((NH₂)₂CO)可以借助于加水分解而生成氨(NH₃)。如此生成的所述氨可以使NO及NO₂還原，變換成無害人體的氮?dú)?N₂)。

此時(shí)，從氧化催化裝置200脫落的氧化物質(zhì)會(huì)降低選擇性還原催化裝置300的性能。

如圖6所示，在附著于選擇性還原催化裝置300后端的第二及第三選擇性還原催化裝置314、316中，NO_X還原反應(yīng)正常進(jìn)行，NO_X轉(zhuǎn)換效率可以具有正值。但是，附著于選擇性還原催化裝置300前端的第一選擇性還原催化裝置312反而會(huì)表現(xiàn)出負(fù)的NO_X轉(zhuǎn)換效率。這是因?yàn)閺难趸呋b置200脫落的氧化物質(zhì)附著于第一選擇性還原催化裝置312，從而使所述氨氧化為NO_X。此時(shí)，所述NO_X轉(zhuǎn)換效率可以根據(jù)如下數(shù)學(xué)式1計(jì)算。

數(shù)學(xué)式1

[數(shù)式1]

如果廢氣的溫度上升或發(fā)生熄火，則氧化催化裝置200內(nèi)部的貴金屬或氧化物質(zhì)顆粒會(huì)脫落，附著于第一選擇性還原催化裝置312。因此，會(huì)發(fā)生諸如反應(yīng)式4至反應(yīng)式6的反應(yīng)，所述反應(yīng)式1生成的所述氨會(huì)在第一選擇性還原催化裝置312中氧化。

[反應(yīng)式4]

2NH₃+2O₂→N₂O+3H₂O

[反應(yīng)式5]

4NH₃+3O₂→2N₂+6H₂O

[反應(yīng)式6]

4NH₃+5O₂→4NO+6H₂O

通過所述反應(yīng)，追加生成NO_X，還會(huì)發(fā)生N₂O及溫室氣體等第二次生成物質(zhì)。這是因?yàn)?，還原劑噴射模塊320供應(yīng)的所述氨無法用作使NO_X還原為N₂的還原劑，借助于所述氧化物質(zhì)，反而被氧化為NO_X。因此，會(huì)發(fā)生選擇性還原催化裝置300的NO_X轉(zhuǎn)換效率減小的問題。

如圖7所示，示例性實(shí)施例的廢氣凈化裝置100可以捕集氧化物質(zhì)，提高選擇性還原催化裝置300的性能。

在未使用廢氣凈化裝置100的廢氣處理系統(tǒng)的情況下，當(dāng)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)間為50小時(shí)時(shí)，通過排氣管P的NO_X排出量急劇增加，NO_X轉(zhuǎn)換效率急劇減小。這是因?yàn)閺难趸呋b置200脫落的氧化物質(zhì)附著于選擇性還原催化裝置300，降低了選擇性還原催化裝置300的性能。

與此對(duì)照，在使用廢氣凈化裝置100的廢氣處理系統(tǒng)的情況下，在運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)間經(jīng)過1000小時(shí)的時(shí)間點(diǎn)，能夠滿足作為北美的NO_X排出基準(zhǔn)的0.20g/hp·hr，NO_X轉(zhuǎn)換效率也能夠保持70％以上。這是因?yàn)閺难趸呋b置200脫落的氧化物質(zhì)被廢氣凈化裝置100過濾，從而選擇性還原催化裝置300可以正常執(zhí)行NO_X還原功能。

在示例性實(shí)施例中，廢氣處理系統(tǒng)10可以還包括氨逃逸催化裝置400。例如，氨逃逸催化裝置400可以設(shè)置于選擇性還原催化裝置300下游的排氣管P并去除氨。

借助于還原劑噴射模塊320噴射的所述尿素而生成的所述氨，可以使廢氣F中的氮氧化物還原。此時(shí)，為了使所述氮氧化物的轉(zhuǎn)換效率最大化，可以供應(yīng)比化學(xué)計(jì)算的量更多量的氨。因此，所述氨未通過催化反應(yīng)而完全消耗，而是排放到大氣中，會(huì)誘發(fā)大氣污染，將其稱為氨逃逸(Ammonia slip)現(xiàn)象。氨逃逸催化裝置400通過去除選擇性還原催化裝置300未能消耗的所述氨，可以防止氨逃逸現(xiàn)象。

如上所述，示例性實(shí)施例的廢氣凈化裝置100可以防止從氧化催化裝置200及排氣管P脫落的氧化物質(zhì)流入選擇性還原催化裝置300。因此，選擇性還原催化裝置300可以不降低性能地執(zhí)行NO_X還原作用，可以減小排出到排氣管P的NO_X的量。

圖8是表示示例性的實(shí)施例的廢氣處理系統(tǒng)的圖。所述廢氣處理系統(tǒng)除了廢氣凈化裝置與氧化催化裝置被一同罐裝外，實(shí)質(zhì)上與參照?qǐng)D1進(jìn)行說明的廢氣處理系統(tǒng)相同或類似。因此，對(duì)于相同的構(gòu)成要素，以相同的附圖標(biāo)記代表，另外，省略對(duì)相同構(gòu)成要素的反復(fù)說明。

如果參照?qǐng)D8，在示例性實(shí)施例中，廢氣處理系統(tǒng)11可以包括與氧化催化裝置200一同罐裝的廢氣凈化裝置100。

所述第一及第二載體以陶瓷材質(zhì)構(gòu)成，易因外部沖擊而破碎。因此，為了保護(hù)所述載體不受外部沖擊，經(jīng)過用相對(duì)松軟的墊子包裹并放入罐子的罐裝工序。此時(shí)，可以把第一載體110直接置于第二載體210后端并一同罐裝。不同于此，也可以把第一載體110與第二載體210分別獨(dú)立地罐裝。

圖9是表示示例性的實(shí)施例的廢氣處理系統(tǒng)的圖。所述廢氣處理系統(tǒng)除設(shè)置有廢氣凈化裝置的位置外，實(shí)質(zhì)上與參照?qǐng)D1進(jìn)行說明的廢氣處理系統(tǒng)相同或類似。因此，對(duì)于相同的構(gòu)成要素，以相同的附圖標(biāo)記代表，另外，省略對(duì)相同構(gòu)成要素的重復(fù)說明。

如果參照?qǐng)D9，在示例性實(shí)施例中，廢氣處理系統(tǒng)12可以包括廢氣凈化裝置100，其設(shè)置于連接氧化催化裝置200和選擇性還原催化裝置300的排氣管P內(nèi)部。

廢氣凈化裝置100捕集從氧化催化裝置200脫落的氧化物質(zhì)，從而可以保持選擇性還原催化裝置300的性能。因此，廢氣凈化裝置100可以設(shè)置于氧化催化裝置200和選擇性還原催化裝置300之間的多種位置。例如，可以不另行罐裝所述廢氣凈化裝置，而設(shè)置于連接所述氧化催化裝置和所述選擇性還原催化裝置的所述排氣管內(nèi)部。

如上所述，示例性實(shí)施例的廢氣凈化裝置100可以設(shè)置于氧化催化裝置200和選擇性還原催化裝置300之間的多種位置。即，可以把廢氣凈化裝置100與氧化催化裝置200一同罐裝或獨(dú)立罐裝。不同于此，也可以把廢氣凈化裝置100安裝于排氣管P內(nèi)部。

圖10是表示示例性的實(shí)施例的廢氣處理系統(tǒng)的圖。圖11是沿圖10的C-C'線截?cái)嗟钠拭鎴D。所述廢氣處理系統(tǒng)除廢氣凈化裝置與氧化催化裝置一體形成之外，實(shí)質(zhì)上與參照?qǐng)D1進(jìn)行說明的廢氣處理系統(tǒng)相同或類似。因此，對(duì)于相同的構(gòu)成要素，以相同的附圖標(biāo)記代表，另外，省略對(duì)相同構(gòu)成要素的重復(fù)說明。

如果參照?qǐng)D10及圖11，在示例性實(shí)施例中，廢氣處理系統(tǒng)13可以包括與氧化催化裝置200一體形成的廢氣凈化裝置100。

例如，可以擠出陶瓷材質(zhì)的原材料，以蜂窩形狀形成一個(gè)載體，以便具備沿軸向延長(zhǎng)的至少一個(gè)通路。接著，可以在所述載體的后端部111涂布第一涂層121，在所述載體的前端部211涂布第二涂層221。此時(shí)，第一及第二涂層121、221可以根據(jù)把所述載體的一端浸于涂層溶液后取出的浸涂法(dip coating)形成。

發(fā)動(dòng)機(jī)(圖中未示出)排出的廢氣F可以依次通過第二涂層221及第一涂層121而排出到下游。第二涂層221可以使廢氣F中的一氧化碳及碳化氫氧化成二氧化碳及水。第一涂層121可以捕集從第二涂層221脫落的貴金屬等氧化物質(zhì)。

如上所述，示例性實(shí)施例的廢氣凈化裝置100可以在氧化催化裝置200的后端，區(qū)域性涂布第一涂層121，與氧化催化裝置200一體形成。此時(shí)，第一涂層121可以捕集從第二涂層221脫落的氧化物質(zhì)，保持選擇性還原催化裝置300的性能。

圖12是表示示例性的實(shí)施例的廢氣處理系統(tǒng)的圖。圖13是沿圖12的D-D'線截?cái)嗟钠拭鎴D。所述廢氣處理系統(tǒng)除廢氣凈化裝置設(shè)置于氧化催化裝置上游外，實(shí)質(zhì)上與參照?qǐng)D1進(jìn)行說明的廢氣處理系統(tǒng)相同或類似。因此，對(duì)于相同的構(gòu)成要素，以相同的附圖標(biāo)記代表，另外，省略對(duì)相同構(gòu)成要素的重復(fù)說明。

如果參照?qǐng)D12，廢氣處理系統(tǒng)14可以包括：氧化催化裝置200(Oxidation Catalyst)，其設(shè)置于排氣管P，用于去除廢氣F中的一氧化碳及碳化氫；選擇性還原催化裝置300(Selective Catalyst Reduction)，其設(shè)置于氧化催化裝置200下游的排氣管P，使氮氧化物(NO_X)還原；及廢氣凈化裝置102，其設(shè)置于氧化催化裝置200上游的排氣管P，可以捕集雜質(zhì)。即，廢氣凈化裝置102可以位于比氧化催化裝置200及選擇性還原催化裝置300上游。

如果參照?qǐng)D13，廢氣凈化裝置102可以包括具有第三通路117的第三載體115及涂布于第三載體115上的第三涂層125。此時(shí)，第三載體115及第三涂層125可以分別以實(shí)質(zhì)上與第一載體110及第一涂層120相同的形狀及材質(zhì)形成。

發(fā)動(dòng)機(jī)排出的廢氣通過第三通路117，然后可以依次經(jīng)過氧化催化裝置200及選擇性還原催化裝置300而排出到外部。此時(shí)，通過在第三載體115表面涂布第三涂層125，可以增加與廢氣F的接觸面積。因此，可以極大增加廢氣中包含的發(fā)動(dòng)機(jī)油等的雜質(zhì)會(huì)與廢氣凈化裝置102相遇的機(jī)會(huì)，防止流入氧化催化裝置200。

圖14是表示示例性的實(shí)施例的廢氣處理系統(tǒng)的圖。所述廢氣處理系統(tǒng)除廢氣凈化裝置與氧化催化裝置被一同罐裝外，實(shí)質(zhì)上與參照?qǐng)D12進(jìn)行說明的廢氣處理系統(tǒng)相同或類似。因此，對(duì)于相同的構(gòu)成要素，以相同的附圖標(biāo)記代表，另外，省略對(duì)相同構(gòu)成要素的重復(fù)說明。

如果參照?qǐng)D14，在示例性實(shí)施例中，廢氣處理系統(tǒng)15可以在氧化催化裝置200及氧化催化裝置200的上游，包括與氧化催化裝置200一同罐裝的廢氣凈化裝置102。

所述第二及第三載體由陶瓷材質(zhì)構(gòu)成，易因外部沖擊而破碎。因此，為了保護(hù)所述載體不受外部沖擊，經(jīng)過用相對(duì)松軟的墊子包裹并放入罐子的罐裝工序。此時(shí)，可以把第三載體115直接置于第二載體210前端并一同罐裝。

圖15是表示示例性的實(shí)施例的廢氣處理系統(tǒng)的圖。所述廢氣處理系統(tǒng)除廢氣凈化裝置設(shè)置的位置外，實(shí)質(zhì)上與參照?qǐng)D12進(jìn)行說明的廢氣處理系統(tǒng)相同或類似。因此，對(duì)于相同的構(gòu)成要素，以相同的附圖標(biāo)記代表，另外，省略對(duì)相同構(gòu)成要素的反復(fù)說明。

如果參照?qǐng)D15，在示例性的實(shí)施例中，廢氣處理系統(tǒng)16可以包括設(shè)置于氧化催化裝置200前端排氣管P內(nèi)部的廢氣凈化裝置102。

廢氣凈化裝置102捕集廢氣中包含的發(fā)動(dòng)機(jī)油等雜質(zhì)，從而能夠保持氧化催化裝置200的性能。因此，廢氣凈化裝置102可以設(shè)置于氧化催化裝置200前端的多種位置。例如，可以不另行罐裝所述廢氣凈化裝置，而設(shè)置于所述氧化催化裝置前端的所述排氣管內(nèi)部。

圖16是表示示例性的實(shí)施例的廢氣處理系統(tǒng)的圖。圖17是沿圖16的E-E'線截?cái)嗟钠拭鎴D。所述廢氣處理系統(tǒng)除廢氣凈化裝置與氧化催化裝置一體形成外，實(shí)質(zhì)上與參照?qǐng)D12進(jìn)行說明的廢氣處理系統(tǒng)相同或類似。因此，對(duì)于相同的構(gòu)成要素，以相同的附圖標(biāo)記代表，另外，省略對(duì)相同構(gòu)成要素的反復(fù)說明。

如果參照?qǐng)D16及圖17，在示例性實(shí)施例中，廢氣處理系統(tǒng)17可以包括與氧化催化裝置200一體形成的廢氣凈化裝置102。

例如，可以擠出陶瓷材質(zhì)的原材料，以蜂窩形狀形成一個(gè)載體，以便具備沿軸向延長(zhǎng)的至少一個(gè)通路。接著，可以在所述載體的后端部215涂布第二涂層222，在所述載體的前端部116涂布第三涂層126。此時(shí)，第二及第三涂層222、126可以根據(jù)把所述載體的一端浸于涂層溶液后取出的浸涂法(dip coating)形成。

發(fā)動(dòng)機(jī)(圖中未示出)排出的廢氣F可以依次通過第三涂層126及第二涂層222而排出到下游。第三涂層126可以捕集廢氣F中包含的發(fā)動(dòng)機(jī)油等雜質(zhì)。第二涂層221可以使廢氣F中的一氧化碳及碳化氫氧化成二氧化碳及水。

如上所述，示例性的實(shí)施例的廢氣凈化裝置102可以設(shè)置于氧化催化裝置200上游的多種位置。即，可以把廢氣凈化裝置102與氧化催化裝置200一同罐裝或獨(dú)立罐裝。不同于此，也可以把廢氣凈化裝置102安裝于排氣管P內(nèi)部。另外，根據(jù)情況，廢氣凈化裝置102可以在氧化催化裝置200的前端，區(qū)域性涂布第三涂層126，與氧化催化裝置200一體形成。因此，廢氣凈化裝置102可以去除廢氣中包含的發(fā)動(dòng)機(jī)油等雜質(zhì)，保持氧化催化裝置200的性能。

圖18是表示示例性的實(shí)施例的廢氣處理系統(tǒng)的圖。所述廢氣處理系統(tǒng)除多個(gè)廢氣凈化裝置分別設(shè)置于氧化催化裝置上游及氧化催化裝置與還原催化裝置之間外，實(shí)質(zhì)上與分別參照?qǐng)D1及圖12說明的廢氣處理系統(tǒng)相同或類似。因此，對(duì)于相同的構(gòu)成要素，以相同的附圖標(biāo)記代表，另外，省略對(duì)相同構(gòu)成要素的反復(fù)說明。

如果參照?qǐng)D18，廢氣處理系統(tǒng)18可以包括：氧化催化裝置200(Oxidation Catalyst)，其設(shè)置于排氣管P，用于去除廢氣F中的一氧化碳及碳化氫；選擇性還原催化裝置300(Selective Catalyst Reduction)，其設(shè)置于氧化催化裝置200下游的排氣管P，使氮氧化物(NO_X)還原；及廢氣凈化裝置104。廢氣凈化裝置104可以包括：第一廢氣凈化單元105，其安裝于氧化催化裝置200和選擇性還原催化裝置300之間的排氣管P；及第二廢氣凈化單元106，其安裝于氧化催化裝置200上游的排氣管P。

第一廢氣凈化單元105可以防止從氧化催化裝置200及排氣管P脫落的氧化物質(zhì)流入選擇性還原催化裝置300。因此，選擇性還原催化裝置300可以不降低性能地執(zhí)行NO_X還原作用，可以減小排出到排氣管P的NO_X的量。

此時(shí)，第一廢氣凈化單元105可以與氧化催化裝置200一同罐裝或與氧化催化裝置200一體形成。另外，根據(jù)情況，也可以安裝于氧化催化裝置200和選擇性還原催化裝置300之間的排氣管P內(nèi)部。

第二廢氣凈化單元106能夠防止廢氣中包含的發(fā)動(dòng)機(jī)油、硫(S)等雜質(zhì)流入氧化催化裝置200。因此，氧化催化裝置200可以不降低性能地使廢氣F中的一氧化碳及碳化氫氧化成二氧化碳及水。

此時(shí)，第二廢氣凈化單元106可以與氧化催化裝置200一同罐裝或與氧化催化裝置200一體形成。另外，根據(jù)情況，也可以安裝于氧化催化裝置200上游的排氣管P內(nèi)部。

如上所述，示例性實(shí)施例的廢氣凈化裝置104可以捕集廢氣中的雜質(zhì)，防止氧化催化裝置200的性能下降，可以捕集從氧化催化裝置200及排氣管P脫落的氧化物質(zhì)，防止選擇性還原催化裝置300的性能下降。

以上參照本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行了說明，但所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可以理解，在不超出下述權(quán)利要求書記載的本發(fā)明的思想及領(lǐng)域的范圍內(nèi)，可以多樣地修訂及變更本發(fā)明。

符號(hào)說明

F-廢氣，P-排氣管，10、11、12、13、14、15、16、17、18-廢氣處理系統(tǒng)，100、102、104-廢氣凈化裝置，105-第一廢氣凈化單元，106-第二廢氣凈化單元，110-第一載體，111、215-載體后端部，112-第一通路，115-第三載體，116、211-載體前端部，117-第三通路，120、121-第一涂層，125、126-第三涂層，200-氧化催化裝置，210-第二載體，212-第二通路，220、221、222-第二涂層，300-選擇性還原催化裝置，312-第一選擇性還原催化裝置，314-第二選擇性還原催化裝置，316-第三選擇性還原催化裝置，320-還原劑噴射模塊，400-氨逃逸催化裝置。