1.一種可徹底清除轉(zhuǎn)筒上吸附礦料的選礦設(shè)備，包括轉(zhuǎn)筒、設(shè)置在所述轉(zhuǎn)筒外圓表面的磁系及設(shè)置在所述轉(zhuǎn)筒一端的給礦槽和設(shè)置在轉(zhuǎn)筒另一端的磁性礦接料斗和非磁性礦接料斗，所述轉(zhuǎn)筒內(nèi)沿其軸線方向貫通設(shè)置有磁性礦溜槽，所述磁性礦接料斗設(shè)置在所述磁性礦溜槽的出口處，其特征在于：在所述轉(zhuǎn)筒的兩端設(shè)置有用于支撐所述磁性礦溜槽、且可調(diào)節(jié)支撐高度的支架，還包括用于清除轉(zhuǎn)筒內(nèi)壁上吸附礦料的礦料清除裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可徹底清除轉(zhuǎn)筒上吸附礦料的選礦設(shè)備，其特征在于：所述支架包括支撐板和支柱，所述支撐板與所述磁性礦溜槽連接固定，所述支柱包括固定段和可伸縮的設(shè)置在所述固定段上的活動段，所述固定段上設(shè)置有液壓缸，所述活動段的一端固定在所述液壓缸的活塞上，其另一端固定在所述支撐板上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種可徹底清除轉(zhuǎn)筒上吸附礦料的選礦設(shè)備，其特征在于：所述支撐板與磁性礦溜槽之間設(shè)置有彈性緩沖墊。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可徹底清除轉(zhuǎn)筒上吸附礦料的選礦設(shè)備，其特征在于：還包括可調(diào)支座，所述支架、轉(zhuǎn)筒、磁系固定在可調(diào)支座上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種可徹底清除轉(zhuǎn)筒上吸附礦料的選礦設(shè)備，其特征在于：還包括底板和固定在底板底部的移動滾輪，所述可調(diào)支座固定在所述底板上。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種可徹底清除轉(zhuǎn)筒上吸附礦料的選礦設(shè)備，其特征在于：還包括可驅(qū)使?jié)L筒旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動電機，所述驅(qū)動電機固定在所述可調(diào)支座上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可徹底清除轉(zhuǎn)筒上吸附礦料的選礦設(shè)備，其特征在于：所述礦料清除裝置包括與轉(zhuǎn)筒內(nèi)徑相適應(yīng)的環(huán)狀清除擦和驅(qū)動所述環(huán)狀清除擦進行清除操作的氣缸或液壓缸或電動推桿。