一種spe膜自動(dòng)噴涂裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種SPE膜自動(dòng)噴涂裝置，包括機(jī)箱、導(dǎo)軌、催化劑溫控噴涂裝置、電機(jī)和PLC控制系統(tǒng)；機(jī)箱由上往下分為噴涂工作平臺(tái)、真空室和設(shè)備箱；噴涂工作平臺(tái)用于放置固定SPE膜的膜夾具，其臺(tái)面上設(shè)有燒結(jié)多孔鈦板，且該臺(tái)面中均勻鑲嵌有感應(yīng)線圈；設(shè)備箱內(nèi)分別設(shè)有真空泵和與感應(yīng)線圈連接的加熱裝置；導(dǎo)軌設(shè)在機(jī)箱側(cè)面；催化劑溫控噴涂裝置與導(dǎo)軌滑動(dòng)連接，用于向SPE膜噴涂催化劑；電機(jī)用于控制催化劑溫控噴涂裝置沿著導(dǎo)軌移動(dòng)；PLC控制系統(tǒng)同時(shí)與催化劑溫控噴涂裝置、電機(jī)、加熱裝置和真空泵連接。本實(shí)用新型可在保證催化劑催化性能的同時(shí)，避免SPE膜發(fā)生膜溶脹變形，提高成膜質(zhì)量，滿足批量制作的要求。
【專利說明】
一種SPE膜自動(dòng)噴涂裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及一種SPE膜自動(dòng)噴涂裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]SPE電解，是利用具有質(zhì)子交換功能的固體聚合物電解質(zhì)膜取代傳統(tǒng)堿液電解質(zhì)的一種方式，其以純水為原料制氫，是21世紀(jì)極具發(fā)展前景的高效制氫手段。相對(duì)傳統(tǒng)的堿液電解，SPE電解具有電流密度大、池體發(fā)熱小、電解率高、可輸出高純(> 99.99%)及自增壓氫氣(>0.1 Mpa)的特點(diǎn)。
[0003]在SPE電解的相關(guān)技術(shù)中，負(fù)載陰、陽極催化劑的SPE膜制備是一項(xiàng)重要工作。目前常用方法包括轉(zhuǎn)壓法和直接噴涂法。轉(zhuǎn)壓法的工作原理是先將催化劑涂覆到其他易剝離介質(zhì)(如聚四氟乙烯板)表面，再轉(zhuǎn)壓到SPE膜上，該方法成膜規(guī)整但操作較繁瑣，轉(zhuǎn)壓壓力、轉(zhuǎn)壓溫度須充分優(yōu)化，否則將嚴(yán)重影響催化劑與SPE膜附著牢固程度。而噴涂法的工作原理是將調(diào)制成懸液的催化劑墨水(Catalyst Ink)直接噴涂在SPE膜上，其操作方式簡單，催化劑能與膜接觸充分，因此，采用自動(dòng)噴涂裝置可有效解決催化層厚度的均一性問題，便于批量制備。
[0004]自動(dòng)噴涂裝置可以通過PLC控制噴嘴的噴涂速度、高度和循環(huán)次數(shù)來控制催更換噴頭)完成噴涂工作。然而，現(xiàn)有的自動(dòng)噴涂裝置普遍存在著如下問題:
[0005](I)為保證催化性能，催化劑墨水不能像涂料一樣大量添加分散劑，因此催化劑墨水中催化劑在涂料罐放置過程中會(huì)逐漸沉淀、團(tuán)聚，嚴(yán)重影響了噴涂的均勻性；
[0006](2)催化劑墨水在與SPE膜接觸過程中易造成膜溶脹變形，影響成膜規(guī)整度。
[0007]因此，需要根據(jù)載催化劑SPE膜制備的實(shí)際情況，設(shè)計(jì)專門的噴涂設(shè)備，以便于有效提高成膜質(zhì)量，滿足批量制作的要求。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0008]針對(duì)上述現(xiàn)有設(shè)備的不足，本實(shí)用新型提供了一種SPE膜自動(dòng)噴涂裝置，可在保證催化劑催化性能的同時(shí)，避免SPE膜發(fā)生膜溶脹變形，提高成膜質(zhì)量，滿足批量制作的要求。
[0009]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下:
[0010]一種SPE膜自動(dòng)噴涂裝置，包括機(jī)箱、導(dǎo)軌、催化劑溫控噴涂裝置、電機(jī)和PLC控制系統(tǒng)，其中:
[0011]所述機(jī)箱由上往下分為三層，依次為噴涂工作平臺(tái)、真空室和設(shè)備箱;所述噴涂工作平臺(tái)用于放置固定SPE膜的膜夾具，其臺(tái)面上設(shè)有燒結(jié)多孔鈦板，且該臺(tái)面中還均勻鑲嵌有感應(yīng)線圈;所述設(shè)備箱內(nèi)分別設(shè)有用于抽真空使真空室形成負(fù)壓狀態(tài)的真空栗和與感應(yīng)線圈連接的用于對(duì)噴涂工作平臺(tái)進(jìn)行加熱的加熱裝置；
[0012]所述導(dǎo)軌設(shè)置在機(jī)箱側(cè)面；
[0013]所述催化劑溫控噴涂裝置與該導(dǎo)軌滑動(dòng)連接，用于向SPE膜噴涂催化劑；
[0014]所述電機(jī)與催化劑溫控噴涂裝置連接，用于控制催化劑溫控噴涂裝置沿著導(dǎo)軌移動(dòng)；
[0015]所述PLC控制系統(tǒng)同時(shí)與催化劑溫控噴涂裝置、電機(jī)、加熱裝置和真空栗連接。
[0016]進(jìn)一步地，所述設(shè)備箱中還設(shè)有用于在微小溫差時(shí)對(duì)噴涂工作平臺(tái)作出溫度補(bǔ)償?shù)陌雽?dǎo)體降溫模塊。
[0017]再進(jìn)一步地，所述噴涂工作平臺(tái)上還分別設(shè)有大小、結(jié)構(gòu)完全相同的X向定位夾具和Y向定位夾具;X向定位夾具和Y向定位夾具配合實(shí)現(xiàn)對(duì)SPE膜的膜夾具進(jìn)行夾緊定位。
[0018]具體地說，所述X向定位夾具包括設(shè)置在噴涂工作平臺(tái)上、且具有指針的標(biāo)尺，以及滑塊、滑塊定位孔和滑塊定位螺栓;所述滑塊上設(shè)有用于定位膜夾具的調(diào)節(jié)槽;所述滑塊定位孔至少為兩個(gè)，且均布在標(biāo)尺上;所述滑塊通過滑塊定位螺栓打入滑塊定位孔的方式與標(biāo)尺連接。
[0019]更進(jìn)一步地，所述滑塊上還設(shè)有滑塊調(diào)節(jié)槽;所述的滑塊定位螺栓貫穿該滑塊調(diào)節(jié)槽，以實(shí)現(xiàn)滑塊沿著標(biāo)尺進(jìn)行位置微調(diào)。
[0020]具體地說，所述催化劑溫控噴涂裝置包括與導(dǎo)軌滑動(dòng)連接、且與電機(jī)連接的豎直支架，與該豎直支架連接的水平支架，與該水平支架滑動(dòng)連接、并且位于噴涂工作平臺(tái)上方的用于向SPE膜噴涂催化劑的噴嘴，以及分別與該噴嘴和PLC控制系統(tǒng)連接的催化劑儲(chǔ)存裝置。
[0021]具體地說，所述催化劑儲(chǔ)存裝置包括與噴嘴連接、并儲(chǔ)存有催化劑墨水的涂料罐，設(shè)置在該涂料罐中的加熱系統(tǒng)，以及均與涂料罐連接的超聲波震蕩器和溫度傳感器;所述超聲波震蕩器和溫度傳感器均與PLC控制系統(tǒng)連接。
[0022]作為優(yōu)選，所述電機(jī)為步進(jìn)電機(jī)。
[0023]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具有以下有益效果:
[0024](I)本實(shí)用新型在噴涂工作平臺(tái)的臺(tái)面上采用燒結(jié)多孔鈦板，并設(shè)置了真空栗和真空室，利用真空栗對(duì)真空室的抽真空，使其形成負(fù)壓狀態(tài)，如此一來，利用燒結(jié)多孔鈦板上的微孔，可使氣體在鈦板中保持穩(wěn)定的滲透率，并且利用真空室的負(fù)壓，可以使SPE膜充分貼合在燒結(jié)多孔鈦板的表面，從而避免了傳統(tǒng)毫米孔徑的臺(tái)面抽真空時(shí)造成的膜變形。
[0025](2)本實(shí)用新型在噴涂工作平臺(tái)中嵌入了感應(yīng)線圈，通過加熱裝置的加熱，可使噴涂工作平臺(tái)以磁場(chǎng)感應(yīng)渦流的方式進(jìn)行加熱，從而避免了使用電阻絲加熱帶來的溫度分布不均，如此可使噴涂介質(zhì)的揮發(fā)更加均勻，膜的厚度更加均一、穩(wěn)定。
[0026](3)本實(shí)用新型設(shè)置了超聲波震蕩器和溫度傳感器，可以保證催化劑墨水的均勻性，并實(shí)時(shí)控制催化劑墨水的加熱溫度，確保其不出現(xiàn)團(tuán)聚的現(xiàn)象。
[0027](4)本實(shí)用新型采用導(dǎo)軌、豎直支架和水平支架來控制噴嘴的移動(dòng)，調(diào)節(jié)其與噴涂工作平臺(tái)臺(tái)面的距離，并結(jié)合催化劑墨水的溫度來調(diào)整噴嘴的噴涂速度，保證了 SPE膜噴涂的均勻性。
[0028](5)本實(shí)用新型在噴涂工作平臺(tái)上設(shè)置了定位夾具，可實(shí)現(xiàn)對(duì)膜夾具的精準(zhǔn)定位，并且還可以實(shí)現(xiàn)輔助定位判斷，方便對(duì)SPE膜的均勻噴涂。
[0029](6)為保證溫度恒定，減少溫度波動(dòng)，本實(shí)用新型還配置了一套半導(dǎo)體降溫模塊，其可在微小溫差時(shí)對(duì)噴涂工作平臺(tái)作出溫度補(bǔ)償，從而使噴涂工作平臺(tái)的溫度更加穩(wěn)定，進(jìn)一步保證SPE膜噴涂工作的順利進(jìn)行。
[0030](7)本實(shí)用新型設(shè)計(jì)合理、使用方便、噴涂穩(wěn)定性高，具有很高的實(shí)用價(jià)值和推廣價(jià)值。
【附圖說明】
[0031]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0032]圖2為本實(shí)用新型部分零部件的局部剖視圖。
[0033]圖3為本實(shí)用新型中X向定位夾具(或Y向定位夾具)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0034]其中，附圖標(biāo)記對(duì)應(yīng)的零部件名稱為:
[0035]1-噴涂工作平臺(tái)，2-機(jī)箱，3-導(dǎo)軌，4-豎直支架，5-水平支架，6_噴嘴，7_超聲波震蕩器，8-溫度傳感器，9-涂料罐，1-X向定位夾具，101-滑塊定位孔，102-標(biāo)尺，103-觀察窗，104-滑塊定位螺栓，105-調(diào)節(jié)槽，106-滑塊調(diào)節(jié)槽，107-滑塊，11-加熱裝置，12-真空栗，13-真空室，14-電機(jī)，15-PLC控制系統(tǒng)，16-設(shè)備箱，17-半導(dǎo)體降溫模塊。
【具體實(shí)施方式】
[0036]下面結(jié)合【附圖說明】和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明，本實(shí)用新型的方式包括但不僅限于以下實(shí)施例。
[0037]如圖1、2所示，本實(shí)用新型提供了一種新型的SPE膜自動(dòng)噴涂裝置，其包括機(jī)箱2、導(dǎo)軌3、催化劑溫控噴涂裝置、電機(jī)14和與電機(jī)14連接的PLC控制系統(tǒng)15。
[0038]所述的機(jī)箱2由上往下分為三層，依次為噴涂工作平臺(tái)1、真空室13和設(shè)備箱16，其中，噴涂工作平臺(tái)I用于放置膜夾具(固定SPE膜用)，其臺(tái)面上設(shè)有燒結(jié)多孔鈦板，且該臺(tái)面中還均勻鑲嵌有感應(yīng)線圈;所述設(shè)備箱內(nèi)分別設(shè)有用于抽真空使真空室形成負(fù)壓狀態(tài)的真空栗12和與感應(yīng)線圈連接的用于對(duì)噴涂工作平臺(tái)進(jìn)行加熱的加熱裝置11，所述的真空栗12和加熱裝置11均與PLC控制系統(tǒng)15連接。此外，所述的設(shè)備箱16中還設(shè)有半導(dǎo)體降溫模塊17，其用于在微小溫差時(shí)對(duì)噴涂工作平臺(tái)作出溫度補(bǔ)償，以使噴涂工作平臺(tái)I的溫度更加穩(wěn)定。
[0039]另外，為實(shí)現(xiàn)對(duì)膜夾具的精準(zhǔn)定位的同時(shí)，可以實(shí)現(xiàn)輔助定位判斷，所述噴涂工作平臺(tái)I上還分別設(shè)有大小、結(jié)構(gòu)完全相同的X向定位夾具和Y向定位夾具;X向定位夾具和Y向定位夾具配合實(shí)現(xiàn)對(duì)SPE膜的膜夾具進(jìn)行夾緊定位。如圖3所示，以X向定位夾具為例，該X向定位夾具10包括設(shè)置在噴涂工作平臺(tái)I上、且具有指針的標(biāo)尺102，以及滑塊107、滑塊定位孔101和滑塊定位螺栓104;所述滑塊107上設(shè)有用于定位膜夾具的調(diào)節(jié)槽105;所述滑塊定位孔101至少為兩個(gè)，且均布在標(biāo)尺102上;所述滑塊107通過滑塊定位螺栓打入滑塊定位孔的方式與標(biāo)尺102連接。并且，滑塊107上還設(shè)有觀察窗103和滑塊調(diào)節(jié)槽106，其中，指針位于該觀察窗103內(nèi)，從而利用觀察窗103，可以方便了解標(biāo)尺102的讀數(shù);而所述的滑塊定位螺栓104則貫穿滑塊調(diào)節(jié)槽106，以實(shí)現(xiàn)滑塊107沿著標(biāo)尺進(jìn)行位置微調(diào)。
[0040]所述導(dǎo)軌3設(shè)置在機(jī)箱2側(cè)面，所述的催化劑溫控噴涂裝置用于向SPE膜噴涂催化劑，而所述的電機(jī)14則用于控制催化劑溫控噴涂裝置沿著導(dǎo)軌移動(dòng)，本實(shí)施例中，該電機(jī)14采用步進(jìn)電機(jī)。具體地說，所述催化劑溫控噴涂裝置包括與導(dǎo)軌3滑動(dòng)連接、且與電機(jī)14連接的豎直支架4，與該豎直支架4連接的水平支架5，與該水平支架5滑動(dòng)連接、并且位于噴涂工作平臺(tái)上方的用于向SPE膜噴涂催化劑的噴嘴6，以及催化劑儲(chǔ)存裝置。本實(shí)施例中，噴嘴6采用圓孔形噴嘴，其可以采用電動(dòng)機(jī)控制或手動(dòng)調(diào)節(jié)的方式在水平支架5上移動(dòng)。同時(shí)，噴嘴6的孔徑可以根據(jù)需要噴涂膜的大小更換。如此一來，根據(jù)所需膜厚度和膜大小選用合適的孔徑、間距以及移動(dòng)距離，可以實(shí)現(xiàn)均勻的膜噴涂。
[0041]而進(jìn)一步地，所述催化劑儲(chǔ)存裝置包括與噴嘴6連接、并儲(chǔ)存有催化劑墨水的涂料罐9，設(shè)置在該涂料罐9中的加熱系統(tǒng)，以及均與涂料罐9連接的超聲波震蕩器7和溫度傳感器8;所述超聲波震蕩器7和溫度傳感器8均與PLC控制系統(tǒng)15連接。本實(shí)施例中，溫度傳感器8和超聲波震蕩裝置7安裝在噴嘴6附近，用于將催化劑墨水進(jìn)行超聲震蕩，消除催化劑的團(tuán)聚的同時(shí)測(cè)量催化劑墨水的溫度。
[0042]下面對(duì)本實(shí)用新型采用催化劑自動(dòng)噴涂SPE膜的過程進(jìn)行詳細(xì)介紹。
[0043]初始時(shí)，啟動(dòng)真空栗12，對(duì)抽真空室13進(jìn)行抽真空，使其處于負(fù)壓狀態(tài)。而后，將所需噴涂的SPE膜放置在噴涂工作平臺(tái)I的臺(tái)面上(通過在膜夾具)，膜夾具距離噴涂工作平臺(tái)的距離不大于lcm。然后通過X向定位夾具和Y向定位夾具進(jìn)行定位。該過程中，SPE膜放置在噴涂工作平臺(tái)I上時(shí)，利用燒結(jié)多孔鈦板上的微孔，可使氣體在鈦板中保持穩(wěn)定的滲透率，而真空室13的負(fù)壓則可以使SPE膜充分貼合在燒結(jié)多孔鈦板的表面，從而有效消除噴涂過程中SPE膜的溶脹。
[0044]接著，利用加熱裝置11將噴涂工作平臺(tái)I加熱到指定的溫度。由于噴涂工作平臺(tái)I的臺(tái)面中均勻鑲嵌有感應(yīng)線圈，感應(yīng)線圈升溫快且穩(wěn)定，因而可以避免使用普通的電阻絲加熱過程中前置加熱時(shí)間過長，要達(dá)到整個(gè)噴涂平臺(tái)溫度均勻較難等問題。又由于在設(shè)備箱16中設(shè)置有半導(dǎo)體降溫模塊17，因此在加熱的過程中，可以實(shí)現(xiàn)溫度補(bǔ)償，使噴涂工作平臺(tái)I的溫度更加穩(wěn)定。
[0045]而后，通過電機(jī)14調(diào)整豎直支架4和水平支架5的位置，調(diào)整好噴嘴6的噴涂位置。這是因?yàn)閲娮?距SPE膜的位置一定時(shí)，噴涂半徑R為定值，且噴涂時(shí)噴涂中心厚度較厚，所以在噴涂時(shí)為了綜合噴涂效率，噴涂質(zhì)量，需合理的設(shè)置噴嘴距離膜的高度。
[0046]緊接著，利用加熱系統(tǒng)將涂料罐9中的催化劑墨水加熱至所需的溫度，然后利用超聲震蕩器7對(duì)加熱的催化劑墨水進(jìn)行震蕩，消除其中的團(tuán)聚現(xiàn)象。在此過程中，通過溫度傳感器8來實(shí)時(shí)反饋催化劑墨水的溫度，并通過PLC控制系統(tǒng)15控制加熱系統(tǒng)，保證催化劑墨水的加熱溫度，進(jìn)而保證其在噴涂時(shí)溶劑能迅速揮發(fā)且不會(huì)造成SPE膜溶脹。
[0047]本實(shí)用新型采用U型掃描噴涂的方式對(duì)SPE膜進(jìn)行噴涂，具體為:從SPE膜的一端開始，來回進(jìn)行U型掃描噴涂，通過需求的催化劑厚度來設(shè)定噴涂的循環(huán)次數(shù)，而噴嘴6處的流量則與噴涂速度、基質(zhì)溫度和催化劑墨水的溫度有關(guān)。通過調(diào)節(jié)圓形孔噴嘴6處的流量以及噴涂速度，通過多次循環(huán)掃描噴涂，能夠?qū)崿F(xiàn)SPE膜上催化劑的均勻噴涂。
[0048]單面噴涂完畢后，從定位夾具上取下膜的夾具，然后直接翻面，并重新固定在定位夾具上，然后繼續(xù)重復(fù)上述步驟，直至完成噴涂工作。
[0049]本實(shí)用新型通過合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，不僅有效解決了SPE膜在噴涂過程中因?yàn)槭軣岵痪鸬哪と苊泦栴}，而且利用噴嘴在支架上的位置調(diào)節(jié)以及PLC控制系統(tǒng)控制的噴涂速度，并根據(jù)所需催化劑層厚度進(jìn)行合適的循環(huán)噴涂，可以得到均勻的噴涂膜成品。同時(shí)，通過在設(shè)置的溫度傳感器和超聲震蕩裝置，則可以有效解決催化劑墨水放置過程中的團(tuán)聚現(xiàn)象。由此可見，本實(shí)用新型很好地解決了現(xiàn)有技術(shù)所存在的問題，其與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有實(shí)質(zhì)性的特點(diǎn)和進(jìn)步。
[0050]上述實(shí)施例僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式之一，不應(yīng)當(dāng)用于限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍，凡在本實(shí)用新型的主體設(shè)計(jì)思想和精神上作出的毫無實(shí)質(zhì)意義的改動(dòng)或潤色，其所解決的技術(shù)問題仍然與本實(shí)用新型一致的，均應(yīng)當(dāng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種SPE膜自動(dòng)噴涂裝置，其特征在于，包括機(jī)箱(2)、導(dǎo)軌(3)、催化劑溫控噴涂裝置、電機(jī)(14)和PLC控制系統(tǒng)(15)，其中: 所述機(jī)箱(2)由上往下分為三層，依次為噴涂工作平臺(tái)(1)、真空室(13)和設(shè)備箱(16);所述噴涂工作平臺(tái)用于放置固定SPE膜的膜夾具，其臺(tái)面上設(shè)有燒結(jié)多孔鈦板，且該臺(tái)面中還均勻鑲嵌有感應(yīng)線圈;所述設(shè)備箱內(nèi)分別設(shè)有用于抽真空使真空室形成負(fù)壓狀態(tài)的真空栗(12)和與感應(yīng)線圈連接的用于對(duì)噴涂工作平臺(tái)進(jìn)行加熱的加熱裝置(11); 所述導(dǎo)軌設(shè)置在機(jī)箱側(cè)面； 所述催化劑溫控噴涂裝置與該導(dǎo)軌滑動(dòng)連接，用于向SPE膜噴涂催化劑； 所述電機(jī)與催化劑溫控噴涂裝置連接，用于控制催化劑溫控噴涂裝置沿著導(dǎo)軌移動(dòng)； 所述PLC控制系統(tǒng)同時(shí)與催化劑溫控噴涂裝置、電機(jī)、加熱裝置和真空栗連接。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種SPE膜自動(dòng)噴涂裝置，其特征在于，所述設(shè)備箱(16)中還設(shè)有用于在微小溫差時(shí)對(duì)噴涂工作平臺(tái)作出溫度補(bǔ)償?shù)陌雽?dǎo)體降溫模塊(17)。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種SPE膜自動(dòng)噴涂裝置，其特征在于，所述噴涂工作平臺(tái)(I)上還分別設(shè)有大小、結(jié)構(gòu)完全相同的X向定位夾具和Y向定位夾具;X向定位夾具和Y向定位夾具配合實(shí)現(xiàn)對(duì)SPE膜的膜夾具進(jìn)行夾緊定位。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種SPE膜自動(dòng)噴涂裝置，其特征在于，所述X向定位夾具(10)包括設(shè)置在噴涂工作平臺(tái)(I)上、且具有指針的標(biāo)尺(102)，以及滑塊(107)、滑塊定位孔(101)和滑塊定位螺栓(104);所述滑塊(107)上設(shè)有用于定位膜夾具的調(diào)節(jié)槽(105);所述滑塊定位孔(101)至少為兩個(gè)，且均布在標(biāo)尺(102)上;所述滑塊(107)通過滑塊定位螺栓打入滑塊定位孔的方式與標(biāo)尺(102)連接。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種SPE膜自動(dòng)噴涂裝置，其特征在于，所述滑塊(107)上還設(shè)有滑塊調(diào)節(jié)槽(106);所述的滑塊定位螺栓(104)貫穿該滑塊調(diào)節(jié)槽(106)，以實(shí)現(xiàn)滑塊(107)沿著標(biāo)尺進(jìn)行位置微調(diào)。6.根據(jù)權(quán)利要求1、2、4或5所述的一種SPE膜自動(dòng)噴涂裝置，其特征在于，所述催化劑溫控噴涂裝置包括與導(dǎo)軌(3)滑動(dòng)連接、且與電機(jī)(14)連接的豎直支架(4)，與該豎直支架(4)連接的水平支架(5)，與該水平支架(5)滑動(dòng)連接、并且位于噴涂工作平臺(tái)上方的用于向SPE膜噴涂催化劑的噴嘴(6)，以及分別與該噴嘴(6)和PLC控制系統(tǒng)(15)連接的催化劑儲(chǔ)存裝置。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種SPE膜自動(dòng)噴涂裝置，其特征在于，所述催化劑儲(chǔ)存裝置包括與噴嘴(6)連接、并儲(chǔ)存有催化劑墨水的涂料罐(9)，設(shè)置在該涂料罐(9)中的加熱系統(tǒng)，以及均與涂料罐(9)連接的超聲波震蕩器(7)和溫度傳感器(8);所述超聲波震蕩器(7)和溫度傳感器(8 )均與PLC控制系統(tǒng)(15 )連接。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種SPE膜自動(dòng)噴涂裝置，其特征在于，所述電機(jī)(14)為步進(jìn)電機(jī)。
【文檔編號(hào)】B05B13/02GK205550636SQ201620396256
【公開日】2016年9月7日
【申請(qǐng)日】2016年5月5日
【發(fā)明人】鄧立, 何康昊, 宋江鋒, 羅軍洪, 楊雷, 文明, 姜飛, 李佩龍, 羅德禮
【申請(qǐng)人】中國工程物理研究院材料研究所