一種染料粉碎研磨盤的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本實(shí)用新型涉及一種染料生產(chǎn)設(shè)備，具體是一種染料粉碎研磨盤。
【背景技術(shù)】
[0002]染料在反應(yīng)釜中混合反應(yīng)后，通過(guò)干燥機(jī)將液體中的水分蒸發(fā)，僅留有染料固體以晶體的形式存在，染料實(shí)際使用時(shí)，需要染料以粉狀的形式才方便其溶解，縮短染料與水混合的時(shí)間，提高印染效率，因此，需要將染料晶體進(jìn)行充分的研磨粉碎，就需要用到研磨機(jī)，現(xiàn)有的研磨機(jī)器研磨盤往往是兩個(gè)相互貼合的粉碎輥，通過(guò)相互擠壓將其研磨成粉狀，但是這種研磨盤對(duì)于染料晶體中的大顆粒物質(zhì)的過(guò)濾，研磨后料粉的收集均很難做到，尤其是研磨后的粉料，需要專門的收集裝置進(jìn)行收集，增加了設(shè)備的體積。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，體積小，研磨充分均勻，收集方便的染料粉碎研磨盤，以解決上述【背景技術(shù)】中提出的問(wèn)題。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:
[0005]—種染料粉碎研磨盤，包括上磨盤和下磨盤;所述上磨盤置于下磨盤上，在上磨盤和下磨盤之間設(shè)有研磨面，研磨面為上磨盤的下表面和下磨盤的上表面;所述上磨盤的上表面開設(shè)有向下凹陷的堆積槽，堆積槽側(cè)壁上設(shè)置為斜面，斜面環(huán)繞在堆積槽的內(nèi)壁上，在堆積槽以及斜面的上開設(shè)有若干個(gè)第一下料孔，第一下料孔豎直向下，在上磨盤的內(nèi)部設(shè)置有一水平的分散槽，分散槽與下料孔連通，在分散槽的側(cè)壁上分別設(shè)有進(jìn)風(fēng)口和出風(fēng)口，分散槽的底部連通有若干個(gè)第二下料孔，且第二下料孔的直徑大于第一下料孔的直徑;所述下磨盤的側(cè)壁上環(huán)繞有一圈收集槽，在收集槽的下端連通有下料管，所述收集槽的上端外側(cè)還設(shè)有一圈擋板，擋板的上端高于研磨面;所述上磨盤和下磨盤的中心軸上固定安裝有轉(zhuǎn)軸安裝座，且分別位于上密盤的上表面和下磨盤的下表面。
[0006]進(jìn)一步的:所述堆積槽的深度為上磨盤厚度的1/2?2/3。
[0007]進(jìn)一步的:所述收集槽的寬度為30?50mm。
[0008]進(jìn)一步的:所述下料管上設(shè)有閥門。
[0009]進(jìn)一步的:所述轉(zhuǎn)軸安裝座側(cè)壁上開設(shè)有小孔。
[0010]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，體積小，研磨充分均勻，收集方便，通過(guò)第一下料孔進(jìn)行過(guò)濾，在第二下料孔快下料，提高研磨效率，研磨結(jié)束后，向進(jìn)風(fēng)口內(nèi)通入空氣，將內(nèi)部的染料吹出，便可以對(duì)磨盤進(jìn)行清理。
【附圖說(shuō)明】
[0011 ]圖1為一種染料粉碎研磨盤的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖中:1-上磨盤，2-下磨盤，3-轉(zhuǎn)軸安裝座，4-堆積槽，5-斜面，6_第一下料孔，7_分散槽，8-第二下料孔，9-進(jìn)風(fēng)口，10-出風(fēng)口，11-研磨面，12-收集槽，13-擋板，14-下料管。
【具體實(shí)施方式】
[0013]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0014]請(qǐng)參閱圖，本實(shí)用新型實(shí)施例中，一種染料粉碎研磨盤，包括上磨盤I和下磨盤2;所述上磨盤I置于下磨盤2上，且相互貼合，在上磨盤I和下磨盤2之間設(shè)有研磨面11，研磨面11為上磨盤I的下表面和下磨盤2的上表面;所述上磨盤I的上表面開設(shè)有向下凹陷的堆積槽4，堆積槽4的深度為上磨盤I厚度的1/2?2/3，堆積槽4側(cè)壁上設(shè)置有斜面5，斜面5環(huán)繞在堆積槽4的內(nèi)壁上，在堆積槽4以及斜面5的上開設(shè)有若干個(gè)第一下料孔6，第一下料孔6豎直向下，在上磨盤I的內(nèi)部設(shè)置有一水平的分散槽7，分散槽7與下料孔6連通，在分散槽7的側(cè)壁上分別設(shè)有進(jìn)風(fēng)口 9和出風(fēng)口 10，分散槽7的底部連通有若干個(gè)第二下料孔8，且第二下料孔8的直徑大于第一下料孔6的直徑;所述下磨盤2的側(cè)壁上環(huán)繞有一圈收集槽12，收集槽12的寬度為30?50mm，收集槽12的底部為傾斜面，在收集槽12的下端連通有下料管14，下料管14上設(shè)有閥門，所述收集槽12的上端外側(cè)還設(shè)有一圈擋板13，擋板13的上端高于研磨面11;所述上磨盤I和下磨盤2的中心軸上固定安裝有轉(zhuǎn)軸安裝座3，且分別位于上密盤I的上表面和下磨盤2的下表面，轉(zhuǎn)軸安裝座3側(cè)壁上開設(shè)有小孔，便于固定轉(zhuǎn)軸。
[0015]在進(jìn)行染料研磨時(shí)，將染料晶體倒入堆積槽4內(nèi)，染料晶體通過(guò)第一下料孔6進(jìn)入到分散槽7內(nèi)，在分散槽7內(nèi)均勻分布到不同的位置，通過(guò)第二下料孔8落到研磨面11上，驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)軸固定在轉(zhuǎn)軸安裝座3上，帶動(dòng)上磨盤I和下磨盤2轉(zhuǎn)動(dòng)，上磨盤I和下磨盤2的轉(zhuǎn)動(dòng)方向相反，對(duì)研磨面11上的染料晶體進(jìn)行研磨，研磨后的粉料從磨盤圓周上落下，進(jìn)入到收集槽12內(nèi)，在收集槽12內(nèi)收集，裝袋使只需要通過(guò)下料管14收集即可，研磨結(jié)束后，向進(jìn)風(fēng)口9內(nèi)通入空氣，將內(nèi)部的染料吹出，便可以對(duì)磨盤進(jìn)行清理。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，體積小，研磨充分均勻，收集方便，通過(guò)第一下料孔進(jìn)行過(guò)濾，在第二下料孔快下料，提高研磨效率。
[0016]對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，顯然本實(shí)用新型不限于上述示范性實(shí)施例的細(xì)節(jié)，而且在不背離本實(shí)用新型的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型。因此，無(wú)論從哪一點(diǎn)來(lái)看，均應(yīng)將實(shí)施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本實(shí)用新型的范圍由所附權(quán)利要求而不是上述說(shuō)明限定，因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本實(shí)用新型內(nèi)。不應(yīng)將權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記視為限制所涉及的權(quán)利要求。
[0017]此外，應(yīng)當(dāng)理解，雖然本說(shuō)明書按照實(shí)施方式加以描述，但并非每個(gè)實(shí)施方式僅包含一個(gè)獨(dú)立的技術(shù)方案，說(shuō)明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說(shuō)明書作為一個(gè)整體，各實(shí)施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合，形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實(shí)施方式。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種染料粉碎研磨盤，包括上磨盤(I)和下磨盤(2);其特征在于:所述上磨盤(I)置于下磨盤(2)上，在上磨盤(I)和下磨盤(2)之間設(shè)有研磨面(11)，研磨面(11)為上磨盤(I)的下表面和下磨盤(2)的上表面;所述上磨盤(I)的上表面開設(shè)有向下凹陷的堆積槽(4)，堆積槽(4)側(cè)壁上設(shè)置為斜面(5)，斜面(5)環(huán)繞在堆積槽(4)的內(nèi)壁上，在堆積槽(4)以及斜面(5)的上開設(shè)有若干個(gè)第一下料孔(6)，第一下料孔(6)豎直向下，在上磨盤(I)的內(nèi)部設(shè)置有一水平的分散槽(7)，分散槽(7)與下料孔(6)連通，在分散槽(7)的側(cè)壁上分別設(shè)有進(jìn)風(fēng)口(9)和出風(fēng)口(10)，分散槽(7)的底部連通有若干個(gè)第二下料孔(8)，且第二下料孔(8)的直徑大于第一下料孔(6)的直徑;所述下磨盤(2)的側(cè)壁上環(huán)繞有一圈收集槽(12)，在收集槽(12)的下端連通有下料管(14)，所述收集槽(12)的上端外側(cè)還設(shè)有一圈擋板(13)，擋板(13)的上端高于研磨面(11);所述上磨盤(I)和下磨盤(2)的中心軸上固定安裝有轉(zhuǎn)軸安裝座(3)，且分別位于上密盤(I)的上表面和下磨盤(2)的下表面。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種染料粉碎研磨盤，其特征在于:所述堆積槽(4)的深度為上磨盤(I)厚度的1/2?2/3。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種染料粉碎研磨盤，其特征在于:所述收集槽(12)的寬度為30?50mmo4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種染料粉碎研磨盤，其特征在于:所述下料管(14)上設(shè)有閥門。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種染料粉碎研磨盤，其特征在于:所述轉(zhuǎn)軸安裝座(3)側(cè)壁上開設(shè)有小孔。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種染料粉碎研磨盤，包括上磨盤和下磨盤；所述上磨盤置于下磨盤上，在上磨盤和下磨盤之間設(shè)有研磨面；所述上磨盤的上表面開設(shè)有向下凹陷的堆積槽，在堆積槽以及斜面的上開設(shè)有若干個(gè)第一下料孔，在上磨盤的內(nèi)部設(shè)置有一水平的分散槽，分散槽與下料孔連通，在分散槽的側(cè)壁上分別設(shè)有進(jìn)風(fēng)口和出風(fēng)口，分散槽的底部連通有若干個(gè)第二下料孔；所述下磨盤的側(cè)壁上環(huán)繞有一圈收集槽。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，體積小，研磨充分均勻，收集方便，通過(guò)第一下料孔進(jìn)行過(guò)濾，在第二下料孔快下料，提高研磨效率，研磨結(jié)束后，向進(jìn)風(fēng)口內(nèi)通入空氣，將內(nèi)部的染料吹出，便可以對(duì)磨盤進(jìn)行清理。
【IPC分類】B02C7/12, B02C7/08, B02C7/11
【公開號(hào)】CN205164815
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520942223
【發(fā)明人】曾招雄
【申請(qǐng)人】泉州市新宏化工貿(mào)易有限公司
【公開日】2016年4月20日
【申請(qǐng)日】2015年11月24日