一種新型水膜除塵脫硫裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于除塵設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種新型水膜除塵脫硫裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]常見的燃煤鍋爐煙氣脫硫除塵裝置有噴淋式、文丘里管式、沖擊凈化式等，為提高除塵效率人們通常將其串聯(lián)使用，或?qū)ζ溥M(jìn)行改裝，但改裝后內(nèi)部結(jié)構(gòu)復(fù)雜，當(dāng)氣體瞬間沖擊內(nèi)部時(shí)，極易引起堵塞，而且單個(gè)除塵器的除塵效率不是很高，因此有待改進(jìn)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問題，提供了一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，且凈化效果好的新型水膜除塵脫硫裝置。
[0004]本實(shí)用新型的目的可通過下列技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn):一種新型水膜除塵脫硫裝置，包括殼體，所述的殼體上設(shè)有的進(jìn)氣口和出氣口，其特征在于:殼體底部設(shè)有沉淀池，殼體內(nèi)設(shè)有通過隔板隔開的沖擊凈化通道和噴淋除塵通道，沖擊凈化通道和噴淋除塵通道通過隔板底部連通，所述的進(jìn)氣口和出氣口分別設(shè)在沖擊凈化通道頂部和噴淋除塵通道頂部，沖擊凈化通道內(nèi)設(shè)有沖擊板，噴淋除塵通道內(nèi)設(shè)有水膜板，且沖擊凈化通道頂部設(shè)有高沖擊噴頭，噴淋除塵通道頂部設(shè)有花灑頭，所述的水膜板包括相互連接并呈V形設(shè)置的兩個(gè)夾板，且兩個(gè)夾板頂部高度相同，底部相互連接，水膜板在噴淋除塵通道內(nèi)橫向和縱向等距間隔排列，且縱向相鄰的水膜板錯(cuò)位設(shè)置。
[0005]氣體從進(jìn)氣口進(jìn)入沖擊凈化通道，在沖擊板上與水沖擊混合部分粉塵，之后從隔板底部進(jìn)入到噴淋除塵通道內(nèi)，并與水膜板接觸凈化，最終通過出氣口排出，由于水膜板包括相互連接并呈V形設(shè)置的兩個(gè)夾板，因此花灑頭噴水使水膜板發(fā)生溢流，逐漸流到下一級(jí)水膜板上，以形成密集狀水膜，使氣體能與水膜發(fā)生充分接觸，使得凈化效果增強(qiáng)。
[0006]在上述的一種新型水膜除塵脫硫裝置中，所述的噴淋除塵通道頂部設(shè)有板狀分流板，所述的分流板上設(shè)有若干與最上層水膜板對(duì)應(yīng)設(shè)置的分流孔，且分流孔在分流板頂部形成環(huán)形凸臺(tái)，分流板設(shè)在花灑頭底部，且花灑頭與分流孔錯(cuò)位設(shè)置，出氣口設(shè)在分流板底部。
[0007]花灑頭灑水在分流板上，分流板通過凸臺(tái)從分流孔溢流到水膜板上，以使得各水膜板上的水膜更加均勻，以提升凈化效果。
[0008]在上述的一種新型水膜除塵脫硫裝置中，所述的沖擊凈化通道頂部設(shè)有可調(diào)節(jié)緩沖板，緩沖板為豎直設(shè)置并呈橫向排列的若干薄板，薄板頂部通過轉(zhuǎn)軸緊配合鉸接在殼體上，且能旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)軸并改變薄板傾斜角度。
[0009]當(dāng)氣體瞬間較多時(shí)，可以調(diào)節(jié)緩沖板進(jìn)行緩沖氣體，同時(shí)噴頭可以噴淋在緩沖板上以粘附部分氣體雜質(zhì)，而且可以通過旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)軸改變薄板傾斜角度，以調(diào)整氣體流速，而且薄板上能吸附更多雜質(zhì)。
[0010]在上述的一種新型水膜除塵脫硫裝置中，所述的沖擊板包括設(shè)在沖擊凈化通道內(nèi)，并由上到下間隔設(shè)置的若干三角沖擊塊和V形沖擊板，所述的三角沖擊塊與沖擊凈化通道左右兩側(cè)間隙設(shè)置，且V形沖擊板設(shè)在三角沖擊塊底部?jī)蓚?cè)。
[0011]通過將氣體和水一同沖擊到三角沖擊塊上進(jìn)行快速混合接觸，以達(dá)到吸附粉塵的目的。
[0012]在上述的一種新型水膜除塵脫硫裝置中，所述的隔板底部對(duì)應(yīng)的殼體左右兩側(cè)還設(shè)有豎直設(shè)置的擋板，且擋板與隔板底部形成彎折的氣體通道。
[0013]因此能與沉淀池水面形成多次沖擊。
[0014]在上述的一種新型水膜除塵脫硫裝置中，所述的沉淀池上分別設(shè)有水位控制口和排污口。
[0015]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具有如下優(yōu)點(diǎn):
[0016]氣體從進(jìn)氣口進(jìn)入沖擊凈化通道，在沖擊板上與水沖擊混合部分粉塵，之后從隔板底部進(jìn)入到噴淋除塵通道內(nèi)，并與水膜板接觸凈化，最終通過出氣口排出，由于水膜板包括相互連接并呈V形設(shè)置的兩個(gè)夾板，因此花灑頭噴水使水膜板發(fā)生溢流，逐漸流到下一級(jí)水膜板上，以形成密集狀水膜，使氣體能與水膜發(fā)生充分接觸，使得凈化效果增強(qiáng)。
【附圖說明】
[0017]圖1是本除塵脫硫裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]圖中虛線為水膜和沉淀池水位。
[0019]圖中，
[0020]1、殼體；11、進(jìn)氣口 ；12、出氣口 ；13、沉淀池；14、水位控制口 ；15、排污口 ；16、隔板；17、擋板；
[0021]2、沖擊凈化通道；21、噴頭；22、沖擊板；23、三角沖擊塊；24、V形沖擊板；25、緩沖板；26、轉(zhuǎn)軸；
[0022]3、噴淋除塵通道；31、花灑頭；32、水膜板；33、夾板；34、分流板；35、分流孔；36、凸臺(tái)。
【具體實(shí)施方式】
[0023]以下是本實(shí)用新型的具體實(shí)施例并結(jié)合附圖，對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步的描述，但本實(shí)用新型并不限于這些實(shí)施例。
[0024]如圖1所示，本實(shí)用新型一種新型水膜除塵脫硫裝置，包括殼體1，殼體I上設(shè)有的進(jìn)氣口 11和出氣口 12，殼體I底部設(shè)有沉淀池13，殼體I內(nèi)設(shè)有通過隔板16隔開的沖擊凈化通道2和噴淋除塵通道3，沖擊凈化通道2和噴淋除塵通道3通過隔板16底部連通，進(jìn)氣口 11和出氣口 12分別設(shè)在沖擊凈化通道2頂部和噴淋除塵通道3頂部，沖擊凈化通道2內(nèi)設(shè)有沖擊板22，噴淋除塵通道3內(nèi)設(shè)有水膜板32，且沖擊凈化通道2頂部設(shè)有高沖擊噴頭21，噴淋除塵通道3頂部設(shè)有花灑頭31，水膜板32包括相互連接并呈V形設(shè)置的兩個(gè)夾板33，且兩個(gè)夾板33頂部高度相同，底部相互連接，水膜板32在噴淋除塵通道3內(nèi)橫向和縱向等距間隔排列，且縱向相鄰的水膜板32錯(cuò)位設(shè)置。
[0025]進(jìn)一步的，噴淋除塵通道3頂部設(shè)有板狀分流板34，分流板34上設(shè)有若干與最上層水膜板32對(duì)應(yīng)設(shè)置的分流孔35，且分流孔35在分流板34頂部形成環(huán)形凸臺(tái)36，分流板34設(shè)在花灑頭31底部，且花灑頭31與分流孔35錯(cuò)位設(shè)置，出氣口 12設(shè)在分流板34底部。沖擊凈化通道2頂部設(shè)有可調(diào)節(jié)緩沖板25，緩沖板25為豎直設(shè)置并呈橫向排列的若干薄板，薄板頂部通過轉(zhuǎn)軸26緊配合鉸接在殼體I上，且能旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)軸26并改變薄板傾斜角度。沖擊板22包括設(shè)在沖擊凈化通道2內(nèi)，并由上到下間隔設(shè)置的若干三角沖擊塊23和V形沖擊板24，三角沖擊塊23與沖擊凈化通道2左右兩側(cè)間隙設(shè)置，且V形沖擊板24設(shè)在三角沖擊塊23底部?jī)蓚?cè)。隔板16底部對(duì)應(yīng)的殼體I左右兩側(cè)還設(shè)有豎直設(shè)置的擋板17，且擋板17與隔板16底部形成彎折的氣體通道。沉淀池13上分別設(shè)有水位控制口 14和排污口15ο
[0026]氣體從進(jìn)氣口 11進(jìn)入沖擊凈化通道2，在沖擊板22上與水沖擊混合部分粉塵，之后從隔板16底部進(jìn)入到噴淋除塵通道3內(nèi)，并與水膜板32接觸凈化，最終通過出氣口 12排出，由于水膜板32包括相互連接并呈V形設(shè)置的兩個(gè)夾板33，因此花灑頭31噴水使水膜板32發(fā)生溢流，逐漸流到下一級(jí)水膜板32上，以形成密集狀水膜，使氣體能與水膜發(fā)生充分接觸，使得凈化效果增強(qiáng)。
[0027]本文中所描述的具體實(shí)施例僅僅是對(duì)本實(shí)用新型精神作舉例說明。本實(shí)用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)所描述的具體實(shí)施例做各種各樣的修改或補(bǔ)充或采用類似的方式替代，但并不會(huì)偏離本實(shí)用新型的精神或者超越所附權(quán)利要求書所定義的范圍。
[0028]盡管本文較多地使用了殼體1、進(jìn)氣口 11、出氣口 12、沉淀池13、水位控制口 14、排污口 15、隔板16、擋板17、沖擊凈化通道2、噴頭21、沖擊板22、三角沖擊塊23、V形沖擊板24、緩沖板25、轉(zhuǎn)軸26、噴淋除塵通道3、花灑頭31、水膜板32、夾板33、分流板34、分流孔35、凸臺(tái)36等術(shù)語(yǔ)，但并不排除使用其它術(shù)語(yǔ)的可能性。使用這些術(shù)語(yǔ)僅僅是為了更方便地描述和解釋本實(shí)用新型的本質(zhì)；把它們解釋成任何一種附加的限制都是與本實(shí)用新型精神相違背的。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種新型水膜除塵脫硫裝置，包括殼體(I )，所述的殼體(I)上設(shè)有的進(jìn)氣口( 11)和出氣口( 12)，其特征在于:殼體(I)底部設(shè)有沉淀池(13)，殼體(I)內(nèi)設(shè)有通過隔板(16)隔開的沖擊凈化通道(2)和噴淋除塵通道(3)，沖擊凈化通道(2)和噴淋除塵通道(3)通過隔板(16)底部連通，所述的進(jìn)氣口( 11)和出氣口( 12)分別設(shè)在沖擊凈化通道(2)頂部和噴淋除塵通道(3)頂部，沖擊凈化通道(2)內(nèi)設(shè)有沖擊板(22)，噴淋除塵通道(3)內(nèi)設(shè)有水膜板(32)，且沖擊凈化通道(2)頂部設(shè)有高沖擊噴頭(21)，噴淋除塵通道(3)頂部設(shè)有花灑頭(31)，所述的水膜板(32)包括相互連接并呈V形設(shè)置的兩個(gè)夾板(33)，且兩個(gè)夾板(33)頂部高度相同，底部相互連接，水膜板(32)在噴淋除塵通道(3)內(nèi)橫向和縱向等距間隔排列，且縱向相鄰的水膜板(32)錯(cuò)位設(shè)置。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型水膜除塵脫硫裝置，其特征在于:所述的噴淋除塵通道(3)頂部設(shè)有板狀分流板(34)，所述的分流板(34)上設(shè)有若干與最上層水膜板(32)對(duì)應(yīng)設(shè)置的分流孔(35)，且分流孔(35)在分流板(34)頂部形成環(huán)形凸臺(tái)(36)，分流板(34)設(shè)在花灑頭(31)底部，且花灑頭(31)與分流孔(35 )錯(cuò)位設(shè)置，出氣口( 12 )設(shè)在分流板(34)底部。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種新型水膜除塵脫硫裝置，其特征在于:所述的沖擊凈化通道(2)頂部設(shè)有可調(diào)節(jié)緩沖板(25)，緩沖板(25)為豎直設(shè)置并呈橫向排列的若干薄板，薄板頂部通過轉(zhuǎn)軸(26)緊配合鉸接在殼體(I)上，且能旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)軸(26)并改變薄板傾斜角度。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種新型水膜除塵脫硫裝置，其特征在于:所述的沖擊板(22)包括設(shè)在沖擊凈化通道(2)內(nèi)，并由上到下間隔設(shè)置的若干三角沖擊塊(23)和V形沖擊板(24)，所述的三角沖擊塊(23)與沖擊凈化通道(2)左右兩側(cè)間隙設(shè)置，且V形沖擊板(24)設(shè)在三角沖擊塊(23)底部?jī)蓚?cè)。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種新型水膜除塵脫硫裝置，其特征在于:所述的隔板(16)底部對(duì)應(yīng)的殼體(I)左右兩側(cè)還設(shè)有豎直設(shè)置的擋板(17)，且擋板(17)與隔板(16)底部形成彎折的氣體通道。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種新型水膜除塵脫硫裝置，其特征在于:所述的沉淀池(13)上分別設(shè)有水位控制口( 14)和排污口( 15)。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種新型水膜除塵脫硫裝置，屬于除塵設(shè)備領(lǐng)域。它解決了現(xiàn)有除塵脫硫裝置除塵效果不佳的問題。本新型水膜除塵脫硫裝置包括殼體，殼體上設(shè)有的進(jìn)氣口和出氣口，殼體底部設(shè)有沉淀池，殼體內(nèi)設(shè)有通過隔板隔開的沖擊凈化通道和噴淋除塵通道，沖擊凈化通道和噴淋除塵通道通過隔板底部連通，進(jìn)氣口和出氣口分別設(shè)在沖擊凈化通道頂部和噴淋除塵通道頂部，沖擊凈化通道內(nèi)設(shè)有沖擊板，噴淋除塵通道內(nèi)設(shè)有水膜板，且沖擊凈化通道頂部設(shè)有噴頭，噴淋除塵通道頂部設(shè)有花灑頭，水膜板包括相互連接并呈V形設(shè)置的兩個(gè)夾板，水膜板橫向和縱向等距間隔排列，且縱向相鄰的水膜板錯(cuò)位設(shè)置。水膜板發(fā)生溢流，以形成密集狀水膜，使得凈化效果增強(qiáng)。
【IPC分類】B01D47/12
【公開號(hào)】CN204816083
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520466308
【發(fā)明人】梁成
【申請(qǐng)人】梁成
【公開日】2015年12月2日
【申請(qǐng)日】2015年6月30日