化學(xué)合成裝置及化學(xué)合成裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及化學(xué)合成裝置及化學(xué)合成裝置的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有技術(shù)中，存在作為例如在一邊1mm以下的空間內(nèi)進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)的裝置的微反應(yīng)器。作為一種簡(jiǎn)單的裝置，是在板上按T型刻有細(xì)小的槽并蓋著蓋，與管連接的裝置。這種微反應(yīng)器中，為了進(jìn)行高效率的化學(xué)反應(yīng)，例如，如專利文獻(xiàn)1所述，提出了具備加熱合流流路內(nèi)的電熱器的微反應(yīng)器。
[0003]然而，在上述這種的微反應(yīng)器中，由電熱器很難均勻加熱合流流路內(nèi)的流體，并且難以控制合流流路內(nèi)的流體的溫度。因此，存在不能夠充分地提高合流流路內(nèi)的化學(xué)反應(yīng)的效率的問(wèn)題。
[0004]在先技術(shù)文獻(xiàn)
[0005]專利文獻(xiàn)
[0006]專利文獻(xiàn)1:日本專利特開(kāi)2006-346653號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明鑒于上述問(wèn)題點(diǎn)而完成，能夠提供一種容易控制流路內(nèi)的流體的溫度的化學(xué)合成裝置、以及這種化學(xué)合成裝置的制造方法。
[0008]涉及本發(fā)明的一種化學(xué)合成裝置，其特征在于，具備:形成用于多個(gè)流體進(jìn)行化學(xué)合成的第一流路和與上述第一流路不同的第二流路的基板，用于控制在上述第一流路內(nèi)流動(dòng)的流體的溫度的介質(zhì)在上述第二流路內(nèi)流動(dòng)。
[0009]根據(jù)該結(jié)構(gòu)，基板形成有與第一流路不同的第二流路，第二流路內(nèi)流動(dòng)著用于控制在第一流路內(nèi)流動(dòng)的流體的溫度的介質(zhì)。因此，例如，通過(guò)沿著第一流路配置第二流路，能夠通過(guò)介質(zhì)控制第一流路內(nèi)的流體的溫度。因此，根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠容易地控制流路內(nèi)流體的溫度。
[0010]在上述一種化學(xué)合成裝置中優(yōu)選，上述第一流路包括:多個(gè)導(dǎo)入流路部，分別導(dǎo)入上述多個(gè)流體；以及，合成流路部，由于上述多個(gè)流體進(jìn)行合成，上述第二流路包括:第一控制流路部，用于控制在上述合成流路部?jī)?nèi)流動(dòng)的流體的溫度。
[0011]根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠形成可以促進(jìn)第一流路內(nèi)的化學(xué)合成反應(yīng)的構(gòu)造。
[0012]在上述一種化學(xué)合成裝置中，上述第一控制流路部?jī)?yōu)選具有:溫度維持部，將流動(dòng)在上述合成流路部?jī)?nèi)、被化學(xué)合成后的流體的溫度維持在規(guī)定溫度。
[0013]根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠形成即使在第一流路內(nèi)被化學(xué)合成的流體例如為由于溫度降低而分解的流體，通過(guò)維持在規(guī)定溫度，也可以抑制化學(xué)合成的流體分解的構(gòu)造。
[0014]在上述一種化學(xué)合成裝置中，上述第二流路優(yōu)選包括:第二控制流路部，用于控制流動(dòng)在上述導(dǎo)入流路部?jī)?nèi)的流體的溫度。
[0015]根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠形成可以將流入合成流路部的流體的溫度調(diào)節(jié)為適合化學(xué)合成反應(yīng)的溫度的構(gòu)造。
[0016]在上述一種化學(xué)合成裝置中，上述第二流路的寬度優(yōu)選比上述第一流路的寬度大。
[0017]根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠形成即使流體從第一流路漏出，通過(guò)第二流路也容易回收漏出的流體的構(gòu)造。
[0018]上述介質(zhì)優(yōu)選相對(duì)于流動(dòng)在上述第一流路內(nèi)的流體不活潑。
[0019]根據(jù)該結(jié)構(gòu)，例如，即使流體從第一流路內(nèi)漏出并與介質(zhì)接觸時(shí)，也可以抑制第一流路內(nèi)的流體與介質(zhì)反應(yīng)的構(gòu)造。
[0020]上述第二流路優(yōu)選為沿著上述第一流路的至少一部分而設(shè)置。
[0021]根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠形成通過(guò)第二流路容易地控制第一流路內(nèi)的流體的溫度的構(gòu)造。
[0022]涉及本發(fā)明的一種化學(xué)合成裝置的制造方法，是具有用于多個(gè)流體進(jìn)行化學(xué)合成的第一流路的化學(xué)合成裝置的制造方法，其特征在于，具有在基板上形成側(cè)壁層的工序，在上述側(cè)壁層設(shè)有第一貫通孔和第二貫通孔，上述第一貫通孔形成上述第一流路的一部分，上述第二貫通孔形成與上述第一流路不同的第二流路的一部分，用于控制在上述第一流路內(nèi)流動(dòng)的流體的溫度的介質(zhì)在上述第二流路內(nèi)流動(dòng)。
[0023]根據(jù)該方法，能夠制造容易控制流路內(nèi)流體的溫度的化學(xué)合成裝置。
【附圖說(shuō)明】
[0024]圖1是示出第一實(shí)施方式的化學(xué)合成裝置的俯視圖。
[0025]圖2是示出第一實(shí)施方式的化學(xué)合成裝置的圖、是圖1中的I1-1I剖視圖。
[0026]圖3是示出第一實(shí)施方式的化學(xué)合成裝置的圖、圖1中的II1-1II剖視圖。
[0027]圖4是示出第一實(shí)施方式的化學(xué)合成裝置的制造方法的步驟的流程圖。
[0028]圖5的㈧?圖5的⑶是示出第一實(shí)施方式的化學(xué)合成裝置的制造方法的步驟的剖視圖。
[0029]圖6是示出第二實(shí)施方式的化學(xué)合成裝置的俯視圖。
[0030]圖7是示出變形例1的化學(xué)合成裝置的俯視圖。
[0031]圖8的(a)和圖8的(b)是圖7中的IV-1V剖視圖。
[0032]圖9是示出變形例2的化學(xué)合成裝置的俯視圖。
[0033]符號(hào)說(shuō)明
[0034]10、110化學(xué)合成裝置;11、111基板;13側(cè)壁層;23合成流路部;50a、51a、52b、153a控制流路部；15流路用貫通孔(第一貫通孔)；16a、16b流路用貫通孔(第二貫通孔)；20、120合成用流路(第一流路)；21第一導(dǎo)入流路部(導(dǎo)入流路部)；22第二導(dǎo)入流路部(導(dǎo)入流路部);40a、40b、41a、41b、42a、42b、142a、142b、143a、143b、144a、144b、145a、145b溫度控制用流路(第二流路)；50a、50b、51a、51b、154a、154b控制流路部(第二控制流路部)；52a、52b、152a、152b、155a、155b控制流路部(第一控制流路部);153a、153b控制流路部(第一控制流路部、溫度維持部)；123第一合成流路部(合成流路部)；124第三導(dǎo)入流路部(導(dǎo)入流路部)；125第二合成流路部(合成流路部)；C1溫度控制介質(zhì)(介質(zhì))；Dla、Dlb、D2a、D2b、D2d試劑(流體);Dlc、D2e生成物(流體)；D2c中間生成物(流體)；ffl寬度(第一流路的寬度);W2、W3寬度(第二流路的寬度);1052a、1052b、1053a、1053b溫度控制流路部；1060a介質(zhì)注入裝置；1060b、1101a、1101b、1102介質(zhì)取出裝置。
【具體實(shí)施方式】
[0035]下面，參考附圖對(duì)涉及本發(fā)明的實(shí)施方式的化學(xué)合成裝置進(jìn)行說(shuō)明。另外，本發(fā)明的范圍不限定于以下的實(shí)施方式，在本發(fā)明的技術(shù)思想的范圍內(nèi)可以進(jìn)行任意變形。另外，在下面的附圖中，為了容易理解各結(jié)構(gòu)，存在實(shí)際的構(gòu)造與各構(gòu)造的比例或數(shù)量等不同的情況。
[0036]另外，在本說(shuō)明書中，“上游側(cè)”及“下游側(cè)”是相對(duì)于流路內(nèi)的流動(dòng)而言的。
[0037]另外，在本說(shuō)明書中，“流動(dòng)方向”的意思是流路內(nèi)主要流動(dòng)的方向。
[0038]第一實(shí)施方式
[0039]化學(xué)合成裝置
[0040]圖1至圖3是示出本實(shí)施方式的化學(xué)合成裝置10的圖。圖1是俯視圖。圖2是圖1中的I1-1I剖視圖。圖3是圖1中的II1-1II剖視圖。
[0041]另外，在下面的說(shuō)明中設(shè)定XYZ坐標(biāo)系，參考該XYZ坐標(biāo)系并對(duì)各結(jié)構(gòu)的位置關(guān)系進(jìn)行說(shuō)明。此時(shí)，將基板11(參考圖1)的法線方向設(shè)為Z軸方向，將基板11的寬度方向、gp、圖1中上下方向設(shè)為Y軸方向，將基板11的長(zhǎng)度方向、即、圖1中左右方向設(shè)為X軸方向。
[0042]本實(shí)施方式的化學(xué)合成裝置10，如圖1所示，具備:基板11、試劑注入裝置30、試劑注入裝置31、生成物取出裝置32、多個(gè)介質(zhì)注入裝置60a、以及多個(gè)介質(zhì)取出裝置60b。
[0043]基板
[0044]基板11的形狀不特別限定，例如，在本實(shí)施方式中，俯視觀察(XY面觀察)中為矩形。在基板11的內(nèi)部，如圖1及圖2所示，形成有合成用流路(第一流路)20、溫度控制用流路(第二流路)40a、溫度控制用流路(第二流路)40b、溫度控制用流路(第二流路)41a、溫度控制用流路(第二流路)41b、溫度控制用流路(第二流路)42a、以及溫度控制用流路(第二流路)42b。換言之，在基板11形成有合成用流路20、以及與合成用流路20不同的溫度控制用流路40a?42b。關(guān)于合成用流路20及溫度控制用流路40a?42b，在后面段落進(jìn)行詳細(xì)地描述。
[0045]如圖2所示，第一基板12、側(cè)壁層13、第一保護(hù)膜70、第二保護(hù)膜71、第二基板14以該順序?qū)盈B而構(gòu)成基板11。
[0046]第一基板12例如是玻璃基板。第一基板12的合成用流路20側(cè)(+Z側(cè))的上表面12a設(shè)有側(cè)壁層13。
[0047]如圖3所示，在側(cè)壁層13