本發(fā)明涉及機(jī)械設(shè)備自動化領(lǐng)域,具體地,涉及一種電磁式實(shí)驗(yàn)室試管自動搖勻裝置。
背景技術(shù):
在實(shí)驗(yàn)室試驗(yàn)中,一個(gè)試驗(yàn)結(jié)論的得出需要做大量的實(shí)驗(yàn),并且不同的試驗(yàn)對試管的搖勻時(shí)間、速度都有要求,從而試管搖勻成為了一項(xiàng)繁重的工作。這些工作增加了實(shí)驗(yàn)人員的工作量,批量試管搖勻耗時(shí)耗力,因此急需一種電磁式實(shí)驗(yàn)室試管自動搖勻裝置來解決這一技術(shù)難題,而市場上能實(shí)現(xiàn)實(shí)驗(yàn)室試管自動搖勻的裝置并不是很多。
為了滿足實(shí)驗(yàn)室工作的要求,本發(fā)明提供了一種具有電磁裝置使試管自動搖勻裝置,該裝置一次性搖勻試管數(shù)量多,并且試管擺動速度和角度可以隨時(shí)控制,以滿足不同的試驗(yàn)要求。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本專利提供了一種電磁式實(shí)驗(yàn)室試管自動搖勻裝置,本發(fā)明機(jī)械結(jié)構(gòu)簡單,大大降低了勞動強(qiáng)度,省時(shí)省力,效率高,解決了批量實(shí)驗(yàn)室試管搖勻的技術(shù)難題。
本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采取的技術(shù)方案是:
一種電磁式實(shí)驗(yàn)室試管自動搖勻裝置,是由試驗(yàn)平臺、前部電流控制器、后部電流控制器、后部電磁鐵、試管、試管擺動支架、安裝t型孔和前部電磁鐵組成的,所述試管擺動支架包括上部擋圈、擺動轉(zhuǎn)軸、圓盤卡扣、后部小鐵塊、前部小鐵塊、圓弧擋板、光電管和底托,其特征是:所述前部電流控制器安裝在試驗(yàn)平臺上,與前部電磁鐵連接,所述后部電流控制器安裝在試驗(yàn)平臺上,與后部電磁鐵連接,所述試管擺動支架通過安裝t型孔安裝到試驗(yàn)平臺上,所述試管存放于試管擺動支架中,所述前部電磁鐵安裝在試驗(yàn)平臺內(nèi)側(cè),正對試管擺動支架前部,所述后部電磁鐵安裝在試驗(yàn)平臺內(nèi)側(cè),正對試管擺動支架后部,所述上部擋圈連接擺動轉(zhuǎn)軸,擺動轉(zhuǎn)軸末端連接圓盤卡扣,所述圓弧擋板前后對稱設(shè)置,圓弧角度為90度,所述前部小鐵塊安裝在圓弧擋板前部,所述后部小鐵塊安裝在圓弧擋板后部,所述光電管安裝在底托內(nèi)表面,所述底托與圓弧擋板下端面連接。
優(yōu)選地,所述試管擺動支架左右各留有90度的的缺口,試管擺動支架并排放置。
優(yōu)選地,前部電磁鐵正對前部小鐵塊,所述后部電磁鐵正對后部小鐵塊。
具體地,所述上部擋圈和圓弧擋板內(nèi)表面都附有5mm的軟硅膠材料。
本發(fā)明的有益效果是:
本發(fā)明的一種電磁式實(shí)驗(yàn)室試管自動搖勻裝置能夠?qū)崿F(xiàn)大批量實(shí)驗(yàn)室試管的自動搖勻。首先試驗(yàn)平臺內(nèi)部可以同時(shí)并排放置7個(gè)試管擺動支架,將需要搖勻的試管放置于試管擺動支架中,試管擺動支架的底托的光電管檢測到有無試管,將信息傳遞給前部電流控制器和后部電流控制器;檢測到有試管后,前部電流控制器和后部電流控制器交替通電,前部電流控制器控制前部電磁鐵的通斷電,通電立即產(chǎn)生磁力,會吸引前部小鐵塊,試管擺動支架從而往前擺動,后部電流控制器控制后部電磁鐵的通斷電,通電立即產(chǎn)生磁力,會吸引后部小鐵塊,試管擺動支架從而往后擺動;搖勻的速度和擺動的角度可以由前部電流控制器和后部電流控制器通電電流大小控制,從而實(shí)現(xiàn)批量實(shí)驗(yàn)室試管的搖勻作業(yè)。本發(fā)明機(jī)械結(jié)構(gòu)簡單,大大降低了勞動強(qiáng)度,省時(shí)省力,效率高,解決了大批量實(shí)驗(yàn)室試管搖勻費(fèi)時(shí)費(fèi)力的難題。
本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的具體實(shí)施方式部分予以詳細(xì)說明。
附圖說明
下列附圖用來提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解,并且構(gòu)成說明書的一部分,其與下述的具體實(shí)施方式一起用于解釋本發(fā)明,但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于下述附圖及具體實(shí)施方式。在附圖中:
圖1為本發(fā)明的整體結(jié)構(gòu)等軸測圖;
圖2為本發(fā)明的整體結(jié)構(gòu)的俯視圖;
圖3為本發(fā)明的試管擺動支架的三維結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中:1試驗(yàn)平臺,2前部電流控制器,3后部電流控制器,4后部電磁鐵,5試管,6試管擺動支架,601上部擋圈,602擺動轉(zhuǎn)軸,603圓盤卡扣,604后部小鐵塊,605前部小鐵塊,606圓弧擋板,607光電管,608底托,7安裝t型孔,8前部電磁鐵。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明,應(yīng)當(dāng)理解的是,此處所描述的具體實(shí)施方式僅用于說明和解釋本發(fā)明,本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于下述的具體實(shí)施方式。
參見圖1至圖3所示,一種電磁式實(shí)驗(yàn)室試管自動搖勻裝置,是由試驗(yàn)平臺1、前部電流控制器2、后部電流控制器3、后部電磁鐵4、試管5、試管擺動支架6、安裝t型孔7和前部電磁鐵8組成的,所述試管擺動支架6包括上部擋圈601、擺動轉(zhuǎn)軸602、圓盤卡扣603、后部小鐵塊604、前部小鐵塊605、圓弧擋板606、光電管607和底托608,其特征是:所述前部電流控制器2安裝在試驗(yàn)平臺1上,與前部電磁鐵8連接,所述后部電流控制器3安裝在試驗(yàn)平臺1上,與后部電磁鐵4連接,所述試管擺動支架6通過安裝t型孔7安裝到試驗(yàn)平臺1上,所述試管5存放于試管擺動支架6中,所述前部電磁鐵8安裝在試驗(yàn)平臺1內(nèi)側(cè),正對試管擺動支架6前部,所述后部電磁鐵4安裝在試驗(yàn)平臺1內(nèi)側(cè),正對試管擺動支架6后部,所述上部擋圈601連接擺動轉(zhuǎn)軸602,擺動轉(zhuǎn)軸602末端連接圓盤卡扣603,所述圓弧擋板606前后對稱設(shè)置,圓弧角度為90度,所述前部小鐵塊605安裝在圓弧擋板606前部,所述后部小鐵塊604安裝在圓弧擋板606后部,所述光電管607安裝在底托608內(nèi)表面,所述底托608與圓弧擋板606下端面連接。
參見圖3所示,優(yōu)選地,所述試管擺動支架6左右各留有90度的的缺口,試管擺動支架6并排放置。
優(yōu)選地,前部電磁鐵8正對前部小鐵塊605,所述后部電磁鐵4正對后部小鐵塊604。
具體地,所述上部擋圈601和圓弧擋板606內(nèi)表面都附有5mm的軟硅膠材料。
為了幫助理解本發(fā)明的上述基本實(shí)施方式,參照圖1至圖3進(jìn)行示例性說明,例如:首先試驗(yàn)平臺1內(nèi)部可以同時(shí)并排放置7個(gè)試管擺動支架6,將需要搖勻的試管5放置于試管擺動支架6中,試管擺動支架6的底托608的光電管607檢測到有無試管5,將信息傳遞給前部電流控制器2和后部電流控制器3;檢測到有試管5后,前部電流控制器2和后部電流控制器3交替通電,前部電流控制器2控制前部電磁鐵8的通斷電,通電立即產(chǎn)生磁力,會吸引前部小鐵塊605,試管擺動支架6從而往前擺動,后部電流控制器3控制后部電磁鐵4的通斷電,通電立即產(chǎn)生磁力,會吸引后部小鐵塊604,試管擺動支架6從而往后擺動;搖勻的速度和擺動的角度可以由前部電流控制器2和后部電流控制器3通電電流大小控制,從而實(shí)現(xiàn)批量實(shí)驗(yàn)室試管的搖勻作業(yè)。
工作步驟如下:
第一步,裝置上電復(fù)位,前部電流控制器2和后部電流控制器3斷電,試管擺動支架6處于豎直狀態(tài);
第二步,將需要搖勻的試管5放置于試管擺動支架6中,試管擺動支架6的底托608的光電管607檢測到有無試管5,將信息傳遞給前部電流控制器2和后部電流控制器3;
第三步,檢測到有試管5后,前部電流控制器2和后部電流控制器3交替通電,前部電流控制器2控制前部電磁鐵8的通斷電,通電立即產(chǎn)生磁力,會吸引前部小鐵塊605,試管擺動支架6從而往前擺動,后部電流控制器3控制后部電磁鐵4的通斷電,通電立即產(chǎn)生磁力,會吸引后部小鐵塊604,試管擺動支架6從而往后擺動;
第四步,當(dāng)試管擺動支架6中的試管搖勻結(jié)束,提醒工作人員繼續(xù)添加試管,進(jìn)行下一批試管的搖勻作業(yè),重新進(jìn)行上面三步。
以上結(jié)合附圖詳細(xì)描述了本發(fā)明的具體實(shí)施方式,需要說明的是,在上述具體實(shí)施方式中所描述的各個(gè)具體技術(shù)特征,在不矛盾的情況下,可以通過任何合適的方式進(jìn)行組合,為了避免不必要的重復(fù),本發(fā)明對各種可能的組合方式不再另行說明。但是,本發(fā)明并不限于上述實(shí)施方式中的具體細(xì)節(jié),對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言,根據(jù)本發(fā)明的教導(dǎo),在不脫離本發(fā)明的原理與精神的情況下,對實(shí)施方式所進(jìn)行的改變、修改、替換和變型仍落入本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。