本發(fā)明涉及一種用于廢水處理的沉淀裝置，屬于廢水處理領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

常規(guī)沉淀設(shè)施如沉淀水箱、沉淀水池為保證一定的沉淀效率，就需要沉淀水箱/沉淀水池有足夠大的容積，以便使水中細(xì)小的顆粒充分沉淀，因此，現(xiàn)有技術(shù)中的沉淀水箱/沉淀水池均存在占地大、投資大的缺陷。如圖1-圖2所示，現(xiàn)有技術(shù)中的沉淀水箱/沉淀水池其含塵水是從一個(gè)點(diǎn)流入，含塵水在水箱/水池中的流經(jīng)區(qū)域不能分布到整個(gè)水箱平面，在進(jìn)入水箱的起始階段，含塵水的流動(dòng)斷面積較小，流速較快，不利于塵粒的沉淀析出，其沉淀效率較低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種新的用于廢水處理的沉淀裝置，其能更好的提高沉淀效率，同時(shí)縮小沉淀設(shè)施的容積。

本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：一種用于廢水處理的沉淀裝置，包括帶有進(jìn)水口和出水口的沉淀水箱，沉淀水箱的上部為多面體結(jié)構(gòu)，沉淀水箱的下部為錐形體結(jié)構(gòu)，所述沉淀水箱的進(jìn)水口和出水口相對(duì)設(shè)置并且所述出水口的高度高于所述進(jìn)水口的高度，其特征是：所述進(jìn)水口為條形狀，其沿沉淀水箱側(cè)壁橫向設(shè)置，在所述沉淀水箱外部設(shè)有入口均流裝置與所述進(jìn)水口連接，所述入口均流裝置包括入口管段、連接在入口管段下端的斷面面積逐漸擴(kuò)大的擴(kuò)展段，所述擴(kuò)展段的下端口通過(guò)與其對(duì)應(yīng)連接的彎頭與沉淀水箱的進(jìn)水口連接，所述沉淀水箱內(nèi)在所述進(jìn)水口的上方設(shè)置有可將進(jìn)水水流向沉淀水箱的下部導(dǎo)引的入口導(dǎo)流板，所述沉淀水箱內(nèi)部從進(jìn)水口到出水口的沿程間隔設(shè)有多塊傾斜設(shè)置的沿程導(dǎo)流板，所述沿程導(dǎo)流板的下部設(shè)有多個(gè)導(dǎo)料槽，相鄰的兩個(gè)導(dǎo)料槽之間形成為水流通過(guò)的空間。

本發(fā)明中，在水箱的進(jìn)水口位置設(shè)置入口均流裝置，該入口均流裝置把來(lái)水管道經(jīng)過(guò)改變斷面形狀，使出口斷面積增加，從而使得進(jìn)入沉淀水箱的水的流動(dòng)斷面積增大，降低了來(lái)水進(jìn)入沉淀水箱的流速，有利于來(lái)水中的塵粒的沉淀析出。相比常規(guī)的沉淀水箱的流動(dòng)狀況，本發(fā)明中的入口均流裝置使含塵水以較低的流速進(jìn)入水箱，且使含塵水在水箱中的流經(jīng)區(qū)域能分布到整個(gè)水箱平面，為塵粒的沉降奠定了基礎(chǔ)。本發(fā)明通過(guò)設(shè)置入口導(dǎo)流板可以把含塵水引到水箱下部，水箱下部是相對(duì)靜止區(qū)域，大顆粒的塵粒在慣性作用下直接沉淀到水箱底部，而其他塵粒則被水流帶著流向出水口。本發(fā)明中所設(shè)置的沿程導(dǎo)流板，由于其設(shè)置在進(jìn)水口至出水口的沿程，從入口導(dǎo)流板進(jìn)入沉淀水箱的水由于沿程導(dǎo)流板的阻擋，分為兩個(gè)分支：一支向上，從沿程導(dǎo)流板的上面流向出水口，另一支在沿程導(dǎo)流板的下面流向出水口。分流后，每一支都有較大的流通斷面，而流量只有沒(méi)有分流時(shí)的一半。因此，其流速要遠(yuǎn)小于沒(méi)有分流的流速，更有利于塵粒的沉淀。在每個(gè)沿程導(dǎo)流板的下面和上面都有一個(gè)流速較低或相對(duì)靜止的區(qū)域。含塵水在流動(dòng)過(guò)程中其中的塵粒不斷沉降，從水流中分出，其中，向上的水流在流動(dòng)過(guò)程中部分塵粒會(huì)進(jìn)入沿程導(dǎo)流板下面的相對(duì)靜止的區(qū)域，在這個(gè)區(qū)域，塵粒不受水流的影響，可垂直沉降到沿程導(dǎo)流板下面的水流中，其余仍沒(méi)有沉淀的塵粒，在流動(dòng)過(guò)程中會(huì)沉降到沿程導(dǎo)流板上面相對(duì)靜止的區(qū)域，在這個(gè)區(qū)域，塵粒也幾乎不受水流的影響，可垂直沉降到沿程導(dǎo)流板下部的導(dǎo)料槽里，并通過(guò)導(dǎo)料槽進(jìn)入沉淀水箱的靜水區(qū)，最終沉降到沉淀水箱的底部。同理，沿程導(dǎo)流板下部的水流速度也遠(yuǎn)小于沒(méi)有分流的流速。沿程導(dǎo)流板下部的水流經(jīng)過(guò)導(dǎo)料槽之間的空間流向出水口，這部分水流中的塵粒在流動(dòng)過(guò)程中不斷沉降，脫離水流，直接進(jìn)入到靜水區(qū)，就可沉降到沉淀水箱的底部。流速的降低使得塵粒在較短的流程中就可以從水中分離出來(lái)，也即在同樣的沉淀效率下，可縮短沉淀水箱的長(zhǎng)度尺寸。

進(jìn)一步的，為了使進(jìn)入沉淀水箱的水流量均勻，所述入口均流裝置的擴(kuò)展段內(nèi)設(shè)置有若干塊均流導(dǎo)板將所述擴(kuò)展段內(nèi)的空間分隔為多個(gè)水流通道。

進(jìn)一步的，所述擴(kuò)展段為梯形狀。

進(jìn)一步的，所述沿程導(dǎo)流板與水平面的夾角優(yōu)選為40°～60°。該角度太小則不利于積塵的排落，太大則凈水區(qū)域會(huì)變小。

進(jìn)一步的，為便于將沉降在沿程導(dǎo)流板上的塵粒導(dǎo)走，所述導(dǎo)料槽呈Y狀，其大口端與沿程導(dǎo)流板的板體連接。優(yōu)選的是，所述導(dǎo)料槽與沿程導(dǎo)流板的板體一體制出。

進(jìn)一步的，所述沿程導(dǎo)流板的導(dǎo)料槽的下端延伸至水箱下部流速較低的區(qū)域，使導(dǎo)流板上面的積塵排落不受水流的影響，直接沉降到水箱底部。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明通過(guò)設(shè)置特殊設(shè)計(jì)的入口均流裝置使得進(jìn)入沉淀水箱的水流流速降低，且使含塵水在沉淀水箱中的流經(jīng)區(qū)域能分布到整個(gè)水箱平面，能夠有效提高沉淀效率；本發(fā)明通過(guò)設(shè)置入口導(dǎo)流板和在沉淀水箱內(nèi)設(shè)置沿程導(dǎo)流板，使得含塵水首先被導(dǎo)流到沉淀水箱的下部，大粒徑塵粒直接沉降。設(shè)置沿程導(dǎo)流板可把水分流，因上下流通斷面足夠大，每一水流的流量減半，流速必然大減，使塵粒在較短的流程、較短的時(shí)間就可以從水中分離出來(lái)。水箱中，上部水流沿途經(jīng)過(guò)多個(gè)沿程導(dǎo)流板造成的靜水區(qū)，在靜水區(qū)沉淀的塵?？芍苯映恋淼降撞?，而不受水流的影響，而下部水流中的塵粒更是可直接沉淀到沉淀水箱下部的靜水區(qū)，因此，在同樣的沉淀空間里，本發(fā)明的沉淀效率要遠(yuǎn)高于常規(guī)沉淀設(shè)施的沉淀效率。并且，由于本發(fā)明較高的沉淀效率，在同樣的處理能力下也相對(duì)可以減小沉淀水箱的容積，大大降低設(shè)備投資。

附圖說(shuō)明

圖1是現(xiàn)有技術(shù)中的沉淀水箱的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是圖1的俯視示意圖；

圖3是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是圖3的俯視示意圖；

圖5是圖3的左視示意圖；

圖6是本發(fā)明中的入口均流裝置的主視圖；

圖7是圖6的左視圖；

圖8是圖6的俯視圖；

圖9是本發(fā)明中的沿程導(dǎo)流板的立體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖中1、沉淀水箱，2、入口均流裝置，3、入口導(dǎo)流板，4、沿程導(dǎo)流板，5、出水口，6、塵粒排出口，7、進(jìn)水口，8、彎頭，9、入口管段，10、擴(kuò)展段，11、沿程導(dǎo)流板的板體，12、導(dǎo)料槽，13、擋板，14、均流導(dǎo)板。

具體實(shí)施方式

下面通過(guò)具體實(shí)施例并結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說(shuō)明：

如附圖3-圖9所示，一種用于廢水處理的沉淀裝置，包括帶有進(jìn)水口7和出水口5的沉淀水箱1，沉淀水箱1的上部為長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)，沉淀水箱1的下部為錐形體結(jié)構(gòu)，沉淀水箱1的進(jìn)水口7和出水口5相對(duì)設(shè)置并且所述出水口5的高度高于所述進(jìn)水口7的高度。其中，所述進(jìn)水口7為條形狀，其沿沉淀水箱1側(cè)壁橫向設(shè)置，基本貫穿該側(cè)壁的橫向長(zhǎng)度。在沉淀水箱1外部設(shè)有入口均流裝置2，所述入口均流裝置2包括入口管段9、連接在入口管段9下端的斷面面積逐漸擴(kuò)大的擴(kuò)展段10，所述擴(kuò)展段10的下端口通過(guò)與其對(duì)應(yīng)連接的彎頭8與沉淀水箱1的進(jìn)水口7連接。本實(shí)施例中，為了使進(jìn)入沉淀水箱的水流量均勻，所述入口均流裝置2的擴(kuò)展段10內(nèi)設(shè)置有若干塊均流導(dǎo)板14將所述擴(kuò)展段10內(nèi)的空間分隔為多個(gè)水流通道。所述沉淀水箱1內(nèi)在所述進(jìn)水口7的上方設(shè)置有可將進(jìn)水水流向沉淀水箱1的下部導(dǎo)引的入口導(dǎo)流板3，入口導(dǎo)流板3為平板結(jié)構(gòu)。所述沉淀水箱1內(nèi)部從進(jìn)水口7到出水口5的沿程間隔設(shè)有多塊傾斜設(shè)置的沿程導(dǎo)流板4，所述沿程導(dǎo)流板4的下部設(shè)有多個(gè)導(dǎo)料槽12，本實(shí)施例中，導(dǎo)料槽12呈Y狀，其大口端與沿程導(dǎo)流板4的板體11連接，導(dǎo)料槽12是由設(shè)置在導(dǎo)料槽兩側(cè)的擋板13形成，優(yōu)選導(dǎo)料槽12與沿程導(dǎo)流板4的板體11一體制出。相鄰的兩個(gè)導(dǎo)料槽12之間形成為水流通過(guò)的空間。

本實(shí)施例中的入口均流裝置的擴(kuò)展段優(yōu)選為梯形狀。沿程導(dǎo)流板4與水平面的夾角優(yōu)選為40°～60°，角度太小不利于積塵的排落，太大則凈水區(qū)域會(huì)變小。本發(fā)明中，為了使沿程導(dǎo)流板上面的積塵排落不受水流的影響，直接沉降到水箱底部，所述沿程導(dǎo)流板4的導(dǎo)料槽12下端最好延伸至水箱下部水流流速較低的區(qū)域，或延伸至下部的靜水區(qū)。

本實(shí)施例中的沉淀水箱1的上部采用的是長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)，實(shí)際上，沉淀水箱1的上部結(jié)構(gòu)并不局限于長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)，也可以是其他的多面體結(jié)構(gòu)，例如：截面是五邊形、六邊形、八邊形等結(jié)構(gòu)。

本發(fā)明的工作原理是：如圖3所示，含塵水經(jīng)入口均流裝置2后以較低的流速由沉淀水箱1的進(jìn)水口7進(jìn)入水箱內(nèi)，并分布到整個(gè)水箱平面。進(jìn)入沉淀水箱內(nèi)的含塵水在入口導(dǎo)流板3的作用下被導(dǎo)引向沉淀水箱1的下部，沉淀水箱1的下部是相對(duì)靜止區(qū)域，大顆粒的塵粒在慣性作用下直接沉淀到水箱的底部，其他塵粒則被水流帶著流向出水口。由于從進(jìn)水口7至出水口5的沿程設(shè)置了多個(gè)傾斜設(shè)置的沿程導(dǎo)流板4，在每個(gè)沿程導(dǎo)流板4的下面和上面都有一個(gè)流速較低或相對(duì)靜止的區(qū)域，如圖3中的陰影所示。從入口導(dǎo)流板3進(jìn)入沉淀水箱的水由于沿程導(dǎo)流板4的阻擋，分為兩個(gè)分支：一支向上，從沿程導(dǎo)流板4的上面流向出水口5，另一支在沿程導(dǎo)流板4的下面流向出水口5。分流后，每一支的流速要小于沒(méi)有分流的流速，更有利于塵粒的沉淀。其中，向上的水流在從進(jìn)水口到第一塊沿程導(dǎo)流板4上部的過(guò)程中(即從進(jìn)水口至圖3中a點(diǎn)的過(guò)程中)，部分塵粒不斷沉降，從水流中分出，進(jìn)入沿程導(dǎo)流板下面的相對(duì)靜止的區(qū)域。在該區(qū)域，塵粒不受水流的影響，可垂直沉降到沿程導(dǎo)流板下面的水流中，而其余仍沒(méi)有沉淀的塵粒，在從a點(diǎn)到b點(diǎn)的過(guò)程中會(huì)沉降到沿程導(dǎo)流板上面的相對(duì)靜止的區(qū)域，在該區(qū)域，塵粒也幾乎不受水流的影響，可垂直沉降到沿程導(dǎo)流板下部的導(dǎo)料槽12里，由于導(dǎo)料槽4一直延伸的沉淀水箱下部的靜水區(qū)，因此沉降在導(dǎo)料槽12內(nèi)的塵?？芍苯映恋淼匠恋硭?的底部。向上的水流經(jīng)過(guò)第一個(gè)沿程導(dǎo)流板4后仍沒(méi)有沉淀的粉塵會(huì)與從a’點(diǎn)向上流動(dòng)的水流匯合，從第二個(gè)沿程導(dǎo)流板上沿的b點(diǎn)處流向出水口。此后，向上的水流在依次經(jīng)過(guò)其余的沿程導(dǎo)流板時(shí)的水流狀態(tài)及塵粒沉降過(guò)程與水流從a點(diǎn)流向出水口的過(guò)程相同。而另一支從沿程導(dǎo)流板下面流過(guò)的水流經(jīng)過(guò)導(dǎo)料槽12之間的空間流向出水口，這部分水流中的塵粒在流動(dòng)過(guò)程中不斷沉降，脫離水流，直接進(jìn)入到水箱的靜水區(qū)，就可沉降到水箱底部。

上述雖然結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式進(jìn)行了描述，但并非對(duì)本發(fā)明保護(hù)范圍的限制，所屬領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該明白，在本發(fā)明的技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，本領(lǐng)域技術(shù)人員不需要付出創(chuàng)造性勞動(dòng)即可做出的各種修改或變形仍在本發(fā)明的保護(hù)范圍以內(nèi)。

本實(shí)施例中的其它部分采用已知技術(shù)，在此不再贅述。